專利名稱：基板處理裝置及送液裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種將涂布于基板上的處理液進行送液的技術。
背景技術：
在基板上涂布抗蝕劑液等處理液的場合，已知有通過注射泵(活塞泵)、波紋管泵(風箱式泵)、齒輪泵或隔膜泵等各種泵將抗蝕劑液送進的裝置及用一定壓力將抗蝕劑液送進的壓送型的裝置等。
特別是在通過狹縫噴嘴涂布抗蝕劑液的狹縫涂布機中，由狹縫噴嘴的移動速度和供給的抗蝕劑液的量決定涂布在基板上的抗蝕劑液的膜厚。因此，為了高精度地控制抗蝕劑液的膜厚，以往使用波紋管泵或活塞泵。
但是，由于波紋管泵在結(jié)構(gòu)上不可避免地容易在被送液中的抗蝕劑液中產(chǎn)生脈沖，在波紋管部分中存在窄小的間隙，具有實質(zhì)上不可能將該部分完全洗凈等問題。因此，在狹縫涂布機中，作為將抗蝕劑液送進的機構(gòu)主要采用活塞泵，這樣，使用活塞泵的狹縫涂布機記載在專利文獻1(日本特開2000-334355公報)中。
圖11為專利文獻1所記載的用于狹縫涂布機中的送液機構(gòu)100的構(gòu)造的示意圖。送液機構(gòu)100由活塞泵110、配管機構(gòu)120及驅(qū)動機構(gòu)130構(gòu)成，活塞泵110具有缸體111、活塞112、密封部件113及排出口114。此外，配管機構(gòu)120具有排出配管121與排出閥122。并且，驅(qū)動組件130具有馬達131、螺桿132、螺母部件133。此外，盡管圖中省略了，但驅(qū)動機構(gòu)130還具有用于降低馬達131的旋轉(zhuǎn)速度的減速機等。
活塞泵110的排出口114連接在配管機構(gòu)120的排出配管121上，排出配管121連通地連接在未圖示的狹縫噴嘴排出配管121上。排出配管121通過使排出閥122成為開放狀態(tài)而與排出口114連通連接。
在送液機構(gòu)100中，在馬達131旋轉(zhuǎn)螺桿132時，螺母部件133沿螺桿132移動。由于在螺母部件133上固定有活塞112，在螺母部件133沿螺桿132移動時，隨著該移動，活塞112沿Z軸移動。螺母部件133的移動方向由馬達131的旋轉(zhuǎn)方向規(guī)定。
從狹縫噴嘴排出抗蝕劑液時，送液裝置100在排出閥122為開放狀態(tài)的同時，通過馬達131將螺母部件133向(+Z)方向驅(qū)動，以將活塞112壓入缸體111中，將缸體111內(nèi)的抗蝕劑液向狹縫噴嘴送液。
此外，在從缸體111內(nèi)吸引抗蝕劑液時，在排出閥122為閉鎖狀態(tài)的同時，通過馬達131向與排出時相反方向旋轉(zhuǎn)，將活塞112向從缸體111拔出方向((-Z)方向)移動，從未圖示的吸引口吸引抗蝕劑液。由于這種動作，專利文獻1中記載的狹縫涂布機能夠?qū)⒖刮g劑液向狹縫噴嘴送液。
專利文獻1日本特開2000-334355號公報在上述裝置中，將活塞112推入時，缸體111的內(nèi)壁的一部分暴露在外部氣氛中，有附著的抗蝕劑液R變質(zhì)的問題。在這種狀態(tài)下，為了向缸體111內(nèi)吸引新的抗蝕劑液而移動活塞112時，變質(zhì)后的抗蝕劑液R混入被吸引的抗蝕劑液中，這成為顆粒的原因。
此外，為了去除這種變質(zhì)后的抗蝕劑液，必須要取出并洗凈活塞112及密封部件113等。存在著需要維護泵的時間的問題。
此外，由于移動活塞112的驅(qū)動機構(gòu)(馬達131、螺桿132及螺母部件133)的加工精度、控制精度低，螺母部件133(活塞112)的進給精度低，結(jié)果，存在著送液精度低的問題。
再者，由于驅(qū)動活塞閥110，密封件113與缸體111的磨擦而磨耗，存在著由此產(chǎn)生的顆粒混入處理液中或必須定期更換密封部件113的問題。
本發(fā)明的第1目的是解決上述問題，不產(chǎn)生顆粒、高精度地將處理液送進。
此外，第2目的是不使用如密封件113那樣的磨耗部件、送進處理液。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案1是在基板上形成特定的處理液的膜的基板處理裝置，具有保持基板的保持臺、將前述特定的處理液向基板的主面上排出的狹縫噴嘴、供給前述特定處理液的供給機構(gòu)、以及將前述特定處理液向前述狹縫噴嘴送液的送液組件，前述送液組件具有可變更內(nèi)部容積的容器部件、在內(nèi)部構(gòu)成前述特定的處理液的流路的同時可變更內(nèi)部容積的管部件、以及可變更前述容器部件的內(nèi)部容積地驅(qū)動的驅(qū)動組件，前述管部件設置在前述容器部件的內(nèi)部，在前述容器部件與前述管部件之間的空間中內(nèi)封有間接液。
此外，本發(fā)明的技術方案2是在技術方案1的基板處理裝置中，前述容器部件由內(nèi)徑相互不同，并且內(nèi)部相互連通的第1及第2波紋管構(gòu)成，前述驅(qū)動組件使前述第1及第2波紋管的邊界附近向特定方向移動。
此外，本發(fā)明的技術方案3是在技術方案2的基板處理裝置中，前述狹縫噴嘴對于基板相對地移動并排出前述特定處理液，前述第1及第2波紋管的邊界附近移動的速度控制成與前述狹縫噴嘴的移動速度同步的速度。
此外，本發(fā)明的技術方案4的發(fā)明是在技術方案1的基板處理裝置中，具有控制前述驅(qū)動組件的控制組件，前述控制組件具有控制前述送液組件送液的前述特定的處理液的流量的定容量供給機構(gòu)和控制由前述送液裝置送液的前述特定的處理液的流量的定流量供給機構(gòu)。
此外，本發(fā)明的技術方案5是在技術方案1的基板處理裝置中，在前述送液組件中設有分別位于前述管部件的兩端側(cè)的吸引口及排出口，配置成前述吸引口及前述排出口中某一個的高度位置比另一個低。
此外，本發(fā)明的技術方案6是在技術方案1的基板處理裝置中，前述供給機構(gòu)具有貯存前述特定的處理液的緩沖箱，前述緩沖箱在大氣壓下使前述送液組件吸引前述特定的處理液。
此外，本發(fā)明的技術方案7是在技術方案6的基板處理裝置中，前述緩沖箱的液面高度設定為比前述狹縫噴嘴的排出口低。
此外，本發(fā)明的技術方案8是在技術方案6的基板處理裝置中，前述供給機構(gòu)還具有向前述緩沖箱中補給前述特定的處理液的補給組件，前述補給組件將貯存在前述緩沖箱中的前述特定的處理液以特定的壓力向前述狹縫噴嘴送液。
此外，本發(fā)明的技術方案9是在技術方案6的基板處理裝置中，前述供給機構(gòu)還具有測定貯存在前述緩沖箱中的前述特定的處理液的量的測定組件。
此外，本發(fā)明的技術方案10是在技術方案8的基板處理裝置中，還具有在由前述補給組件將前述特定的處理液加壓并送液的場合不通過前述送液組件地將前述特定的處理液導向前述狹縫噴嘴的預備流路。
此外，發(fā)明的技術方案11是在技術方案10的基板處理裝置中，還具有在將前述特定的處理液向前述狹縫噴嘴送液的場合選擇通過驅(qū)動前述驅(qū)動組件送液還是通過前述補給組件送液的任一種的送液選擇組件，以及選擇通過前述送液組件送液還是通過前述預備流路送液的流路選擇組件。
此外，本發(fā)明的技術方案12是在技術方案11的基板處理裝置中，前述流路選擇組件具有開閉前述預備流路的閥。
此外，本發(fā)明的技術方案13是在技術方案1的基板處理裝置中，前述送液裝置具有多個前述容器部件和在前述多個容器部件的內(nèi)部均設置一個的多個前述管部件。
此外，本發(fā)明的技術方案14是在技術方案13的基板處理裝置中，還具有在前述多個容器部件與前述狹縫噴嘴之間形成前述特定的處理液的流路的送液配管，在前述狹縫噴嘴上設有多個處理液供給口的同時，前述送液配管將前述多個處理液供給口與前述多個容器部件一對一地連接起來。
此外，本發(fā)明的技術方案15是在技術方案4的基板處理裝置中，還具有檢測形成于基板表面上的前述薄膜的厚度的膜厚檢測組件，前述控制組件根據(jù)前述膜厚檢測組件的檢測結(jié)果控制前述控制機構(gòu)，以使前述薄膜的厚度均勻。
