一種流動(dòng)式電鍍池的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種電鍍行業(yè)的處理設(shè)備，特別涉及一種流動(dòng)式電鍍池。
【背景技術(shù)】
[0002]在靜止電鍍液中連續(xù)電鍍工藝使用的設(shè)備一般由電鍍槽、電極及導(dǎo)輪組成。連續(xù)傳動(dòng)的被電鍍產(chǎn)品通過(guò)浸在電鍍液中的導(dǎo)輪完成電鍍，這樣的電鍍液不能流動(dòng)，因此容易產(chǎn)生濃差極化而不能得到均勻的鍍層，且被電鍍產(chǎn)品表面不能與新的電鍍液接觸，金離子不能不斷的供向被電鍍產(chǎn)品表面，進(jìn)而印象鍍層的均勻性，進(jìn)而不利于提高電鍍的效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)上存在的不足，本實(shí)用新型提供一種使得電鍍液流動(dòng)且能夠得到均勻鍍層、提高電鍍效率的流動(dòng)式電鍍池。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型是通過(guò)如下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種流動(dòng)式電鍍池，包括電鍍槽、設(shè)在電鍍槽上方且與電鍍槽相連的電鍍臺(tái)、設(shè)于電鍍臺(tái)上方且與電鍍臺(tái)相連的上桶、設(shè)在電鍍臺(tái)里的陽(yáng)極、與上桶相連且設(shè)于上桶下方的下桶及設(shè)于上桶與下桶之間的水泵，所述下桶及水泵設(shè)于電鍍槽的下方，所述電鍍槽的底部與下桶相連，所述電鍍槽與電鍍臺(tái)里均裝設(shè)有電鍍液，所述上桶與電鍍臺(tái)之間設(shè)有進(jìn)水閥且所述電鍍臺(tái)與電鍍槽之間設(shè)有出水閥，所述進(jìn)水閥與出水閥至多其中之一處于打開(kāi)狀態(tài)。
[0005]進(jìn)一步的是:當(dāng)需要向所述電鍍臺(tái)里注入電鍍液時(shí)，打開(kāi)進(jìn)水閥且同時(shí)關(guān)閉出水閥。
[0006]進(jìn)一步的是:當(dāng)需要將電鍍臺(tái)里的電鍍液排除時(shí)，打開(kāi)出水閥且同時(shí)關(guān)閉進(jìn)水閥。
[0007]進(jìn)一步的是:同時(shí)打開(kāi)所述進(jìn)水閥與出水閥時(shí)，所述進(jìn)水閥的注入流量與出水閥的排出流量相等。
[0008]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型一種流動(dòng)式電鍍池至少存在以下優(yōu)點(diǎn):所述電鍍臺(tái)上設(shè)有陽(yáng)極，可對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行電鍍，電鍍臺(tái)與電鍍槽相連，電鍍臺(tái)在電鍍過(guò)程中或電鍍之后排出的廢液排放到電鍍槽中，且電鍍槽中的廢液，又通過(guò)水泵抽到位于電鍍臺(tái)上方的上桶內(nèi)，上桶與電鍍臺(tái)之間存在高度差，在需要注入電鍍液時(shí)，在打開(kāi)進(jìn)水閥的同時(shí)關(guān)閉出水閥，此時(shí)水泵不工作，可以使得位于上桶內(nèi)的電鍍液在重力的作用下，注入到電鍍臺(tái)內(nèi)，不會(huì)影響電鍍操作且節(jié)省電力，節(jié)約成本，于此同時(shí)，不僅可以保持電鍍液的流動(dòng)，而且可以保持電鍍液循環(huán)使用，使得電鍍臺(tái)內(nèi)的電鍍液得到及時(shí)的補(bǔ)充，從而可得到均勻的鍍層且能夠提高電鍍的效率。
【附圖說(shuō)明】
[0009]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型；
[0010]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]為使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。
