一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于油氣資源開(kāi)發(fā)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度
目.ο
【背景技術(shù)】
[0002]油田開(kāi)發(fā)后期，大量生產(chǎn)井的油氣產(chǎn)量急劇下降，對(duì)已有開(kāi)發(fā)區(qū)域的儲(chǔ)層重新進(jìn)行探測(cè)，對(duì)于確定剩余油分布，提升油區(qū)開(kāi)發(fā)潛力具有重要意義。由于生產(chǎn)井中一般都安裝了套管，套管具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)磁性，對(duì)于套管儲(chǔ)層信息的探測(cè)具有極強(qiáng)的干擾，因此套后儲(chǔ)層探測(cè)儀檢測(cè)到的有用信號(hào)極其微弱，只有通過(guò)下井前對(duì)儀器的刻度，才能保證檢測(cè)信號(hào)的可靠性。
[0003]套后儲(chǔ)層探測(cè)儀的刻度大都在測(cè)試井中進(jìn)行，背景電阻率一定的條件下，通過(guò)拖動(dòng)測(cè)井儀上下移動(dòng)完成儀器刻度，這樣的刻度需要專門(mén)的測(cè)井平臺(tái)，操作復(fù)雜，費(fèi)用較高，測(cè)試空間的高度要能滿足儀器起降，不適合在有限地面空間完成儀器刻度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)以上問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、電阻率改變靈活、刻度方式多樣的特點(diǎn)。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，該裝置包括外刻度池、內(nèi)刻度池、套管、導(dǎo)管、水栗循環(huán)模塊、導(dǎo)流閥。其中:所述外刻度池、內(nèi)刻度池均為長(zhǎng)方體水槽，上端面開(kāi)口，內(nèi)刻度池位于套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置的中間位置，內(nèi)刻度池外部是外刻度池，內(nèi)刻度池內(nèi)部放置有套管，刻度過(guò)程中套后儲(chǔ)層探測(cè)儀放置在套管內(nèi)部靜止不動(dòng)，外刻度池、內(nèi)刻度池分別通過(guò)導(dǎo)管與水栗循環(huán)模塊連接。
[0006]所述外刻度池的左端面、右端面均為正方形，邊長(zhǎng)2m。
[0007]所述內(nèi)刻度池的上端面與外刻度池的上端面重合，內(nèi)刻度池的左端面、右端面的中軸線分別與外刻度池的對(duì)應(yīng)端面的中軸線重合，內(nèi)刻度池的左端面、右端面均為長(zhǎng)方形，底邊寬lm，高1.5m，內(nèi)刻度池的左端面、右端面分別通過(guò)螺紋與外刻度池的對(duì)應(yīng)端面緊固連接。
[0008]所述外刻度池的左端面、右端面與內(nèi)刻度池的左端面、右端面的對(duì)應(yīng)位置開(kāi)有圓孔，可保證套管水平橫穿外刻度池、內(nèi)刻度池，套管與外刻度池的左端面、右端面以及內(nèi)刻度池的左端面、右端面的連接處通過(guò)防水密封膠連接，防止連接處滲水。
[0009]所述外刻度池、內(nèi)刻度池用于盛裝電阻液體，其中外刻度池用于模擬套后探測(cè)區(qū)域的電阻率，內(nèi)刻度池用于模擬套后背景區(qū)域的電阻率，可以通過(guò)上端面加入導(dǎo)電性水溶介質(zhì)，配置不同濃度的電阻液體，模擬不同區(qū)域電阻率的變化。
[0010]所述外刻度池、內(nèi)刻度池均采用玻璃鋼材質(zhì)。
[0011]所述的外刻度池通過(guò)導(dǎo)管與水栗循環(huán)模塊連接，構(gòu)成外層電阻液體的循環(huán)流動(dòng)空間，外層電阻液體從外刻度池的一端流入，從外刻度池的另一端流出。
[0012]所述的內(nèi)刻度池通過(guò)導(dǎo)管與水栗循環(huán)模塊連接，構(gòu)成內(nèi)層電阻液體的循環(huán)流動(dòng)空間，內(nèi)層電阻液體從內(nèi)刻度池的一端流入，從內(nèi)刻度池的另一端流出。
[0013]所述水栗循環(huán)模塊用于調(diào)節(jié)不同刻度池內(nèi)相應(yīng)電阻液體在各自循環(huán)空間中的流動(dòng)速度，模擬儀器升降速度的變化。
[0014]所述導(dǎo)流閥用于刻度完成后排出外刻度池、內(nèi)刻度池中的電阻液體，所述導(dǎo)流閥共有2個(gè)，分別位于外刻度池右端面的底邊和內(nèi)刻度池右端面的底邊。
[0015]本實(shí)用新型的有益效果:套后儲(chǔ)層探測(cè)儀在刻度時(shí)處于靜止?fàn)顟B(tài)，通過(guò)水栗循環(huán)模塊調(diào)節(jié)電阻液體的流動(dòng)速度，模擬套后儲(chǔ)層探測(cè)儀的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，節(jié)省了刻度空間；通過(guò)在內(nèi)刻度池中配比不同濃度的電阻液體，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)背景區(qū)域的電阻率模擬；通過(guò)在外刻度池配比不同濃度的電阻液體，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)套后探測(cè)區(qū)域的電阻率模擬。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1是本實(shí)用新型套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置的俯視圖。