此外，本發(fā)明的技術方案16是在技術方案13的基板處理裝置中，前述驅(qū)動機構(gòu)各自獨立地變更驅(qū)動前述多個容器部件的內(nèi)部容積。
此外，本發(fā)明的技術方案17是在技術方案13的基板處理裝置中，前述驅(qū)動機構(gòu)通過連接并驅(qū)動前述多個容器部件來變更前述多個容器部件的內(nèi)部容積地驅(qū)動。
此外，本發(fā)明的技術方案18是在技術方案17的基板處理裝置中，從前述多個容器部件各自到前述狹縫噴嘴之間的前述送液配管流路的長度及粗細各自大致相同。
此外，本發(fā)明的技術方案19是將在基板上涂布的特定處理液進行送液的送液裝置，其特征為，具有產(chǎn)生用于將前述特定的處理液送液的驅(qū)動力的驅(qū)動馬達、由前述驅(qū)動馬達旋轉(zhuǎn)的螺桿、與前述螺桿螺紋結(jié)合的螺母部件、引導前述螺母部件的驅(qū)動方向的導向部件、以及控制前述驅(qū)動馬達的控制組件，前述驅(qū)動馬達為低速旋轉(zhuǎn)時穩(wěn)定性高的低速馬達，前述螺桿與前述螺母部件為由一體制造的部件構(gòu)成。
此外，本發(fā)明的技術方案20是在技術方案19的送液裝置中，前述螺桿的節(jié)距為3mm至6mm。
此外，本發(fā)明的技術方案21是在技術方案19的送液裝置中，前述驅(qū)動馬達在500rpm以下的低速旋轉(zhuǎn)中具有1％以下的速度精度，對于來自前述控制組件的控制具有217P/rev以上的分辨率精度。
在本發(fā)明的技術方案1至技術方案18中，由于在容器部件內(nèi)部設有管部件，在容器部件與管部件之間的空間中內(nèi)封有間接液，處理液的流路的一部分不會曝露在大氣中，能夠抑制顆粒的產(chǎn)生。此外，能夠容易地進行洗凈等維護。
在本發(fā)明的技術方案4中，由于控制組件具有控制由送液裝置送液的特定的處理液的送液流量的定容量供給機構(gòu)和控制由送液裝置送液的特定的處理液的流量的定流量供給機構(gòu)，能夠高精度地排出處理液。
在本發(fā)明的技術方案5中，通過在分別位于管部件的兩端側(cè)的吸引口及排出口中某一個的高度位置比另一個低地設置，有利于送液裝置的氣泡的去除。此外，排液容易。
在本發(fā)明的按照技術方案6中，由于緩沖箱在大氣壓下使前述送液裝置吸引前述特定的處理液，能夠減小送液裝置吸引處理液時的吸引力。
在本發(fā)明的技術方案7中，由于緩沖箱的液面高度設定為比前述狹縫噴嘴的排出口低，能夠抑制不希望的處理液從狹縫噴嘴排出。
在本發(fā)明的技術方案8中，由于補給組件將貯存在緩沖箱中的特定的處理液以特定的壓力向狹縫噴嘴送液，無需使驅(qū)動組件驅(qū)動即可容易地將處理液送液。
在本發(fā)明的技術方案9中，由于具有測定貯存在緩沖箱中的特定的處理液的量的測定組件，能夠適當?shù)鼐S持緩沖箱內(nèi)的處理液的量。
在本發(fā)明的技術方案10中，由于具有不通過送液裝置地將特定的處理液導向狹縫噴嘴的預備流路，在例如使用粘度高的處理液的場合中，即使是施加比較高的壓力的情況也不會破壞送液裝置，能夠?qū)⑻幚硪核鸵骸?br> 在本發(fā)明的技術方案11中，由于具有在將特定的處理液向狹縫噴嘴送液的場合選擇通過驅(qū)動驅(qū)動組件送液還是通過補給組件送液的任一種的送液選擇組件，以及選擇通過送液裝置送液還是通過預備流路送液的流路選擇組件，能夠?qū)崿F(xiàn)根據(jù)情況的送液。
在本發(fā)明的技術方案12中，由于流路選擇組件具有開閉預備流路的閥，能夠容易地進行流路選擇。
在本發(fā)明的技術方案13中，由于將特定的處理液向狹縫噴嘴送液的送液機構(gòu)至少具有兩個送液泵，能夠使用送液精度高的送液泵，因此能夠提高狹縫噴嘴的排出精度。
在本發(fā)明的技術方案14中，送液配管將至少2個處理液供給口與至少2個送液泵一對一地連接起來，與從一處向狹縫噴嘴供給處理液的場合相比，能夠使狹縫噴嘴的排出平衡均勻。
在本發(fā)明的技術方案15中，由于根據(jù)膜厚檢測組件的檢測結(jié)果控制控制機構(gòu)，以使薄膜的厚度均勻，能夠?qū)崿F(xiàn)對應于實測值的控制，能夠形成所希望的薄膜。
在本發(fā)明的技術方案16中，由于驅(qū)動機構(gòu)各自獨立地驅(qū)動至少2個送液泵，能夠根據(jù)處理液的排出狀態(tài)由送液泵柔軟地控制送液狀態(tài)。
在本發(fā)明的技術方案17中，由于驅(qū)動機構(gòu)通過連接并驅(qū)動至少2個送液泵，不需要進行復雜的控制，能夠容易地將多個送液泵同步地驅(qū)動。
在本發(fā)明的技術方案18中，由于從至少2個送液泵各自到狹縫噴嘴之間的送液配管流路的長度及粗細相互大致相同，能夠進一步提高將送液泵連接驅(qū)動的場合的排出精度。
在本發(fā)明的技術方案19中，由于驅(qū)動馬達為低速旋轉(zhuǎn)時穩(wěn)定性高的低速馬達，螺桿與螺母部件為由一體制造的部件構(gòu)成，能夠提高通過驅(qū)動馬達的螺母部件的進給精度，能夠高精度地控制送液時處理液的流量。
在本發(fā)明的技術方案20中，由于螺桿的節(jié)距為3mm至6mm，通過使用加工精度最高的螺桿，能夠進一步提高進給精度。
在本發(fā)明的技術方案21中，由于驅(qū)動馬達在500rpm以下的低速旋轉(zhuǎn)中具有1％以下的速度精度，對于來自控制組件的控制具有217P/rev以上的分辨率精度，能夠提高進給精度。


圖1為本發(fā)明的第1實施方式的基板處理裝置的外觀立體圖。
圖2為基板處理裝置的正視圖。
圖3為供給機構(gòu)與送液機構(gòu)的示意圖。
圖4為送液機構(gòu)的詳圖。
圖5為驅(qū)動機構(gòu)的詳6為第2實施方式的送液機構(gòu)與狹縫噴嘴的連接關系的示意圖。
圖7為第2實施方式的抗蝕劑泵及驅(qū)動機構(gòu)的視圖。
圖8為第3實施方式的送液機構(gòu)與狹縫噴嘴的連接關系的示意圖。
圖9為第4實施方式的基板處理裝置的本體部的正視圖。
圖10為第4實施方式的基板處理裝置的送液機構(gòu)與狹縫噴嘴的連接狀態(tài)的示意圖。
圖11以往的送液裝置的視圖。
具體實施例方式
下面，參照附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行詳細說明。
(1、第1實施方式)(1.1構(gòu)成說明)圖1為本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置1的簡要立體圖。圖2為基板處理裝置1的本體2的正視圖。
基板處理裝置1大體分為本體2與控制系統(tǒng)6，將用于制造液晶顯示裝置的畫面板的方形玻璃基板作為被處理基板90，在將形成于基板90的表面上的電極層等有選擇地蝕刻加工的過程中，作為向基板90的表面上涂布抗蝕劑液的涂布裝置(狹縫涂布機)。因而，在該實施方式中，狹縫噴嘴41相對于基板90排出抗蝕劑液。此外，基板處理裝置1能夠作為不僅是液晶顯示裝置用的玻璃基板，而且向一般平板顯示用的各種基板上涂布處理液(藥液)的裝置來變形利用。
本體2具有作為載置并保持被處理基板90的保持臺的功能，同時具有作為附屬的各機構(gòu)的基臺功能的平臺3。平臺3為立方體形狀的一體的石制件，其上面(保持面30)及側(cè)面被加工為平坦面。
平臺3的上面為水平面，成為基板90的保持面30。在保持面30上分布形成有多個真空吸附口，各真空吸附口與未圖示的真空泵連通連接。在基板處理裝置1中處理基板90的期間，通過吸附基板90以將基板90保持在特定的水平位置上。
在該保持面30中、夾持基板90的保持區(qū)域(保持基板90的區(qū)域)的兩端部上固定設置著在大致水平方向平行延伸的一對走行軌道31a。走行軌道31a與固定設置在橋架構(gòu)造4的兩端部上的支承塊31b一同導引橋架構(gòu)造4的移動(將移動方向規(guī)定在特定方向)。即，走行軌道31a構(gòu)成將橋架構(gòu)造4支承在保持面30上方的線性導向體。