[0012]如圖1所示，其示出了本實(shí)用新型的一種流動(dòng)式電鍍池，包括電鍍槽1、設(shè)在電鍍槽I上方且與電鍍槽I相連的電鍍臺(tái)2、設(shè)于電鍍臺(tái)2上方且與電鍍臺(tái)2相連的上桶3、與上桶3相連且設(shè)于上桶3下方的下桶6及設(shè)于上桶3與下桶6之間的水泵7，電鍍槽1、電鍍臺(tái)2、上桶3、下桶6及水泵7均通過(guò)水管8相連通，電鍍臺(tái)2設(shè)有收容電鍍液的收容空間20及設(shè)在收容空間20底部的陽(yáng)極21，所述下桶6及水泵7設(shè)于電鍍槽I的下方，所述電鍍槽I的底部與下桶6相連，所述電鍍槽I與電鍍臺(tái)2里均裝設(shè)有電鍍液，所述上桶3與電鍍臺(tái)2之間設(shè)有進(jìn)水閥4且所述電鍍臺(tái)2與電鍍槽I之間設(shè)有出水閥5，所述進(jìn)水閥4與出水閥5至多其中之一處于打開(kāi)狀態(tài)。當(dāng)需要向所述電鍍臺(tái)2里注入電鍍液時(shí)，打開(kāi)進(jìn)水閥4且同時(shí)關(guān)閉出水閥5。當(dāng)需要將電鍍臺(tái)2里的電鍍液排除時(shí)，打開(kāi)出水閥5且同時(shí)關(guān)閉進(jìn)水閥4。同時(shí)打開(kāi)所述進(jìn)水閥4與出水閥5時(shí)，所述進(jìn)水閥4的注入流量與出水閥5的排出流量相等。
[0013]電鍍臺(tái)2上設(shè)有陽(yáng)極21，可對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行電鍍，電鍍臺(tái)2與電鍍槽I相連，電鍍臺(tái)2在電鍍過(guò)程中或電鍍之后排出的廢液排放到電鍍槽I中，且電鍍槽I中的廢液，又通過(guò)水泵7抽到位于電鍍臺(tái)2上方的上桶3內(nèi)，上桶3與電鍍臺(tái)2之間存在高度差，在需要注入電鍍液時(shí)，在打開(kāi)進(jìn)水閥4的同時(shí)關(guān)閉出水閥5，此時(shí)水泵7不工作，可以使得位于上桶3內(nèi)的電鍍液在重力的作用下，注入到電鍍臺(tái)2內(nèi)，不會(huì)影響電鍍操作且節(jié)省電力，節(jié)約成本，于此同時(shí)，不僅可以保持電鍍液的流動(dòng)，而且可以保持電鍍液循環(huán)使用，使得電鍍臺(tái)2內(nèi)的電鍍液得到及時(shí)的補(bǔ)充，從而可得到均勻的鍍層且能夠提高電鍍的效率。
[0014]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種流動(dòng)式電鍍池，其特征在于:包括電鍍槽、設(shè)在電鍍槽上方且與電鍍槽相連的電鍍臺(tái)、設(shè)于電鍍臺(tái)上方且與電鍍臺(tái)相連的上桶、設(shè)在電鍍臺(tái)里的陽(yáng)極、與上桶相連且設(shè)于上桶下方的下桶及設(shè)于上桶與下桶之間的水泵，所述下桶及水泵設(shè)于電鍍槽的下方，所述電鍍槽的底部與下桶相連，所述電鍍槽與電鍍臺(tái)里均裝設(shè)有電鍍液，所述上桶與電鍍臺(tái)之間設(shè)有進(jìn)水閥且所述電鍍臺(tái)與電鍍槽之間設(shè)有出水閥，所述進(jìn)水閥與出水閥至多其中之一處于打開(kāi)狀態(tài)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種流動(dòng)式電鍍池，其特征在于:當(dāng)需要向所述電鍍臺(tái)里注入電鍍液時(shí)，打開(kāi)進(jìn)水閥且同時(shí)關(guān)閉出水閥。
3.如權(quán)利要求1所述的一種流動(dòng)式電鍍池，其特征在于:當(dāng)需要將電鍍臺(tái)里的電鍍液排除時(shí)，打開(kāi)出水閥且同時(shí)關(guān)閉進(jìn)水閥。
4.如權(quán)利要求1所述的一種流動(dòng)式電鍍池，其特征在于:同時(shí)打開(kāi)所述進(jìn)水閥與出水閥時(shí)，所述進(jìn)水閥的注入流量與出水閥的排出流量相等。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種流動(dòng)式電鍍池，包括電鍍槽、設(shè)在電鍍槽上方且與電鍍槽相連的電鍍臺(tái)、設(shè)于電鍍臺(tái)上方且與電鍍臺(tái)相連的上桶、設(shè)在電鍍臺(tái)里的陽(yáng)極、與上桶相連且設(shè)于上桶下方的下桶及設(shè)于上桶與下桶之間的水泵，所述下桶及水泵設(shè)于電鍍槽的下方，所述電鍍槽的底部與下桶相連，所述電鍍槽與電鍍臺(tái)里均裝設(shè)有電鍍液，所述上桶與電鍍臺(tái)之間設(shè)有進(jìn)水閥且所述電鍍臺(tái)與電鍍槽之間設(shè)有出水閥，所述進(jìn)水閥與出水閥至多其中之一處于打開(kāi)狀態(tài)，該流動(dòng)式電鍍池使得電鍍液流動(dòng)且能夠得到均勻的鍍層、提高電鍍效率。
【IPC分類】C25D17-00, C25D21-00, C25D21-18
【公開(kāi)號(hào)】CN204434764
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520055880
【發(fā)明人】趙進(jìn)明
【申請(qǐng)人】淮安國(guó)豐電子科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月1日
【申請(qǐng)日】2015年1月27日