[0017]圖2是本實(shí)用新型套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置的A-A剖面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)及工作原理作詳細(xì)敘述。
[0019]參照?qǐng)D1，一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置包括外刻度池1、內(nèi)刻度池2、套管3、導(dǎo)管4、水栗循環(huán)模塊5、導(dǎo)流閥6。其中內(nèi)刻度池2位于套后儲(chǔ)層探測(cè)室內(nèi)刻度裝置中間位置，內(nèi)刻度池2外部是外刻度池1，內(nèi)刻度池2內(nèi)部放置有套管3，外刻度池1，內(nèi)刻度池2分別通過(guò)導(dǎo)管4與水栗循環(huán)模塊5連接。
[0020]參照?qǐng)D1，圖2，外刻度池1、內(nèi)刻度池2均為長(zhǎng)方體水槽，外刻度池1的左端面、右端面均為正方形，邊長(zhǎng)2m，內(nèi)刻度池2的左端面、右端面均為長(zhǎng)方形，底邊寬lm，高1.5m。外刻度池1的左端面、右端面的中軸線分別與內(nèi)刻度池2的左端面、右端面的中軸線重合，內(nèi)刻度池2的左端面、右端面分別通過(guò)螺紋與外刻度池1的對(duì)應(yīng)端面緊固連接，形成一體化的雙層刻度池。外刻度池1、內(nèi)刻度池2用于盛裝電阻液體，其中外刻度池1用于模擬套后探測(cè)區(qū)域的電阻率，內(nèi)刻度池2用于模擬套后背景區(qū)域的電阻率。外刻度池1的上端面和內(nèi)刻度池2的上端面在同一水平面，并且上端面均開(kāi)口，這樣可以通過(guò)未封閉的上端面分別在外刻度池1、內(nèi)刻度池2中放入類似于鹽這樣的導(dǎo)電水溶介質(zhì)，配比不同濃度的電阻液體，實(shí)現(xiàn)對(duì)不同刻度池電阻率的改變。
[0021]外刻度池1的左端面、右端面與內(nèi)刻度池2的左端面、右端面的對(duì)應(yīng)位置開(kāi)有圓孔，這些圓孔的中心在一條水平線上，套管3通過(guò)這些圓孔水平橫穿外刻度池1、內(nèi)刻度池2，套管3與外刻度池1的左端面、右端面以及內(nèi)刻度池2的左端面、右端面的連接處通過(guò)防水密封膠連接，防止連接處滲水?？潭惹皩⑻缀髢?chǔ)層探測(cè)儀7放入套管3內(nèi)，并保持套后儲(chǔ)層探測(cè)儀7在整個(gè)刻度過(guò)程中處于靜止?fàn)顟B(tài)。
[0022]外刻度池1、內(nèi)刻度池2均采用玻璃鋼材質(zhì)，玻璃鋼材質(zhì)的導(dǎo)磁、導(dǎo)電性較弱，以減少刻度裝置自身對(duì)探測(cè)信號(hào)的干擾。
[0023]外刻度池1通過(guò)導(dǎo)管4與水栗循環(huán)模塊5連接，構(gòu)成外層電阻液體的循環(huán)流動(dòng)空間，外層電阻液體從外刻度池1的一端流入，從外刻度池1的另一端流出。
[0024]內(nèi)刻度池2通過(guò)導(dǎo)管4與水栗循環(huán)模塊5連接，構(gòu)成內(nèi)層電阻液體的循環(huán)流動(dòng)空間，內(nèi)層電阻液體從內(nèi)刻度池2的一端流入，從內(nèi)刻度池2的另一端流出。
[0025]水栗循環(huán)模塊5可以調(diào)節(jié)電阻液體在相應(yīng)循環(huán)空間中的流動(dòng)速度，模擬儀器移動(dòng)速度變化對(duì)探測(cè)響應(yīng)的影響。
[0026]本實(shí)施例中，導(dǎo)流閥6共有2個(gè)，分別位于外刻度池1右端面的底邊和內(nèi)刻度池2右端面的底邊。導(dǎo)流閥6在刻度過(guò)程中始終處于關(guān)閉狀態(tài)，刻度完成后打開(kāi)導(dǎo)流閥6，可將外刻度池1、內(nèi)刻度池2中的電阻液體排出。
[0027]綜上所述，本實(shí)用新型將套后儲(chǔ)層探測(cè)儀水平放置于套管中，利用刻度池中電阻液體的循環(huán)流動(dòng)速度模擬套后儲(chǔ)層探測(cè)儀與地層的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，通過(guò)配比不同濃度的電阻液體模擬不同區(qū)間電阻率的變化，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作靈活的特點(diǎn)，適合在地面對(duì)套后儲(chǔ)層探測(cè)儀進(jìn)行刻度。