在平臺3的上方設有從該平臺3的兩側(cè)部分大致水平地跨越的橋架構(gòu)造4。橋架構(gòu)造4主要由以碳纖維樹脂為骨件的噴嘴支承部40及支承其兩端的升降機構(gòu)43、44構(gòu)成。
在噴嘴支承部40上安裝有狹縫噴嘴41、間隙傳感器42、以及送液機構(gòu)80。
在向水平Y(jié)方向延伸的狹縫噴嘴41上，連接有向狹縫噴嘴41輸送處理液(抗蝕劑液)的送液機構(gòu)80。此外，在狹縫噴嘴41的下面沿Y軸方向設有排出口41a。狹縫噴嘴41由送液機構(gòu)80輸送抗蝕劑液，通過掃描基板90的表面，向基板90的表面的特定區(qū)域(以下稱為“保護涂布區(qū)域”)排出抗蝕劑液。在此，保護涂布區(qū)域為基板90的主面中準備涂布的區(qū)域，通常為從基板90的全面積除去沿端緣的特定寬度的區(qū)域的區(qū)域。
各間隙傳感器42安裝于與橋架構(gòu)造4的噴嘴支承部40上與保持面30對面的位置上，檢測出與特定方向(-Z方向)的存在物(例如基板90或抗蝕劑膜)之間的距離，并將檢測出的結(jié)果向控制系統(tǒng)6輸出。并且，各間隙傳感器42最好安裝在保護涂布區(qū)域的Y軸方向的兩端部附近的上方的位置上。由此，2個間隙傳感器42各自的安裝位置配置在Y軸方向的位置不同的位置上。
這樣，通過在噴嘴支承部40上分別安裝狹縫噴嘴41與間隙傳感器42，以固定它們的相對的位置關系。因而，控制系統(tǒng)6根據(jù)間隙傳感器42的檢測結(jié)果，能夠檢測出基板90的表面與狹縫噴嘴41的距離。此外，在本實施方式的基板處理裝置1中具有2個間隙傳感器42，但間隙傳感器42的數(shù)量并不限于此，可具有更多的間隙傳感器42。
在噴嘴支承部40中，在狹縫噴嘴41的上方位置上設有送液機構(gòu)80。圖3為用于將抗蝕劑液向狹縫噴嘴41供給、送液的結(jié)構(gòu)的簡要視圖。再者，在圖3中盡管未圖示，但各結(jié)構(gòu)根據(jù)需要以可能的狀態(tài)連接以接送控制系統(tǒng)6的信號，能夠根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號分別動作。
基板處理裝置1作為供給抗蝕劑液的供給機構(gòu)70具有補給組件71、緩沖箱72、傳感器73，同時，作為用于向狹縫噴嘴41中導引抗蝕劑液的配管機構(gòu)，具有吸引配管74、開閉閥75、76、過濾器77、單向閥78、排出配管79、開閉閥83、84及預備配管85。
補給組件71具有從未圖示的抗蝕劑液瓶將抗蝕劑液向緩沖箱72供給的功能。此外，還具有壓送貯存在緩沖箱72中的抗蝕劑液的功能。
緩沖箱72設置成通過暫時貯存抗蝕劑液，可將混入抗蝕劑液的空氣分離除去。即，混入抗蝕劑液中的空氣在抗蝕劑液貯存在緩沖箱72中期間，集中在緩沖箱72的貯存槽的上部，通過后述的空氣抽出閥88成為開放狀態(tài)，經(jīng)過空氣排氣管89向裝置外排氣。此外，緩沖箱72還具有抗蝕劑液泵81吸入抗蝕劑液時在大氣壓力下吸引的功能。
傳感器73設置成用于檢測出貯存在緩沖箱72中的抗蝕劑液的量。更加詳細地說，傳感器73為由3個液面?zhèn)鞲衅鳂?gòu)成，各液面?zhèn)鞲衅饕阅軌驕y出溢出、上限量及下限量的狀態(tài)設置。由傳感器73檢測出的液面位置信息向控制系統(tǒng)6傳遞，根據(jù)該檢測結(jié)果控制系統(tǒng)6生成控制信號，以控制補給組件71。因此，能夠在緩沖箱72中貯存適量的抗蝕劑液。
緩沖箱72盡管在圖2中未示出，但可在升降機構(gòu)43的側(cè)方設置于與狹縫噴嘴41大致相同的高度位置，并且設定成使位于緩沖箱72內(nèi)的液面處于比狹縫噴嘴41的排出口41a稍稍下方處。
吸引配管74及排出配管79為用于通過抗蝕劑液泵81將抗蝕劑液導向狹縫噴嘴41的配管。抗蝕劑液在根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號進行流路的開閉的開閉閥75、76任一個為開放狀態(tài)的情況下，通過吸引配管74吸引到抗蝕劑液泵81中后，經(jīng)過排出配管79向狹縫噴嘴41送液。
過濾器77如圖3所示，設置在抗蝕劑液泵81的一次側(cè)，具有從向狹縫噴嘴41送液的抗蝕劑液中去除異物的功能。此外，單向閥78設置成可防止吸引管74內(nèi)的抗蝕劑液逆流，為僅向圖3中右側(cè)方向通過抗蝕劑液的閥。
開閉閥83、84及預備配管85為用于不通過抗蝕劑液泵81就可將抗蝕劑液送液的結(jié)構(gòu)。即在開閉閥75為閉鎖狀態(tài)、開閉閥83、84為開放狀態(tài)時，抗蝕劑液不通過吸引配管74、抗蝕劑液泵81及排出配管79，而是通過預備配管85向狹縫噴嘴41送液。即、控制系統(tǒng)6與開閉閥75、83、84主要相當于本發(fā)明的流路選擇組件。
此外，基板處理裝置1具有用于產(chǎn)生從供給機構(gòu)70送出到狹縫噴嘴41的驅(qū)動力的送液機構(gòu)80。
圖4為詳細地示出送液機構(gòu)80的視圖。送液機構(gòu)80主要由抗蝕劑液泵81及驅(qū)動機構(gòu)82構(gòu)成。此外，在圖4中示出了抗蝕劑液泵81的斷面。
抗蝕劑液泵81具有第1波紋管811、第2波紋管812、結(jié)合部件813、管814。此外，在抗蝕劑液泵81中分別設有在吸引抗蝕劑液時構(gòu)成抗蝕劑液的入口的吸引口815和抗蝕劑液排出時構(gòu)成抗蝕劑液的出口的排出口816。吸引口815通過吸引配管74與供給機構(gòu)70連通連接，排出口816通過排出配管79與狹縫噴嘴41連通連接。此外，吸引口815以比排出口816位于下方的狀態(tài)設置。
再者，為了提高從狹縫噴嘴41的排出精度，希望縮短從抗蝕劑液泵81的排出口816到狹縫噴嘴41的距離。在本實施方式的基板處理裝置1中，由于為了縮短該距離，將送液機構(gòu)80設置在噴嘴支承部40上，從而能夠提高狹縫噴嘴41的排出精度。
第1波紋管811及第2波紋管812由可沿Z軸方向伸縮的部件構(gòu)成。此外，第1波紋管811的(-Z)側(cè)的端部與第2波紋管812的(+Z)側(cè)的端部通過結(jié)合部件813相互固定連接，同時內(nèi)部相互連通。此外，在第1波紋管811與第2波紋管812的合計長度X(圖4)為一定的狀態(tài)下，其兩端通過蓋810支承于圖外的剛體上。由于第1波紋管811的內(nèi)徑面積(與Z軸垂直面的面積)比第2波紋管812的內(nèi)徑面積小，在第1波紋管811延伸的狀態(tài)與第2波紋管812延伸的狀態(tài)之間變化狀態(tài)，能夠變更抗蝕劑液泵81的容積。
在第1波紋管811及第2波紋管812的內(nèi)部設有管814。管814由管狀的可塑性部件構(gòu)成，兩端分別與吸引口815及排出口816連通連接。即，管814構(gòu)成抗蝕劑液的流路。再者，在本實施方式的基板處理裝置1中，如圖4所示，管814沿Z軸大致在垂直方向設置。
在由第1波紋管811、第2波紋管812及管814包圍的空間中，內(nèi)封有間接液LQ。作為間接液LQ使用了相對于壓力或溫度等的變化、體積變化率低的液體。因此，即使在第1波紋管811及第2波紋管812由于伸縮而變形的情況下，間接液LQ的體積也幾乎不會變化。
由于這種結(jié)構(gòu)，在本實施方式的基板處理裝置1中，在第1波紋管811伸長時(結(jié)合部件813向下方移動的場合)，由于抗蝕劑液泵81的由第1波紋管811及第2波紋管812包圍的空間的容積減少，間接液LQ被加壓。由于間接液LQ為即使通過加壓體積也幾乎不減少的液體，通過被加壓的間接液LQ使管814收縮(斷面收縮)，管814內(nèi)被加壓。此時，如果控制系統(tǒng)6使開閉閥84及廢液閥86為閉鎖狀態(tài)，同時使開閉閥76為開放狀態(tài)，管814內(nèi)的抗蝕劑液就從排出口816排出，以向狹縫噴嘴41送液。此外，由于吸引口815側(cè)設置了單向閥78，管814內(nèi)的抗蝕劑液不會從吸引口815逆流。
