一種改進型實驗鍍液用赫爾槽的制作方法
【專利摘要】本實用新型具體公開了一種改進型實驗鍍液用赫爾槽。該赫爾槽包括槽體，所述槽體為非封閉式空間，其包括第一側壁、與所述第一側壁相鄰的第二側壁、與所述第一側壁相對的第三側壁和與所述第二側壁相對的第四側壁；其中靠近所述第二側壁且內設置于所述槽體內的隔板；所述隔板一端與所述第一側壁固定連接，其另一端與所述第三側壁之間設有間隔。本實用新型有利于直觀地判斷鍍液的深鍍能力以及便于在實驗室比較同一鍍液在不同周期以及不同添加劑鍍液的深鍍能力。
【專利說明】
一種改進型實驗鍍液用赫爾槽
技術領域
[0001]本實用新型屬于赫爾槽技術領域，具體涉及一種改進型實驗鍍液用赫爾槽。
【背景技術】
[0002]赫爾槽，又名霍爾槽，哈氏槽，霍耳槽等等，都是來源于英文HULLCELL的中文音譯，赫爾槽實驗是一種實驗效果好，操作簡單，所需溶液體積小的小型電鍍試驗。它可以較好在短時間內確定獲得外觀合格鍍層的電流密度及其他工藝條件，如溫度，PH值等。用于研究電鍍溶液中主要組分和添加劑的相互影響，幫助分析電鍍溶液產生故障的原因，此外赫爾槽實驗還可以測定電鍍溶液的分散能力、整平能力以及鍍層的內應力，因此，赫爾槽試驗在電鍍實驗研究和現(xiàn)場生產質量控制方面得到了廣泛的應用。而赫爾槽實驗利用電流密度在遠近陰極上分布不同的特點，赫爾(Hull)1935年設計了一種平面陰極和平面陽極構成一定斜度的小型電鍍實驗槽，叫做赫爾槽。其中有267CC、534CC及1000CC三種型式，但以267CC最為常用?？捎靡栽囼灨鞣N鍍液，在各種電流密度下所呈現(xiàn)的鍍層情形。在赫爾槽內電鍍后的黃銅片兩面覆蓋了一層鍍金屬，黃銅片正面從左到右電流密度依次減低，可以通過電流密度尺判斷不同電流密度區(qū)域鍍液的狀態(tài)，而對于深鍍能力，赫爾槽無法進行很好的判斷。
[0003]目前常規(guī)通過依靠黃銅片背面鍍金屬覆蓋面積大小進行判斷，背面鍍金屬覆蓋面積越大表明鍍液分散能力強，深鍍能力好，而這受到實驗時黃銅片與槽壁的接觸緊密程度影響，受到操作方式的制約。
【實用新型內容】
[0004]針對上述現(xiàn)有技術存在的不足，本實用新型的目的是提供一種改進型的實驗鍍液用赫爾槽，有利于直觀地判斷鍍液的深鍍能力以及便于在實驗室比較同一鍍液在不同周期以及不同添加劑鍍液的深鍍能力。
[0005]鑒于此，本實用新型提供了一種改進型的實驗鍍液用赫爾槽，包括槽體，所述槽體為非封閉式空間，其包括第一側壁、與所述第一側壁相鄰的第二側壁、與所述第一側壁相對的第三側壁和與所述第二側壁相對的第四側壁;其中靠近所述第二側壁且內設置于所述槽體內的隔板;所述隔板一端與所述第一側壁固定連接，其另一端與所述第三側壁之間設有間隔。
[0006]優(yōu)選的，所述隔板垂直于所述第一側壁，且其上表面與所述第一側壁上表面齊平。
[0007]優(yōu)選的，所述第一側壁與所述第三側壁相平行，所述第二側壁與所述第四側壁相平行。
[0008]優(yōu)選的，所述第一側壁設有鍍層金屬的陽極，所述第二側壁設有被鍍金屬的陰極，其中所述陽極和所述陰極分別緊貼于所述第一側壁和所述第二側壁。
[0009]作為進一步優(yōu)選的，所述陽極的長度等于所述隔板與所述第四側壁之間的距離。
[0010]優(yōu)選的，所述間隔距離為0.5mm。
[0011]本實用新型相比于現(xiàn)有技術的有益效果為:通過在槽體內設置一隔板，使陰陽兩極完全被隔離，且鍍液中的離子通過一個間隔相通;與現(xiàn)有方法相比，避免了實驗操作的影響，結果更加客觀;通過測量鍍層在被鍍金屬上覆蓋的長度，結果可量化。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型所述改進型的實驗鍍液用赫爾槽的立體透視圖；
[0013]圖2為本實用新型所述改進型的實驗鍍液用赫爾槽的俯視透視圖。
[0014]附圖標記:
[0015]10-槽體，11-第一側壁，IV -陽極，12-第二側壁，12' _陰極，13-第三側壁，14-第四偵_，15_間隔，20-隔板。