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，該裝置包括外刻度池(1)、內(nèi)刻度池(2)、套管(3)、導(dǎo)管(4)、水栗循環(huán)模塊(5)、導(dǎo)流閥(6)，其中:所述外刻度池(1)、內(nèi)刻度池(2)均為長(zhǎng)方體水槽，上端開(kāi)口，內(nèi)刻度池(2)位于套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置中間位置，內(nèi)刻度池(2)外部是外刻度池(1)，內(nèi)刻度池(2)內(nèi)部放置有套管(3)，刻度過(guò)程中套后儲(chǔ)層探測(cè)儀(7)放置在套管(3)內(nèi)部靜止不動(dòng)，外刻度池(1)，內(nèi)刻度池(2)分別通過(guò)導(dǎo)管(4)與水栗循環(huán)模塊(5)連接；所述內(nèi)刻度池(2)的上端面與外刻度池(1)的上端面重合，內(nèi)刻度池(2)的左端面、右端面的中軸線分別與外刻度池(1)的對(duì)應(yīng)端面的中軸線重合，內(nèi)刻度池(2)的左端面、右端面分別通過(guò)螺紋與外刻度池(1)的對(duì)應(yīng)端面緊固連接；所述外刻度池(1)、內(nèi)刻度池(2)用于盛裝電阻液體，其中外刻度池(1)用于模擬套后探測(cè)區(qū)域的電阻率，內(nèi)刻度池(2)用于模擬套后背景區(qū)域的電阻率，可以通過(guò)上端面分別向外刻度池(1)、內(nèi)刻度池(2)中加入導(dǎo)電性水溶介質(zhì)，配置不同濃度的電阻液體，模擬不同區(qū)域電阻率的變化；所述水栗循環(huán)模塊(5 )用于調(diào)節(jié)不同刻度池內(nèi)相應(yīng)電阻液體在各自循環(huán)空間中的流動(dòng)速度；所述導(dǎo)流閥(6)用于刻度完成后排出外刻度池(1)、內(nèi)刻度池(2)中的電阻液體。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，所述外刻度池(1)的左端面、右端面為正方形，邊長(zhǎng)2m。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，內(nèi)刻度池(2)的左端面、右端面為長(zhǎng)方形，底邊寬lm，高1.5m。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，所述外刻度池(1)的左端面、右端面與內(nèi)刻度池(2)的左端面、右端面的對(duì)應(yīng)位置開(kāi)有圓孔，可保證套管(3 )水平橫穿外刻度池(1)、內(nèi)刻度池(2 )，套管(3 )與外刻度池(1)以及內(nèi)刻度池(2 )的左端面、右端面的連接處通過(guò)防水密封膠連接，防止連接處滲水。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，所述外刻度池(1 )、內(nèi)刻度池(2 )均采用玻璃鋼材質(zhì)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，所述導(dǎo)流閥(6)共有2個(gè)，分別位于外刻度池(1)右端面的底邊和內(nèi)刻度池(2)右端面的底邊。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，所述的外刻度池(1)通過(guò)導(dǎo)管(4)與水栗循環(huán)模塊(5)連接，構(gòu)成外層電阻液體的循環(huán)流動(dòng)空間，外層電阻液體從外刻度池(1)的一端流入，從外刻度池(1)的另一端流出。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，其特征在于，所述的內(nèi)刻度池(2)通過(guò)導(dǎo)管(4)與水栗循環(huán)模塊(5)連接，構(gòu)成內(nèi)層電阻液體的循環(huán)流動(dòng)空間，內(nèi)層電阻液體從內(nèi)刻度池(2 )的一端流入，從內(nèi)刻度池(2 )的另一端流出。
【專利摘要】本實(shí)用新型公布了一種套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置，應(yīng)用于油田生產(chǎn)井過(guò)套管電阻率測(cè)井領(lǐng)域，整個(gè)裝置包括外刻度池、內(nèi)刻度池、套管、導(dǎo)管、水泵循環(huán)模塊以及導(dǎo)流閥，其中：外刻度池、內(nèi)刻度池均為長(zhǎng)方體水槽，上端開(kāi)口，內(nèi)刻度池位于套后儲(chǔ)層探測(cè)儀地面刻度裝置中間位置，內(nèi)刻度池外部是外刻度池，內(nèi)刻度池內(nèi)部放置有套管，刻度過(guò)程中套后儲(chǔ)層探測(cè)儀放置在套管內(nèi)部靜止不動(dòng)，外刻度池、內(nèi)刻度池分別通過(guò)導(dǎo)管與水泵循環(huán)模塊連接。本實(shí)用新型可以在有限的地面空間模擬套后不同區(qū)域電阻率的變化以及過(guò)套管電阻率測(cè)井儀的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作靈活的特點(diǎn)。
【IPC分類】E21B49/00
【公開(kāi)號(hào)】CN204984406
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520534771
【發(fā)明人】任志平, 黨博, 王慧麗
【申請(qǐng)人】西安石油大學(xué)
【公開(kāi)日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2015年7月22日