另一方面，在第2波紋管伸長時(結(jié)合部件813向上方移動的場合)，由于抗蝕劑液泵81的由第1波紋管811及第2波紋管812包圍的空間的容積增加，間接液LQ被減壓。由于間接液LQ為即使通過減壓體積也幾乎不增加的液體，通過間接液LQ使管814膨脹，管814內(nèi)被減壓。此時，如果控制系統(tǒng)6使開閉閥76、84及廢液閥86為閉鎖狀態(tài)，緩沖箱72內(nèi)的抗蝕劑液就被從吸引口815向管814內(nèi)吸引。
即，抗蝕劑液泵81通過使結(jié)合部件813沿Z軸方向往復移動，能夠反復進行抗蝕劑液的吸引動作和排出動作，具有將抗蝕劑液送液的功能。
圖5為詳細地示出驅(qū)動機構(gòu)82的視圖。驅(qū)動機構(gòu)82具有基座820、驅(qū)動馬達821、螺桿822、螺母部件823、安裝部件824、導向件825、軸承部件826及導向固定部件827，抗蝕劑液泵81具有產(chǎn)生用于將抗蝕劑液送液的驅(qū)動力的功能。在本實施方式的基板處理裝置1中，由驅(qū)動馬達821產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力通過主要由螺桿822和螺母部件823構(gòu)成的結(jié)構(gòu)變換為直動驅(qū)動力，以成為保護泵81的驅(qū)動力。
基座820搭載了驅(qū)動機構(gòu)82的各構(gòu)成部，為一體化的部件。此外，在圖5中省略了圖示，在基座820上適當?shù)卦O置了用于固定到噴嘴支承部40上的部件等。因此，通過驅(qū)動機構(gòu)82的各構(gòu)成部以一體結(jié)構(gòu)的狀態(tài)下固定到噴嘴支承部40上，能夠提高驅(qū)動精度。再者，基座820以后述的導向件825的導引方向為沿Z軸的狀態(tài)固定到噴嘴支承部40上。
驅(qū)動馬達821為低速旋轉(zhuǎn)(500rpm以下)的、速度精度高的DD(Direct Drive)馬達。通過在這種驅(qū)動馬達821中采用DD馬達，在本實施方式的基板處理裝置1中，由于能夠不通過減速器等而將螺桿822與驅(qū)動馬達821直接連接，能夠使裝置成本降低并減小體積，同時能夠防止由于減速器的精度及齒輪側(cè)向間隙等引起的螺母部件823的進給精度的降低。再者，由于與使用同步皮帶的場合相比能夠維持剛性值，能夠抑制旋轉(zhuǎn)不勻及控制特性(相對于劇烈的速度變化的回應遲緩)的降低。再者，本實施方式的驅(qū)動機構(gòu)82中使用的驅(qū)動馬達821并不限于DD馬達，只要是低速旋轉(zhuǎn)的、速度精度高的馬達(在100rpm時為1％以下)，也可使用其他方式的馬達。再者，在使用低速時的速度精度不充分的馬達的情況下，可與齒輪側(cè)向間隙等小的、即所謂高精度減速機組合使用，在此場合馬達也可使用高分辨率(217P/rev以上)的馬達。
此外，圖5中盡管省略了圖示，但驅(qū)動馬達821以可接受信號的狀態(tài)連接在控制系統(tǒng)6上，能夠根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號控制旋轉(zhuǎn)量及旋轉(zhuǎn)速度。再者，作為驅(qū)動馬達821能夠使用AC伺服馬達、步進馬達、DD馬達等能夠根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號確定旋轉(zhuǎn)位置的馬達，但在本實施方式的基板控制組件1中，考慮低速旋轉(zhuǎn)時的精度使用了DD馬達。此外，為了提高進給的精度，為高分辨率(分辨率為217P/rev以上)的DD馬達。
螺桿822為具有中心軸P的圓筒棒狀的部件，通過安裝在兩端上的一對軸承部件826安裝在基座820上。此外，在螺桿822的圓筒狀表面設有用于與螺母部件823螺紋結(jié)合的螺旋狀導線。該螺桿822的導線節(jié)距D為3mm至6mm。
螺母部件823設有用于與螺桿822螺紋結(jié)合的貫通口，在該貫通口的內(nèi)壁形成有與設置在螺桿822上的導線相嚙合方向上的螺旋狀的槽。此外，在螺母部件823上固定有安裝部件824，安裝部件824安裝在抗蝕劑液泵81的結(jié)合部件813上。
在螺母部件823的貫通口中旋轉(zhuǎn)并擰入螺桿822時，螺母部件823沿中心軸P相對于螺桿822向特定的方向直線性移動。由于螺母部件823與結(jié)合部件813通過安裝部件824連接，螺母部件823如前所述移動時，結(jié)合部件813連動地向同一方向移動。在這樣的基板處理裝置1中，驅(qū)動馬達821的圍繞中心軸P的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力變換為抗蝕劑液泵81的Z軸方向的直動驅(qū)動力。再者，螺母部件823沿螺桿822向驅(qū)動馬達821側(cè)移動時的驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)方向稱為“正方向”。
此外，在螺母部件828上設有用于與導向件825配合的導引部(未圖示)。在該導引部中設有多個滾珠，螺母部件823與導向部件825因通過該滾珠配合，能夠抑制螺母部件823移動時的磨擦。此外在各滾珠與滾珠之間設有樹脂制的隔板或隔離滾珠。由此，由于能夠抑制伴隨滾珠的轉(zhuǎn)動及循環(huán)而產(chǎn)生的振動及進給不勻，能夠提高螺母部件823的速度精度。
導向件825與螺母部件823的導引部(未圖示)相配合，同時由一對導向固定部件827與螺桿822一同具有充分的精度和剛性地、一體地組裝固定在基座820上。導向件825具有直線狀的導引軸J，具有通過與螺母部件823配合，將由螺桿822的旋轉(zhuǎn)而移動的螺母部件823的移動方向規(guī)定為沿導引軸J方向的功能。
導向部件823如前所述，由于螺桿822旋轉(zhuǎn)而沿螺桿822的中心軸P移動，但中心軸P的方向因螺桿822的驅(qū)動振動等變動。因此，僅由螺桿822不能高精度地規(guī)定螺母部件823的移動方向。對此，由于導向件825靜止，導引軸J與中心軸P相比其方向穩(wěn)定。因此，通過驅(qū)動機構(gòu)82的螺母部件823由導引軸J規(guī)定了移動方向，能夠提高螺母部件823的移動速度及移動方向的精度。
在軸承部件826中，在內(nèi)部設有未圖示的支承用軸承，該軸承與螺桿822接觸。由此，能夠不阻礙圍繞螺桿822的中心軸P的旋轉(zhuǎn)地將螺桿822安裝在基座820上。此外，該軸承為了提高螺桿822的旋轉(zhuǎn)剛性，考慮到軸負荷，使用具有適當剛性的部件。此外，通過使用比較大型的軸承，能夠提高螺桿822旋轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性。
回到圖3，基板處理裝置1的作為主要在維護等中使用的配管機構(gòu)具有廢液閥86、廢液配管87、抽氣閥88及空氣排氣管89。
廢液閥86為用于開閉吸引配管74與廢液配管87之間的流路的閥。廢液閥86根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號進行開閉控制。廢液配管87與未圖示的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)連通連接，在廢液閥86為開放狀態(tài)時，通過廢液配管87將抗蝕劑液泵81及吸引配管74內(nèi)的抗蝕劑液回收到該回收機構(gòu)中。
