一種降壓增注劑以及一種注水油井降壓增注方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種降壓增注劑,本發(fā)明還涉及一種注水油井降壓增注方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 注水開發(fā)是低滲透油田的主要開采方式。在開采過程中,由于水敏性損傷、結(jié)垢及 固相堵塞等因素,導(dǎo)致地層導(dǎo)壓能力弱,低滲油井均存在注水注入壓力高、注水量小、注采 不平衡等問題,從而造成注水壓力過高,注水量快速降低,油井產(chǎn)量迅速遞減。酸化處理是 油田普遍采用的一種效果相對較好的注水井降壓增注處理方法,但酸化一方面對施工要求 較高,容易造成腐蝕,另一方面,作用周期較短。
[0003] 因此,亟需開發(fā)新的降壓增注方法。
[0004] CN101812289B公開了一種納米聚硅顆粒,該顆粒以二氧化硅為核,表面鍵合含有 疏水性基團和助吸附性基團的有機化合物修飾劑,粒徑為5-60nm,含疏水性基團和助吸附 性基團的有機化合物在納米聚硅微粒中所占重量比分別為5-35%和1-10%;所述的有機化 合物修飾劑為有機硅化合物和/或有機酸化合物,所述的有機硅化合物為碳鏈長度1-20的 烷氧基硅烷、氯硅烷或硅氮烷;有機酸分子式為RC00H,R的碳鏈長度為2-20 ;所述的疏水性 基團為甲基、乙基、乙烯基、氟代烷基中的一種或幾種;所述的助吸附性基團為羥基、羧基、 環(huán)氧基或胺基中的一種或幾種。該聚硅顆粒對低滲油田的降壓增注具有一定的效果。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本發(fā)明的目的在于提供一種新的降壓增注劑,該降壓增注劑易于制備,并且具有 良好的降壓增注效果。
[0006] 本發(fā)明的發(fā)明人在研究過程中發(fā)現(xiàn),在環(huán)糊精分子結(jié)構(gòu)中引入疏水基團以及具有 親水性官能團的疏水基團而形成的疏水改性環(huán)糊精具有良好的降壓增注效果。在此基礎(chǔ)上 完成了本發(fā)明。
[0007] 根據(jù)本發(fā)明的第一個方面,本發(fā)明提供了一種降壓增注劑,該降壓增注劑含有疏 水改性環(huán)糊精,所述疏水改性環(huán)糊精含有改性基團,所述改性基團含有至少一種第一改性 基團和至少一種第二改性基團,所述第一改性基團為疏水基團,所述第二改性基團為含有 親水性官能團的疏水基團。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明的第二個方面,本發(fā)明提供了一種注水油井降壓增注方法,該方法包 括向注水油井中注入根據(jù)本發(fā)明的降壓增注劑。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的降壓增注劑含有疏水改性環(huán)糊精,對低滲油藏注水井具有很好的降 壓增注效果,其原因可能在于:該環(huán)糊精外表面含有疏水基團和含有親水性基團的疏水基 團,不僅具有較好的疏水性,而且對巖石的吸附性強,從而能起到較好的降壓增注效果。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的降壓增注劑中使用的疏水改性環(huán)糊精的制備工藝簡潔,適于大規(guī)模 生產(chǎn)。
【附圖說明】
[0011] 附圖是用來提供對本發(fā)明的進一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,與下面的具 體實施方式一起用于解釋本發(fā)明,但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。
[0012] 圖1為水在本發(fā)明實施例1制備的疏水改性環(huán)糊精粉末形成的薄膜表面的照片。
[0013] 圖2為水在本發(fā)明實施例2制備的疏水改性環(huán)糊精粉末形成的薄膜表面的照片。
[0014] 圖3為水在本發(fā)明實施例3制備的疏水改性環(huán)糊精粉末形成的薄膜表面的照片。
【具體實施方式】
[0015] 根據(jù)本發(fā)明的第一個方面,本發(fā)明提供了一種降壓增注劑,該降壓增注劑含有疏 水改性環(huán)糊精,所述疏水改性環(huán)糊精含有改性基團。
