專利名稱：植草磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
實(shí)用新型是對(duì)鋪地植草磚的改進(jìn)，尤其涉及一種用于坡面抗拔能力強(qiáng)， 防滑性好的植草磚。
背景技術(shù)：
植草磚，作為一種鋪砌地面又能種植花草綠化的植草用磚，主要用于 鋪設(shè)賓館、酒店、飛機(jī)場(chǎng)、住宅小區(qū)等停車場(chǎng)及市民廣場(chǎng)的地面鋪設(shè)?，F(xiàn) 有技術(shù)植草磚，其磚型、慣通鏤空植草孔型，雖有多種形式，但一個(gè)共同 特點(diǎn)植草孔均為上下同截面慣通結(jié)構(gòu)(即相間等截面直通結(jié)構(gòu))。這種直通 植草孔結(jié)構(gòu)植草磚的不足是植草孔相對(duì)較小，所盛裝泥土較少，散播草 籽成活率低，各孔植草相互獨(dú)立，無牽連作用，整體性差，而且根系欠發(fā) 達(dá)，為無交錯(cuò)的直通根系，因而與地面泥土間的抗拔能力差，只能用于平 面鋪設(shè)。用于斜坡面(例如公、鐵路護(hù)坡，破壞山體護(hù)坡及堤壩、河岸護(hù)坡)， 則因植草根系差，根系束縛力低，抗拔能力差；以及自重產(chǎn)生沿斜坡下滑 分力積累(坡度越陡，下滑分力積累壓力越大)；動(dòng)物踐踏；與磚體底層接觸 表土被雨水浸潤，摩擦系數(shù)降低等因素影響，極易造成鋪磚坍塌滑移，甚 至引發(fā)滑坡事故。特別是用于坡度較陡的護(hù)岸河坡鋪設(shè)，還因水浪沖擊更 是容易坍滑，因此此類植草磚基本不能用于坡面鋪設(shè)綠化。
為提高植草磚在坡面的防滑性，中國專利CN1555674、 CN1590657、 CN2659967公開的防滑移護(hù)坡植草磚。它們均是采用在磚體上設(shè)有慣通的 錨固孔，將磚體鋪設(shè)土層后，用插條釘入土層固定，然后再在錨固孔表面 抹砂漿封口，從而達(dá)到植草磚的固定防滑移。然而此種植草磚雖然具有在 坡面使用防滑移，但錨固施工用工量較大，實(shí)際不可能。
實(shí)用新型內(nèi)容
實(shí)用新型目的在于克服上述已有技術(shù)足，提供一種植草茂盛，與地面 結(jié)合性好，抗拔能力強(qiáng)，不僅能用于平地，而且用于坡面防滑性好，又不 增加鋪設(shè)工作量的植草磚。
實(shí)用新型目的實(shí)現(xiàn)，主要改進(jìn)是將植草磚按厚度方向分成具有二種儲(chǔ) 土結(jié)構(gòu)，上層為大凹面儲(chǔ)土腔，下層與通常植草磚相同，有相間的植草孔， 通過增加植草磚泥土存儲(chǔ)量，使植草茂盛，植草根系發(fā)達(dá)，從而增加了與地面錨固抗拔力，實(shí)現(xiàn)實(shí)用新型目的。具體說，實(shí)用新型植草磚，包括帶 植草孔的鏤空磚體，其特征在于磚厚度方向一層為大內(nèi)凹面， 一層有相間 植草孔。
實(shí)用新型植草磚，其磚形不限，例如可以是正方形、長方形、六角形、 圓形、多邊形、菱形、花辨形等，周邊還可以采用榫口結(jié)構(gòu)和斜面搭接結(jié) 構(gòu)，以提高鋪設(shè)后的整體性；植草孔型也不限，例如可以為長條形、圓形、 菱形、波紋形等。對(duì)于磚型較大的植草磚，其大K面層還可以加設(shè)分隔條， 分成二或若干大凹面，通過分隔以減少泥土流失。所說植草孔， 一種更好 形式是呈上大下小錐形結(jié)構(gòu)，更有利于增強(qiáng)植草后的抗拔能力。
實(shí)用新型所說大凹面，是相對(duì)于植草孔截面而言，截面遠(yuǎn)較植草孔大， 可以存放較多泥土。
此外，為進(jìn)一步提高用于坡面抗斜坡滑移能力， 一種較好還可以是在 鋪設(shè)底面制有下伸凸出腳和/或鋸齒形，以增強(qiáng)與坡面防滑力。
實(shí)用新型植草磚，由于在厚度方向分成大凹面和通常植草孔二層結(jié)構(gòu)， 鋪設(shè)時(shí)將大凹面朝上，上方大凹面可以存儲(chǔ)較多泥土，播草種子容易發(fā)芽， 且生長迅速，不僅有利于提高散播草籽成活率，使植草越長越茂盛，并且 能不斷衍生，能將植草連成一片，具有整體植草功能，而且因泥土多植物 根系發(fā)達(dá)，可以顯著提高植草后與地面的結(jié)合抗拔能力，抗拔力可以較現(xiàn)
有植草磚提高3-5倍，特別適用于坡面綠化鋪設(shè)及固坡。此外，二層泥土腔 結(jié)構(gòu)，還有利于裉系左右交錯(cuò)生長，更是顯著增強(qiáng)了植草磚與地面的結(jié)合 力，提高了抗拔能力。鋪設(shè)底部下伸凸出腳和/或鋸齒形，更是增加了抗斜 坡下滑能力。植草孔截面上大下小錐形結(jié)構(gòu)，對(duì)提高植草后抗拔能力也是 有利的，更能提高抗拔能力。實(shí)用新型植草磚，較現(xiàn)有技術(shù)植草磚，不僅 不增加施工工作量，可以與現(xiàn)有技術(shù)植草磚同樣鋪設(shè)，而且植草效率高， 綠化迅速，植草后抗拔能力強(qiáng)，與地面結(jié)合力牢，防滑性好，不需另行增 加錨固措施，用于坡面不會(huì)造成滑移坍塌，固坡、護(hù)坡效果好，既綠化了 坡面，又起到固坡、堤作用。