抽氣閥88為用于開閉緩沖箱72與空氣排氣管89之間的流路的閥。抽氣閥88根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號進行開閉控制?？諝馀艢夤?9與未圖示的排氣閥連通連接，在抽氣閥88為開放狀態(tài)時，通過空氣排氣管89將在緩沖箱72內(nèi)與抗蝕劑液分離的空氣排氣。再者，在該裝置中使用的全部的閥使用不會因該閥的動作而在配管內(nèi)產(chǎn)生壓力變化及容積變化的所謂消除型閥。
回到圖1及圖2，升降機構(gòu)43、44分開在狹縫噴嘴41的兩側(cè)，通過噴嘴支承部40與狹縫噴嘴41連接。升降機構(gòu)43、44用于與狹縫噴嘴41并進地升降，同時也用于調(diào)整狹縫噴嘴41在YZ平面內(nèi)的姿態(tài)。
在橋架構(gòu)造4的兩端部分別固定設有沿平臺3的兩側(cè)的緣側(cè)分開設置的一對AC無芯線性馬達(以下只簡稱為“線性馬達”)50、51。
線性馬達50具有定子50a和轉(zhuǎn)子50b，為用于通過定子50a和轉(zhuǎn)子50b的電磁相互作用產(chǎn)生將橋架構(gòu)造4在X軸方向(沿基板90的表面方向)移動的驅(qū)動力的馬達。此外，由線性馬達50產(chǎn)生的移動量及移動方向能夠通過來自控制系統(tǒng)6的控制信號控制。再者，線性馬達51也具有大致相同的功能、結(jié)構(gòu)。
線性編碼器53、54分別具有標尺部及檢測頭(未圖示)，檢測出標尺部與檢測頭的相對位置關系，向控制系統(tǒng)6傳遞。各檢測頭分別固定設置在橋架構(gòu)造4的兩端部，線性編碼器52、53具有檢測出橋架構(gòu)造4的位置的功能。
控制系統(tǒng)6在內(nèi)部具有根據(jù)程序進行各種數(shù)據(jù)處理的計算部60、保存程序及各種數(shù)據(jù)的記憶部61。此外，在前面上具有用于操作者對于基板處理裝置1輸入必要的指令的操作部62及顯示各種數(shù)據(jù)的顯示部63。
控制系統(tǒng)6通過未圖示的電纜與附屬于本體2上的各機構(gòu)連接，根據(jù)來自操作部62及各種傳感器等的信號控制平臺3、橋架構(gòu)造4、升降機構(gòu)43、44、線性馬達50、51、供給機構(gòu)70及送液機構(gòu)80等各結(jié)構(gòu)。
特別是，控制系統(tǒng)6通過根據(jù)來自操作者的指示進行開閉閥75、76、83、84的開閉控制，在將抗蝕劑液導向狹縫噴嘴41時選擇使用吸引配管74及排出配管79或預備配管85。此外，根據(jù)控制信號控制驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)方向、每1行程的旋轉(zhuǎn)量及旋轉(zhuǎn)速度。在基板處理裝置1中，由于根據(jù)驅(qū)動馬達821的每1行程的旋轉(zhuǎn)量決定了抗蝕劑液泵81的結(jié)合部件813的移動量(抗蝕劑液泵81的容積變化量)，該旋轉(zhuǎn)量控制相當于控制抗蝕劑液泵81送液的抗蝕劑液的送液量。此外，在基板處理裝置1中，由于由驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)速度決定了結(jié)合部件813的移動速度(抗蝕劑液泵81的容積變化速度)，控制該旋轉(zhuǎn)速度相當于控制抗蝕劑液泵81的抗蝕劑液的流量。
作為控制系統(tǒng)6的具體構(gòu)成，記憶部61可為相當于暫時記憶數(shù)據(jù)的RAM、讀取專用的R0M及磁盤裝置等的可移式光磁盤或記憶卡等存儲介質(zhì)以及其讀取裝置。此外，操作部62為用于輸入操作者對基板處理裝置1的指示的按扭及開關類(包括鍵盤或鼠標等)等，也可象觸摸式平面顯示器那樣兼有顯示部63的功能。顯示部63相當于液晶顯示器或各種燈等。
(1.2動作的說明)以下，對基板處理裝置1的動作進行說明。在基板處理裝置1中，主要存在3個動作模式(涂布模式、予涂布模式、維護模式)，任一個動作模式的選擇根據(jù)操作者的指示輸入，通過控制系統(tǒng)6控制各個構(gòu)成(部分)來進行。
(1.2.1涂布模式的動作)首先，對通常的涂布模式的動作進行說明。根據(jù)來自操作者的指示輸入選擇涂布模式時，控制系統(tǒng)6使開閉閥84、84、廢液閥86及抽氣閥88為閉鎖狀態(tài)，同時使開閉閥75為開放狀態(tài)。這樣作為抗蝕劑液的流路選擇了吸引配管74及排出配管79。
此時，在予緩沖箱72中根據(jù)來自傳感器73的檢測結(jié)果，由補給組件71將抗蝕劑液儲存到上限位置。以后，抗蝕劑液泵81除去進行抗蝕劑液的吸引動作期間，通過控制系統(tǒng)6的控制向緩沖箱進行抗蝕劑液的供給直到上限位置。
在基板處理裝置1中，當操作者通過未圖示的輸送機構(gòu)將基板90輸送到特定位置時，平臺3將基板90吸附保持在保持面30上的特定位置上。接著，根據(jù)來自控制系統(tǒng)6的控制信號，升降機構(gòu)43、44將安裝在噴嘴支承部40上的間隙傳感器42移動到比基板90的厚度高的特定高度(以下稱為“測定高度”)間隙傳感器42設定在測定高度上時，通過線性馬達50、51將橋架構(gòu)造4向(+X)方向移動，將間隙傳感器42移動到抗蝕劑膜涂布區(qū)域的上方。此時，控制系統(tǒng)6通過根據(jù)線性編碼器52、53的檢測結(jié)果向各線性馬達50、51施加控制信號，控制間隙傳感器42在X軸方向的位置。
接著，間隙傳感器42開始基板90表面的抗蝕劑膜涂布區(qū)域的基板90表面與狹縫噴嘴41的間隙的測定。測定開始時，通過線性馬達50、51再使橋架構(gòu)造4向(+X)方向移動，間隙傳感器42掃描抗蝕劑膜涂布區(qū)域，將掃描中的測定結(jié)果向控制系統(tǒng)6傳遞。此時，控制系統(tǒng)6將間隙傳感器42的測定結(jié)果與由線性編碼器52、53測出的水平位置相關聯(lián)并保存在記憶部61中。
橋架構(gòu)造4在(+X)方向上通過基板90的上方，間隙傳感器42的掃描結(jié)束時，控制系統(tǒng)6將橋架構(gòu)造4在該位置停止，根據(jù)來自間隙傳感器42的檢測結(jié)果，計算出使狹縫噴嘴41的在YZ平面的姿態(tài)成為恰當姿勢(使狹縫噴嘴41與保護涂布區(qū)域的間隔成為用于涂節(jié)抗蝕劑液的適當間隔的姿態(tài)。以下稱為“恰當姿態(tài)”)的噴嘴支承部40的位置，根據(jù)算出結(jié)果，向各升降機構(gòu)43、44施加控制信號。根據(jù)該控制信號，各升降機構(gòu)43、44將噴嘴支承部40在Z軸方向上移動，將狹縫噴嘴41調(diào)整為恰當姿態(tài)。
這樣，為了實現(xiàn)抗蝕劑液的均勻涂布，需要嚴密地調(diào)整狹縫噴嘴41與基板90的表面的距離。在基板處理裝置1中，控制系統(tǒng)6通過根據(jù)間隙傳感器42的檢測結(jié)果控制升降機構(gòu)43、44以進行該距離的調(diào)整。
接下去，線性馬達50、51將橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動，將狹縫噴嘴41移動到排出開始位置。在此，排出開始位置為狹縫噴嘴41大致沿保護涂布區(qū)域的一邊的位置。
狹縫噴嘴41移動到排出開始位置時，控制系統(tǒng)6向線性馬達50、51施加控制信號。根據(jù)該控制信號，通過線性馬達50、51將橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動，狹縫噴嘴41掃描基板90的表面。
此時控制系統(tǒng)6也對開閉閥76及驅(qū)動馬達821施加控制信號。即、控制系統(tǒng)6在由狹縫噴嘴41進行掃描期間，使開閉閥76為開放狀態(tài)。同時將驅(qū)動馬達821向下方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，使抗蝕劑液泵81的結(jié)合部件813向(-Z)方向移動。