[0016] 所述環(huán)糊精可以為常見的各種環(huán)糊精,如α -環(huán)糊精、β -環(huán)糊精和Y -環(huán)糊精中 的一種或兩種以上的組合。
[0017] 所述改性基團含有至少一種第一改性基團和至少一種第二改性基團。
[0018] 所述第一改性基團為疏水基團。所述第一改性基團可以為C6-C3。的烴基、被氟原子 取代的C6-C3。烴基以及
中的一種或兩種以上,Rp私和R3各自為C ^C1。的烴基或 者被氟原子取代的C1-C1。的烴基。所述第一改性基團中,所述烴基可以為飽和烴基(如烷 基),也可以為不飽和烴基(如含烯鍵的烴基);所述烴基可以為脂肪基,也可以為脂環(huán)基, 還可以為芳香基。所述第一改性基團中,所述烴基的具體實例可以包括但不限于:己基(包 括己基的各種異構(gòu)體)、庚基(包括庚基的各種異構(gòu)體)、辛基(包括辛基的各種異構(gòu)體)、 壬基(包括壬基的各種異構(gòu)體)、癸基(包括癸基的各種異構(gòu)體)、十一烷基(包括十一烷基 的各種異構(gòu)體)、十二烷基(包括十二烷基的各種異構(gòu)體)、十四烷基(包括十四烷基的各 種異構(gòu)體)、十六烷基(包括十六烷基的各種異構(gòu)體)、十八烷基(包括十八烷基的各種異 構(gòu)體)、二十烷基(包括二十烷基的各種異構(gòu)體)、二十四烷基(包括二十四烷基的各種異 構(gòu)體)以及烷基苯(即,苯環(huán)上的一個或多個氫被烷基取代的苯基,所述烷基可以為C 1-Cm 的烷基,優(yōu)選SC6-C12的烷基)中的一種或兩種以上。所述第一改性基團中,"氟代"是指烴 基中的一個或兩個以上氫原子被氟原子取代。
[0019] 從進一步提高降壓增注效果的角度出發(fā),所述第一改性基團優(yōu)選為(:8-(: 2。的烴基、 被氟原子取代的Cs-c2。的烴基以及
中的一種或兩種以上,RpRjP R3各自為C ^C5 的烴基或者被氟原子取代的C1-C5K烴基。
[0020] 更優(yōu)選地,所述第一改性基團為C8-C16的烷基、被C 6-C12W烷基取代的苯基以及
中的一種或兩種以上,Ri、私和R3各自為C「(: 5的烷基。
[0021] 進一步優(yōu)選地,所述第一改性基團選自正辛基、十二烷基、壬基苯基和
其中,R1UPR3S丁基。
[0022] 所述第二改性基團為含有親水性官能團的疏水基團。所述親水性基團可以為羥 基、羧基和氨基中的一種或兩種以上。所述氨基包括-NHjP -NH-,優(yōu)選為-NH 2。
[0023] 所述第二改性基團可以為被羥基、羧基和/或氨基取代的C6-C3。烴基以及
中的一種或兩種以上,R4、RjP R6各自為被羥基、氨基和/或羧基取代的C ^(^的 烴基。所述第二改性基團中,所述烴基可以為飽和烴基(如烷基),也可以為不飽和烴基(如 含烯鍵的烴基);所述烴基可以為脂肪基,也可以為脂環(huán)基,還可以為芳香基。所述第二改 性基團中的烴基的具體實例可以包括但不限于:己基(包括己基的各種異構(gòu)體)、庚基(包 括庚基的各種異構(gòu)體)、辛基(包括辛基的各種異構(gòu)體)、壬基(包括壬基的各種異構(gòu)體)、 癸基(包括癸基的各種異構(gòu)體)、十一烷基(包括十一烷基的各種異構(gòu)體)、十二烷基(包括 十二烷基的各種異構(gòu)體)、十四烷基(包括十四烷基的各種異構(gòu)體)、十六烷基(包括十六 烷基的各種異構(gòu)體)、十八烷基(包括十八烷基的各種異構(gòu)體)、二十烷基(包括二十烷基 的各種異構(gòu)體)和二十四烷基(包括二十四烷基的各種異構(gòu)體)中的一種或兩種以上。
[0024] 從進一步提高降壓增注效果的角度出發(fā),所述第二改性基團優(yōu)選為被羥基、羧基 和/或氨基取代的C8-C2q的烴基(如烷基)以及
中的一種或兩種以上,R4、1?5和 R6各自為被羥基、氨基和/或羧基取代的C fC5K烴基。
[0025] 更優(yōu)選地,所述第二改性基團為被羥基和/或羧基取代的Cw-C18K烷基中的一種 或兩種以上。
[0026] 進一步優(yōu)選地,所述第二改性基團為-(CH2) i。⑶OH、- (CH2) 16C00H和-(CH2) 1SC00H中 的一種或兩種以上。
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