以下結(jié)合四個(gè)具體實(shí)施例，示例性說明及幫助進(jìn)一歩理解實(shí)用新型， 但實(shí)施例具體細(xì)節(jié)僅是為了說明實(shí)用新型，并不代表實(shí)用新型構(gòu)思下全部 技術(shù)方案，因此不應(yīng)理解為對(duì)實(shí)用新型總的技術(shù)方案的限定， 一些在技術(shù) 人員看來，不偏離實(shí)用新型構(gòu)思的非實(shí)質(zhì)性改動(dòng)，例如具有相同或相似技 術(shù)效果技術(shù)特征的簡單改變或替換，均屬實(shí)用新型護(hù)范圍。

圖1為實(shí)用新型第一實(shí)施例俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖l剖面結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3為實(shí)用新型第二實(shí)施例俯視結(jié)構(gòu)示意圖。 圖4為圖3剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

實(shí)施例1:參見圖1、 2，實(shí)用新型植草磚1，由砂石混凝土澆注成厚
10cm的六邊形，其中厚度方向上部5cm左右為無間隔的大凹面2，下部5cm 有相間長條形植草孔3。
實(shí)施例2:參見圖3、 4，如實(shí)施例l,其中植草磚l呈正方形，底部有 下伸凸出腳4，以增加抗斜坡下滑能力。
實(shí)施例3:如前述，厚度下部植草孔呈上大下小(近大凹面孔截面大)錐 形孔結(jié)構(gòu)，更可以提高植草后抗拔能力。
實(shí)施例4:如前述，對(duì)于較大面積植草磚，上部大凹面中還可以加設(shè)十
字分隔，將大凹面分隔成4份。
此外，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說，在實(shí)用新型構(gòu)思啟示下，能夠從本 專利公開內(nèi)容直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的一些變形，例如植草磚周面有連接榫口 和/,或斜面搭接結(jié)構(gòu)，底面還可以是鋸齒形，磚形及植草孔形狀變化，厚度、 大小變化，制作磚材料變化……等等，不再一一舉例細(xì)說，均具有相同技 術(shù)效果，均應(yīng)屬于本專利保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1、植草磚，包括帶植草孔的鏤空磚體，其特征在于磚厚度方向一層為大內(nèi)凹面，一層有相間植草孔。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述植草磚，其特征在于大內(nèi)凹面和相間植草孔約各 占厚度1/2左右。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述植草磚，其特征在于大內(nèi)凹面有隔斷條分隔。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述植草磚，其特征在于所述植草磚底部有下伸凸出 腳和/或鋸齒形。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l、 2、 3或4或所述植草磚，其特征在于植草孔呈上大 下小的錐形孔。
6、 根據(jù)權(quán)利要求l、 2、 3或4所述植草磚，其特征在于植草磚周面有連 接榫口和/或斜面搭接結(jié)構(gòu)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求5所述植草磚，其特征在于植草磚周面有連接榫口和/ 或斜面搭接結(jié)構(gòu)。
專利摘要本實(shí)用新型是關(guān)于對(duì)植草磚的改進(jìn)，其特征是磚厚度方向一層為大內(nèi)凹面，一層有相間植草孔。鋪設(shè)時(shí)將大凹面朝上，可以存儲(chǔ)較多泥土，種子容易發(fā)芽，生長迅速，不僅有利于提高散播草籽成活率，并能將植草連成一片，具有整體植草功能，而且因泥土多植物根系發(fā)達(dá)，可以顯著提高植草后與地面的抗拔能力，抗拔力可以較現(xiàn)有植草磚提高3-5倍。此外，二層泥土腔結(jié)構(gòu)，還有利于根系左右交錯(cuò)生長，更是顯著增強(qiáng)了磚塊與地面的結(jié)合力。植草孔上大下小錐形設(shè)計(jì)，對(duì)提高植草后抗拔能力也是有利的。較現(xiàn)有植草磚，不僅不增加施工工作量，而且植草效率高，綠化迅速，植草后抗拔能力強(qiáng)，與地面結(jié)合力牢，防滑性好，不會(huì)造成滑移坍塌，固坡效果好，既綠化了坡面，又起到固坡作用。
文檔編號(hào)E02D17/20GK201162218SQ20082003159
公開日2008年12月10日 申請(qǐng)日期2008年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月13日
發(fā)明者儲(chǔ)裕龍 申請(qǐng)人:儲(chǔ)裕龍