由于通過該動作，抗蝕劑液泵81的第1波紋管伸長，同時第2波紋管收縮，間接液LQ被加壓。間接液LQ被加壓時，管814收縮，吸引到管814內(nèi)的抗蝕劑液從排出口816向狹縫噴嘴41送入。
這樣，狹縫噴嘴41相對于基板相對地移動，同時向抗蝕劑膜涂布區(qū)域排出抗蝕劑液。由此，在基板90的表面上形成抗蝕劑液的涂層。此外，控制系統(tǒng)6控制驅(qū)動馬達821，以使抗蝕劑液泵81的第1波紋管811及第2波紋管812的邊界附近(結(jié)合部件813)的移動速度為與狹縫噴嘴41的移動速度(掃描速度)同步的速度。由此，能夠恰當?shù)乜刂茝目刮g劑液泵81排出的抗蝕劑液的量。此外，在本實施方式的基板處理裝置1中，由于抗蝕劑液泵81的結(jié)合部件813與螺母部件823一同流暢地移動，不會在被送液的抗蝕劑液中產(chǎn)生泵作用等脈動，能夠控制送液不均。
此外，在該構(gòu)成中，以狹縫噴嘴41的排出口41a的高度比緩沖箱72內(nèi)的抗蝕劑液的液面高度高的狀態(tài)設置緩沖箱72，設定液面高度。由此，在涂布時，不會產(chǎn)生從狹縫噴嘴41中流出不希望的液流。
另外，此時的驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)速度由控制系統(tǒng)6控制，以使形成的抗蝕劑液的層厚在保護涂布區(qū)域的整個面上為設定值。用于使控制系統(tǒng)6進行如此控制的驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)速度分布預先通過實驗等求出適當值。此外，為了提高抗蝕劑液的送液精度，最好使抗蝕劑液以比較低速的狀態(tài)送液，但一般的馬達在高速旋轉(zhuǎn)中是穩(wěn)定的。本實施方式的基板處理裝置1的驅(qū)動機構(gòu)82由于驅(qū)動馬達821中采用了低速旋轉(zhuǎn)精度好的DD馬達，即使在將抗蝕劑液以低速送液的場合也能夠進行高精度的控制，能夠提高狹縫噴嘴41的排出精度。
再者，由于使用這種在低速旋轉(zhuǎn)中旋轉(zhuǎn)精度好的驅(qū)動馬達821，不會使螺桿822的導線間距D為加工精度降低的不滿3mm的數(shù)值，能夠為加工精度好的3mm至6mm，能夠?qū)崿F(xiàn)精度的提高。
狹縫噴嘴41移動到排出結(jié)束位置時，控制系統(tǒng)6向驅(qū)動機構(gòu)82、升降機構(gòu)43、44及線性馬達50、51施加控制信號。根據(jù)該控制信號，通過停止驅(qū)動機構(gòu)82而停止從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液，升降機構(gòu)43、44將間隙傳感器42移動到測定高度。進而，控制系統(tǒng)6控制開閉閥76為閉鎖狀態(tài)。
狹縫涂布機的抗蝕劑液排出量大致由相對于狹縫噴嘴供給的抗蝕劑液的量決定。在本實施方式的基板處理裝置1中，從抗蝕劑液的排出開始到排出結(jié)束期間(1行程中)從抗蝕劑液泵81送出的抗蝕劑液的量由控制系統(tǒng)6控制為驅(qū)動馬達821在1行程中旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)量。在此，由于驅(qū)動馬達821對于控制系統(tǒng)6的控制具有分辨率為217P/rev以上的高分辨率，能夠提高該旋轉(zhuǎn)量的控制精度。因此，能夠提高狹縫噴嘴41的排出量的精度。
此后，線性馬達50、51通過將橋架構(gòu)造4向X方向移動使間隙傳感器42掃描保護涂布區(qū)域，測定與形成于基板90上的抗蝕劑膜的間隙并向控制系統(tǒng)6傳遞?？刂葡到y(tǒng)6通過計算抗蝕劑涂布前測定的間隙的值(與基板90表面之間的距離)與抗蝕劑涂布后測定的間隙的值(與抗蝕劑膜的表面之間的距離)的差，算出形成于基板90上的抗蝕劑膜的厚度尺寸。
進一步，根據(jù)算出的厚度尺寸，與作為允許的厚度尺寸的范圍的預先設定的特定值相比較，判斷對于基板90進行的涂布處理是否良好，判斷結(jié)果顯示在顯示部63上。
由此，由于在基板90的表面上形成處理液的涂層(抗蝕劑膜)后能夠迅速地進行是否良好的判斷，可根據(jù)顯示部63上顯示的判斷結(jié)果，例如操作者等能夠迅速地應對處理狀態(tài)。再者，在使用間隙傳感器42的檢查中，由于主要能夠進行X軸方向的異常的檢測，能夠檢測出例如未涂布抗蝕劑液(抗蝕劑液不足)、排出開始位置及排出結(jié)束位置錯位、涂布結(jié)束位置中產(chǎn)生厚膜現(xiàn)象等異常。再者，根據(jù)該膜壓測定結(jié)果能夠在例如膜厚比希望的厚度薄的場合中提高下次涂布時的驅(qū)動馬達821的速度等，根據(jù)情況柔軟地控制抗蝕劑液泵81，得到所希望的涂布結(jié)果。
此外，在此期間，控制系統(tǒng)6根據(jù)控制信號使驅(qū)動機構(gòu)82的驅(qū)動馬達821反轉(zhuǎn)，使螺母部件823向(+Z)方向移動。由此，由于結(jié)合部件813向(+Z)方向移動，第1波紋管811收縮，同時第2波紋管812伸長。因此，間接液LQ被減壓，管814膨脹，經(jīng)過吸引口815從供給機構(gòu)70向管814內(nèi)吸引抗蝕劑液。
這樣，抗蝕劑液泵81在排出動作及吸引動作中不會將抗蝕劑液的流路等部分曝露在外部空氣中。即，不會像圖11所示的以往的使用活塞泵的裝置那樣使曝露在外部空氣中的抗蝕劑液變質(zhì)并混入涂布的抗蝕劑液中。因此，基板處理裝置1能夠抑制顆粒產(chǎn)生。
在抗蝕劑膜的檢查結(jié)束時，平臺3停止基板90的吸附，操作者或輸送機構(gòu)將基板90從保持面30上取出，輸送到下步的處理工序。
以上為本實施方式的基板處理裝置1的涂布模式的動作。
(1.2.2預涂布模式的動作)以下，對基板處理裝置1的預涂布模式進行說明。預涂布模式為基板處理裝置1不通過抗蝕劑液泵81的驅(qū)動將抗蝕劑液向狹縫噴嘴41送液的模式。
在基板處理裝置1中，例如在涂布模式前，為了防止因狹縫噴嘴41的前端干燥等造成抗蝕劑液不能正常地排出的狀態(tài)，或預先將在狹縫噴嘴41的前端部上的變質(zhì)了的抗蝕劑液作為廢液、去除等理由，要進行預涂布(試涂布)。此外，在洗凈后的空氣抽取等處理中也進行預涂布。
根據(jù)來自操作者的指示選擇預涂布模式時，首先控制系統(tǒng)6根據(jù)控制信號使開閉閥75、76為開放狀態(tài)，同時使開閉閥83、84、廢液閥86及空氣抽氣閥88為閉鎖狀態(tài)。由此，作為從供給機構(gòu)70到狹縫噴嘴41的抗蝕劑液的流路選擇吸引配管74及排出配管79。
此后，通過控制控制線性馬達50、51，使橋架構(gòu)造4從待機位置向進行預涂布位置(對未圖示的預涂布板進行涂布的位置)移動。
接著，控制系統(tǒng)6通過控制緩沖箱72由大氣壓向狹縫噴嘴41進行抗蝕劑液的送液。
在基板處理裝置1的預涂布處理中，不需要進行高精度地排出，不需要通過控制抗蝕劑液泵81進行排出量、排出流量的高精度控制。因此，由于作為控制系統(tǒng)6將抗蝕劑液送液的手法選擇了不通過抗蝕劑液泵81的驅(qū)動，而由緩沖箱72的大氣壓送液的手法，能夠不產(chǎn)生驅(qū)動力地進行抗蝕劑液的送液。
在狹縫涂布機中，在使用粘度高的抗蝕劑液的場合及進行洗凈及排廢液時將變質(zhì)的抗蝕劑液及顆粒一氣地壓出場合等中，需要由高壓力進行送液。在本實施方式的基板處理裝置1中，在這種處理中也能夠通過預涂布來應對。
通過來自操作者的指示輸入選擇由高壓力進行預涂布時，首先控制系統(tǒng)6根據(jù)控制信號使開閉閥83、84為開放狀態(tài)，同時使開閉閥75、廢液閥86及空氣抽氣閥88為閉鎖狀態(tài)。由此，作為從供給機構(gòu)70到狹縫噴嘴41的抗蝕劑液的流路選擇預備配管85。