【具體實施方式】
[0016]以下結合附圖對本實用新型實施例進行詳細的描述。
[0017]如圖1和圖2所示，本實用新型實施例提供了一種改進型的實驗鍍液用赫爾槽，包括槽體10，所述槽體10為非封閉式空間，其包括第一側壁11、與所述第一側壁11相鄰的第二側壁12、與所述第一側壁11相對的第三側壁13和與所述第二側壁12相對的第四側壁14;其中靠近所述第二側壁12且內設置于所述槽體10內的隔板20;所述隔板20—端與所述第一側壁11固定連接，其另一端與所述第三側壁13之間設有間隔15。在本實用新型實施例中，所述間隔距離為0.5mm。這樣使陰陽兩極完全被隔離，且鍍液中的離子通過一個間隔相通。
[0018]在本實用新型實施例中，所述槽體(10)為長方體，其長度為102mm，寬度為63.5mm，高度為63.5mm。所述隔板20垂直于所述第一側壁11，且其上表面與所述第一側壁11上表面齊平。所述第一側壁11與所述第三側壁13相平行，所述第二側壁12與所述第四側壁14相平行。
[0019]所述第一側壁11設有鍍層金屬的陽極11'，所述第二側壁12設有被鍍金屬的陰極12、其中所述陽極IV和所述陰極12'分別緊貼于所述第一側壁11和所述第二側壁12。所述陽極IV的長度等于所述隔板20與所述第四側壁14之間的距離。
[0020]在實際操作中，通過本實用新型所述的赫爾槽的實驗以被鍍金屬為黃銅片和鍍層金屬為錫的工作過程簡要如下:
[0021]陽極11'和陰極12'之間被隔板15隔離，且通過一個0.5mm寬的間隔相通。當電鍍時，離子通過間隔15運動到陰極進行沉積(離子運動方向如圖2中所示)，通過比較陰極12'黃銅片從右至左鍍覆上的金屬層長度即可了解鍍液深鍍能力變化的情況。其操作方式具體如下:
[0022]先注入鍍錫藥水于槽體內；將通過前處理處理干凈的102*63mm的黃銅片放在陰極12'位置;將清洗干凈的63*63mm的錫陽極11'放在陽極位置;按lA/5min進行電鍍;電鍍完成后用DI水清洗干凈烘干待觀察。
[0023]以上內容僅為本實用新型的較佳實施例，對于本領域的普通技術人員，依據本實用新型的思想，在【具體實施方式】及應用范圍上均會有改變之處，本說明書內容不應理解為對本實用新型的限制。
【主權項】
1.一種改進型的實驗鍍液用赫爾槽，包括槽體(10)，其特征在于，所述槽體(10)為非封閉式空間，其包括第一側壁(11)、與所述第一側壁(11)相鄰的第二側壁(12)、與所述第一側壁(11)相對的第三側壁(13)和與所述第二側壁(12)相對的第四側壁(14);其中靠近所述第二側壁(12)且內設置于所述槽體(10)內的隔板(20);所述隔板(20)—端與所述第一側壁(11)固定連接，其另一端與所述第三側壁(13)之間設有間隔(15)。2.根據權利要求1所述的改進型的實驗鍍液用赫爾槽，其特征在于，所述隔板(20)垂直于所述第一側壁(11)，且其上表面與所述第一側壁(11)上表面齊平。3.根據權利要求1所述的改進型的實驗鍍液用赫爾槽，其特征在于，所述第一側壁(11)與所述第三側壁(13)相平行，所述第二側壁(12)與所述第四側壁(14)相平行。4.根據權利要求1所述的改進型的實驗鍍液用赫爾槽，其特征在于，所述第一側壁(11)設有鍍層金屬的陽極(110，所述第二側壁(12)設有被鍍金屬的陰極(120，其中所述陽極(Il7 )和所述陰極(12,)分別緊貼于所述第一側壁(11)和所述第二側壁(12)。5.根據權利要求4所述的改進型的實驗鍍液用赫爾槽，其特征在于，所述陽極(IlQ的長度等于所述隔板(20)與所述第四側壁(14)之間的距離。6.根據權利要求1所述的改進型的實驗鍍液用赫爾槽，其特征在于，所述間隔(15)距離為0.5mmο
【文檔編號】C25D17/02GK205501440SQ201620148298
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年2月26日
【發(fā)明人】李俊
【申請人】廣州美維電子有限公司