專利名稱：溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及ー種溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
我國溶巖地區(qū)面積廣大，隨著社會的發(fā)展，越來越多的道路、橋梁以及建筑工程的基礎(chǔ)將遇會到溶洞地質(zhì)。目前溶巖地區(qū)的樁基處理方式通常采用鉆孔灌注樁，基礎(chǔ)大多要穿越雙層或多層溶洞，施工難度大，遇淺層土洞時甚至?xí)l(fā)生，存在的問題以及不確定性較多，如卡鉆、吊鉆等，通常用于處理故障的時間多于鉆孔時間。當(dāng)遇到溶洞時砼流失嚴(yán)重，貫通的地下水也將帶走部分漿液，樁身質(zhì)量難以保證，常發(fā)生斷樁、樁身不密實的的質(zhì)量問題，同時砼的澆灌量也很不確定，個別工程的工程樁砼實際用量甚至高于正常用量的幾倍。

實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供ー種溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，解決了上述問題。本實用新型所要解決的技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的ー種溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在干包括基巖面、填充土體、旋噴樁及壓密注漿處理層、靜壓管樁、褥墊層、砼墊層和結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層；所述基巖面上邊設(shè)有填充土體，填充土體上設(shè)置旋噴樁及壓密注漿處理層，旋噴樁及壓密注漿處理層上設(shè)置靜壓管樁，靜壓管樁上設(shè)有褥墊層，褥墊層上設(shè)有砼墊層，砼墊層上設(shè)置結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層。所述旋噴樁及壓密注漿處理層中壓密注漿使用袖閥管注漿。所述每根靜壓管樁下均為ー組格構(gòu)式旋噴樁。所述靜壓管樁內(nèi)部填充C40微膨脹砼。所述褥墊層采用中砂或碎石虛鋪。本實用新型的有益效果本實用新型在基巖面以上設(shè)置穩(wěn)定的持カ層，從而達到安全、可控、降低工程成本及風(fēng)險的目的。采用格構(gòu)式旋噴樁+壓密注漿對對巖溶面及淺層、開ロ溶洞等危險地貌進行全封閉處理進行，有效控制巖溶、土洞風(fēng)險，且杜絕土洞二次發(fā)育的通道，將旋噴樁完成面標(biāo)高控制在基巖面以上某個標(biāo)高，避開基巖面以下溶洞，旋噴樁以上施工靜壓樁及褥墊層，做成復(fù)合筏板基礎(chǔ)，使樁基礎(chǔ)及樁間土體協(xié)同工作，共同承擔(dān)上部荷載。

圖I為本實用新型系統(tǒng)剖面示意圖圖2為本實用新型旋噴樁和壓密注漿平面示意圖圖中，I-基巖面，2-填充土體，3-旋噴樁及壓密注漿處理層，4-靜壓管樁，5-褥墊層，6-砼墊層，7-結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層，8-壓密注漿孔，9-格構(gòu)式旋噴樁具體實施方式
圖1-2所示，ー種溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于包括基巖面、填充土體、旋噴樁及壓密注漿處理層、靜壓管樁、褥墊層、砼墊層和結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層；所述基巖面上邊設(shè)有填充土體，填充土體上設(shè)置旋噴樁及壓密注漿處理層，旋噴樁及壓密注漿處理層上設(shè)置靜壓管樁，靜壓管樁上設(shè)有褥墊層，褥墊層上設(shè)有砼墊層，砼墊層上設(shè)置結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層。所述旋噴樁及壓密注漿處理層中壓密注漿使用袖閥管注漿；所述每根靜壓管樁下均為ー組格構(gòu)式旋噴樁。旋噴樁未覆蓋區(qū)域使用壓密注漿處理地基，壓密注漿使用袖閥管，施工順序為鉆壓密注漿孔、澆灌套殼料、下袖閥管一下注漿管一灌漿。所述靜壓管樁內(nèi)部填充C40微膨脹砼，靜壓樁的施工需要待基礎(chǔ)處理達到設(shè)計強度后方可施工，在經(jīng)過處理后的基礎(chǔ)上施工靜壓管樁可避免管樁遇不規(guī)則巖面而發(fā)生斷 樁，旋噴樁強度檢測使用地質(zhì)鉆鉆芯取樣，取樣后的空洞灌漿封堵。所述褥墊層采用中砂或碎石虛鋪，靜壓管樁截樁后樁頂平褥墊層底面，不仲入褥墊層內(nèi)，以免褥墊層的有效計算厚度減小。靜壓管樁的施工需待處理后的基礎(chǔ)達到設(shè)計強度后方可施工，一般采用鉆芯檢測，在旋噴樁的上中下各部位取樣送到實驗室做抗壓試驗，取樣后的空洞灌漿封堵，為了盡快達到設(shè)計強度，水泥漿中可摻入早強劑或適當(dāng)增加水泥用量，靜壓管樁內(nèi)部填充C40微膨脹砼，使靜壓管樁與褥墊層更好的協(xié)同受力。
權(quán)利要求1.ー種溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于包括基巖面、填充土體、旋噴樁及壓密注漿處理層、靜壓管樁、褥墊層、砼墊層和結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層；所述基巖面上邊設(shè)有填充土體，填充土體上設(shè)置旋噴樁及壓密注漿處理層，旋噴樁及壓密注漿處理層上設(shè)置靜壓管樁，靜壓管樁上設(shè)有褥墊層，褥墊層上設(shè)有砼墊層，砼墊層上設(shè)置結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層。
2.如權(quán)利要求I所述的溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于所述旋噴樁及壓密注漿處理層中壓密注漿為袖閥管注漿。
3.如權(quán)利要求I所述的溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于所述每根靜壓管樁下均為ー組格構(gòu)式旋噴樁。
4.如權(quán)利要求I所述的溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于所述靜壓管樁內(nèi)部填充C40微膨脹砼。
5.如權(quán)利要求I所述的溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于所述褥墊層采用中砂 或碎石虛鋪。
專利摘要本實用新型公開了一種溶巖地區(qū)的基礎(chǔ)處理系統(tǒng)，其特征在于包括基巖面、填充土體、旋噴樁及壓密注漿處理層、靜壓管樁、褥墊層、砼墊層和結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層；所述基巖面上邊設(shè)有填充土體，填充土體上設(shè)置旋噴樁及壓密注漿處理層，旋噴樁及壓密注漿處理層上設(shè)置靜壓管樁，靜壓管樁上設(shè)有褥墊層，褥墊層上設(shè)有砼墊層，砼墊層上設(shè)置結(jié)構(gòu)筏板基礎(chǔ)層。所述旋噴樁及壓密注漿處理層中壓密注漿使用袖閥管注漿。所述每根靜壓管樁下均為一組格構(gòu)式旋噴樁。本實用新型在基巖面以上設(shè)置穩(wěn)定的持力層，從而達到安全、可控、降低工程成本及風(fēng)險的目的。
文檔編號E02D3/08GK202450505SQ20112055300
公開日2012年9月26日 申請日期2011年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月27日
發(fā)明者孫海濤, 石偉 申請人:中建三局第一建設(shè)工程有限責(zé)任公司