此后，控制系統(tǒng)6控制線性馬達50、51，使橋架構(gòu)造4移動。此時，在向基板90涂布的場合，與涂布模式同樣地由間隙傳感器42進行測定等后，橋架構(gòu)造4被設置在前述的排出開始位置上。在預涂布板上進行涂布的情況下，橋架構(gòu)造4配置在前述的預涂布位置上。
在橋架構(gòu)造4被設置在特定的位置上時，控制系統(tǒng)6通過控制線性馬達50、51將橋架構(gòu)造4向特定方向移動，同時由狹縫噴嘴41進行掃描。此時控制系統(tǒng)6使開閉閥76為開放狀態(tài)，同時控制供給機構(gòu)70的補給組件71將抗蝕劑液加壓。由此，加壓后的抗蝕劑液從供給機構(gòu)70向狹縫噴嘴41送液，從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液。
這樣，由于基板處理裝置1具有預備管85，控制系統(tǒng)6具有適當選擇預備管85的功能，即使在例如向抗蝕劑液施加有可能使抗蝕劑液泵81的管814破損程度的高壓力，基板處理裝置1也能夠進行抗蝕劑液的送液。因此，即使基板處理裝置1是高粘度的抗蝕劑液也能作為處理液使用。
實施特定量的排出后，線性馬達50、51使橋架構(gòu)造4退避到待機位置，結(jié)束預涂布。以上為基板處理裝置1的預涂布模式的動作說明。
(1.2.3維護模式的動作)
以下，對基板處理裝置1的維護模式的動作進行說明。在基板處理裝置1中，要適當?shù)剡M行清洗配管(吸引管理74、排出配管79、預備配管85、廢液配管87等)及抗蝕劑液泵81或更換抗蝕劑液等維護。
基板裝置1根據(jù)來自操作者的指示輸入選擇維護模式時，通過控制系統(tǒng)6使廢液閥86為開放狀態(tài)。
在基板處理裝置1中，如圖3及圖4所示，抗蝕劑液泵81的管814沿Z軸方向設置。即，抗蝕劑液泵81內(nèi)的抗蝕劑液的送液方向以沿Z軸方向的狀態(tài)設置，吸引口815的高度位置設置于比排出口816的高度位置低的位置上。
這樣，在本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置1中，通過將吸引口815及排出口816中高度位置較低設置的吸引口815側(cè)連接在廢液配管87上，在控制系統(tǒng)6使廢液閥86為開放狀態(tài)的情況下，能夠容易地抽取抗蝕劑液泵81內(nèi)的抗蝕劑液。
此外，在構(gòu)成抗蝕劑液的流路的管814的內(nèi)壁上不形成復雜的凸凹等，僅通過使廢液閥86為開放狀態(tài)就使得抗蝕劑液泵81內(nèi)的抗蝕劑液導引到廢液管87并被順暢地抽取。因而，能夠容易地進行清洗等維護。
此外，由于通過這種設置使抗蝕劑液泵81內(nèi)的氣也高效率地從上部抽去，還能夠容易地進行氣泡去除作業(yè)。
此外，在基板處理裝置1中，由于在廢液閥86為開放狀態(tài)時，開閉閥76也為開放狀態(tài)，還能夠高效率地回收狹縫噴嘴41內(nèi)的抗蝕劑液。再者，也可為在廢液閥86為開放狀態(tài)時，控制系統(tǒng)6通過控制未圖示的回收機構(gòu)真空吸引廢液配管87的結(jié)構(gòu)。在此場合，能夠更容易地抽取抗蝕劑液。
經(jīng)過特定的時間，結(jié)束排廢液、洗凈及去除處理時，基板處理裝置1在結(jié)束維護的同時在顯示部63上顯示維護作業(yè)結(jié)束。由此，操作者能夠得知基板處理裝置1已成為可以開始涂布處理狀態(tài)。
如上所述，在第1實施方式的基板處理裝置1中，送液機構(gòu)80進行排出動作及吸引動作時，不會象圖11所示的以往的活塞泵110那樣使處理液的流路(缸體111的內(nèi)壁)曝露在外部氣氛中，能夠防止顆粒的產(chǎn)生。
此外，由于送液機構(gòu)80通過收縮管814將處理液送液，能夠抑制處理液的流動的脈動，能夠高精度地送液。在基板處理裝置1的這樣的狹縫涂布機中，由于排出精度受相對狹縫噴嘴41的抗蝕劑液送液精度的影響很大，因此是特別有效的。
此外，由于在抗蝕劑液泵81中沒有使用以往的活塞泵110的密封件113那樣的磨耗部件(例如O形環(huán)等)，能夠抑制部件的更換頻率。此外，能夠抑制由于磨耗引起的顆粒的產(chǎn)生。
此外，由于抗蝕劑液泵81的內(nèi)部形狀為圓筒狀的簡單形狀(管814)，能夠容易地將抗蝕劑液泵81內(nèi)部的處理液排廢液。因而，因能夠容易地進行處理液的洗凈及去除，能夠容易地進行維護作業(yè)。特別是因與一般的波紋管泵相比處理液的置換性好，因此，適用于彩色抗蝕劑膜的涂布。
此外，通過在吸引口815及排出口816中較低地設置一方的高度位置，能夠使抗蝕劑液泵81內(nèi)的氣泡容易地從上部抽去，處理液能夠從下部容易地排廢液。由此也能使維護作業(yè)容易。
此外，控制系統(tǒng)6通過選擇由驅(qū)動驅(qū)動機構(gòu)82的驅(qū)動馬達821送液和由補給組件71送液，能夠根據(jù)基板處理裝置1的使用狀況進行送液。
此外，在基板處理裝置1中，通過選擇經(jīng)過抗蝕劑液泵81及吸引配管74將抗蝕劑液送液或經(jīng)過預備配管85將抗蝕劑液送液，能夠根據(jù)使用的處理液的狀況進行送液。
(2.第2實施方式)在第1實施方式的基板處理裝置1中，為由1個抗蝕劑液泵81將抗蝕劑液向狹縫噴嘴41送液的結(jié)構(gòu)。在此，在要處理的基板90體積較大，需要增加涂布處理的每1行程的排出量的情況下，以往是通過將抗蝕劑液泵81更換為排出量大的大型泵來應對的。但是由于這種大型的泵難以高精度地制造，其結(jié)果具有涂布精度降低的問題。在本發(fā)明中，如第1實施方式中所示的基板處理裝置1那樣，抗蝕劑液送液的泵并不限于1個，可以為多個。
圖6為示出根據(jù)該原理構(gòu)成的第2實施方式的基板處理裝置1的送液機構(gòu)80a與狹縫噴嘴51的連接關系圖。此外，對圖6中預備配管85等與第1實施方式的結(jié)構(gòu)大致相同，在此省略圖示。
本實施方式的基板處理裝置1的送液機構(gòu)80a在具有2個抗蝕劑液泵81a、81b與2個驅(qū)動機構(gòu)82a、82b這一點上與第1實施方式的基板處理裝置1不同。
圖7為示出抗蝕劑液泵81a、81b及驅(qū)動機構(gòu)82a、82b的視圖。抗蝕劑液泵81a及抗蝕劑液泵81b具有與第1實施方式大致相同的構(gòu)造。此外，驅(qū)動機構(gòu)82a及驅(qū)動機構(gòu)82b由于具有與第1實施方式的驅(qū)動機構(gòu)82大致同樣的構(gòu)造，被標以相同符號并省略對其說明。
各驅(qū)動馬達821為DD馬達，分別獨立地連接在控制系統(tǒng)6上，在第2實施方式的基板處理裝置1中，驅(qū)動機構(gòu)82a的安裝部件824固定在抗蝕劑液泵81a的結(jié)合部件813上，驅(qū)動機構(gòu)82b的安裝部件824固定在抗蝕劑液泵81b的結(jié)合部件813上。即、具有驅(qū)動機構(gòu)82a產(chǎn)生抗蝕劑液泵81a的驅(qū)動力，驅(qū)動機構(gòu)82b產(chǎn)生抗蝕劑液泵81b的驅(qū)動力的功能。
這樣，由于2個抗蝕劑液泵81a、81b由分別獨立的驅(qū)動機構(gòu)82a、82b驅(qū)動，控制系統(tǒng)6能夠分別獨立地控制抗蝕劑液泵81a和抗蝕劑液泵81b，能夠與狀況相適合地柔軟地控制抗蝕劑液的送液。詳見后述。
此外，如圖6所示，送液機構(gòu)80a的作為用于向狹縫噴嘴41導引抗蝕劑液的送液配管，排出配管79分支為第1配管79a和第2配管79b。
第1配管79a連通連接在抗蝕劑液泵81a的排出口816上，具有導引從抗蝕劑液泵81a排出的抗蝕劑液的功能。此外，第2配管79b連通連接在抗蝕劑液泵81b的排出口816上，為導引從抗蝕劑液泵81b排出的抗蝕劑液的配管。第1配管79a與第2配管79b各自的抗蝕劑液的流路的長度及粗細大致相同。第1配管79a與第2配管79b在連接部CP中連通連接，由各配管導引的抗蝕劑液在連接部CP中合流后，由排出配管79引導。第1配管79連接在設置于狹縫噴嘴41的Y軸方向(長度方向)中央部的供給口410上。
以下，對第2實施方式的基板處理裝置1的動作進行說明。由于本實施方式的基板處理裝置1在基板90的表面形成抗蝕劑膜的動作與第1實施方式的基板處理裝置1大致相同地進行，適當省略地進行說明。
首先，通過將基板90輸送到基板處理裝置1上來開始處理，線性馬達50、51使橋架結(jié)構(gòu)4向(+X)方向移動，同時由間隙傳感器42進行間隙測定，根據(jù)間隙傳感器42的輸出，升降機構(gòu)43、44調(diào)整狹縫噴嘴41的姿態(tài)。
此后，通過線性馬達50、51使橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動并將狹縫噴嘴41移動到排出開始位置，由狹縫噴嘴41開始掃描。
伴隨該狹縫噴嘴41的掃描的開始，在第2實施方式的基板處理裝置1中也從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液。具體地為，控制系統(tǒng)6在對開閉閥76及2個驅(qū)動馬達821施加控制信號，由狹縫噴嘴41進行掃描期間，開閉閥76為開放狀態(tài)，同時將各驅(qū)動馬達821向正方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，使抗蝕劑液泵81a、81b的結(jié)合部件813向(-Z)方向移動。
由于通過該動作，抗蝕劑液泵81a、81b的第1波紋管811伸長，同時第2波紋管812收縮，吸引到管814中的抗蝕劑液從各排出口816排出。即，在從抗蝕劑液泵81a的排出口816向第1配管79a排出抗蝕劑液的同時，從抗蝕劑液泵81b的排出口816向第2配管79b排出抗蝕劑液。
這樣排出的抗蝕劑液在連接部CP相互合流，由排出配管79向供給口410導引，并向狹縫噴嘴41供給。即，基板處理裝置1的狹縫噴嘴41的排出量為抗蝕劑液泵81a的排出量和抗蝕劑液泵81b的排出量的合計量。由此，在對于大型的基板90涂布抗蝕劑液的場合，即使是在狹縫噴嘴41必須排出比較多的抗蝕劑液的場合，送液機構(gòu)80a的泵也不會加大體積，能夠確保必要的排出量。因此，基板處理裝置1通過使用高精度的小型泵(抗蝕劑液泵81a、81b)，能夠不降低排出精度地應對基板90的體積增大。
此時，控制系統(tǒng)6控制抗蝕劑液泵81a的排出流量與抗蝕劑液泵81b的排出流量，以使從狹縫噴嘴41排出的抗蝕劑液的流量為用于形成所希望的膜厚的薄膜所需要的流量。在本實施方式的基板處理裝置1中，控制抗蝕劑液泵81a及抗蝕劑液泵81b的各自的結(jié)合部件813的移動速度，以使抗蝕劑液泵81a的排出流量與抗蝕劑液泵81b的排出流量大致相等，并且這些合計流量為所希望的狹縫噴嘴41的排出流量。
各結(jié)合部件813的移動速度通過控制驅(qū)動機構(gòu)82a及驅(qū)動機構(gòu)82b各自的驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)速度來實施。另一方面，如圖7所示，抗蝕劑液泵81a及抗蝕劑液泵81b為大致同樣的構(gòu)成。再者，在第1配管79a與第2配管79b中，抗蝕劑液的流路的長度及粗細大致相同。由于第2實施方式的基板處理裝置1的送液機構(gòu)80a具有這樣的構(gòu)造(所謂相似構(gòu)造)，控制系統(tǒng)6將2個驅(qū)動馬達821相互同步地控制，能夠容易地控制為抗蝕劑液泵81a的排出量與抗蝕劑液泵81b的排出流量相等。
此外，用于使抗蝕劑液泵81a的排出量與抗蝕劑液泵81b的排出量的合計流量成為用于形成所希望的膜厚的薄膜所需要的流量的驅(qū)動馬達821的速度分布通過預先實驗及預涂布處理等求得，根據(jù)該結(jié)果，如前所述地進行同步控制。
此外，由控制系統(tǒng)6對各驅(qū)動馬達821進行的控制并不限于如前所述的同步控制，也可以進行非同步地控制。例如因抗蝕劑液泵81a、81b及驅(qū)動機構(gòu)82a、82b中使用的各部件的使用環(huán)境及老化狀態(tài)不同，或這些部標的加工精度的不同，如果控制系統(tǒng)6將各驅(qū)動馬達821如前述地同步地控制，會產(chǎn)生抗蝕劑液泵81a的排出量與抗蝕劑液泵81b的排出量的變化并產(chǎn)生誤差的情況。但是，由于第2實施方式的基板處理裝置1具有2個驅(qū)動機構(gòu)82a、82b，能夠?qū)⒖刮g劑液泵81a與抗蝕劑液泵81b獨立地控制地構(gòu)成，在這種情況下控制系統(tǒng)6也可不進行同步控制，而進行將這些誤差消除的控制。
此外，也可不同時驅(qū)動抗蝕劑液泵81a與抗蝕劑液泵81b。例如也可在開始從狹縫噴嘴41排出時，首先只驅(qū)動抗蝕劑液泵81a，在由抗蝕劑液泵81a排出結(jié)束時刻，接著從抗蝕劑液泵81排出地控制。
即，只要在狹縫噴嘴41掃描抗蝕劑膜涂布區(qū)域期間，適當?shù)乜刂茝莫M縫噴嘴41的抗蝕劑液排出流量，可進行任何控制。
這樣，由于第2實施方式的基板處理裝置1為能夠?qū)Ω黩?qū)動馬達821獨立控制地構(gòu)成，所以能夠根據(jù)情況柔軟地控制送液狀態(tài)。因而，能夠?qū)崿F(xiàn)狹縫噴嘴41的高精度地排出。
橋架結(jié)構(gòu)4向(-X)方向移動，狹縫噴嘴41移動到排出結(jié)束位置時，控制系統(tǒng)6使開閉閥76為閉鎖狀態(tài)，同時停止各驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)，停止從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液。
以后，進行與第1實施方式的基板處理裝置1同樣的動作及控制，在對于基板90的處理結(jié)束后，將基板90從基板處理裝置1向裝置外搬出。
如上所述，由于在第2實施方式的基板處理裝置1中至少具有2個以上的抗蝕劑液泵81a、81b，確保了狹縫噴嘴4排出的抗蝕劑液的排出量的狀態(tài)。因而，由于能夠使用高精度的小型泵，與使用大型泵的情況相比能夠提高狹縫噴嘴41的排出精度。一般地，如果為每1行程的排出量為200cc以下，排出流量為0.2至10cc/sec的小型泵，能夠制造出排出流量精度為±5％左右。能夠得到在基板90上形成抗蝕劑膜時必要的排出精度。
此外，由于至少具有2個以上的驅(qū)動機構(gòu)82a、82b，分別將至少2個以上的抗蝕劑液泵81a、81b獨立地驅(qū)動，能夠根據(jù)情況狀態(tài)柔軟地控制送液流量。
此外，在第2實施方式的基板處理裝置1中具有2個抗蝕劑液泵81a、81b，但在將抗蝕劑液向狹縫噴嘴41送液的泵的數(shù)量并不限于此，也可以使用更多的泵。在以下的實施方式中也是同樣。
(3.第3實施方式)第2實施方式的基板處理裝置1為了驅(qū)動2個保護泵81a、81b而具有2個驅(qū)動機構(gòu)82a、82b，由各驅(qū)動機構(gòu)82a、82b獨立地驅(qū)動各抗蝕劑液泵81a、81b。因而，為了使抗蝕劑液泵81a與抗蝕劑液泵81b的排出流量相等，控制系統(tǒng)6將驅(qū)動部82a、82b同步地控制。但是，將2個抗蝕劑液泵81a、81b同步驅(qū)動的手法并不限于由控制系統(tǒng)6控制的情況，例如也可機械性地進行。
圖8為根據(jù)這種原理構(gòu)成的第3實施方式的基板處理裝置1的送液機構(gòu)80b與狹縫噴嘴41的連接關系的示意圖。再者，對于本實施方式的基板處理裝置1，對于與第1及第2實施方式同樣功能的構(gòu)成標以相應的符號，在此省略對其說明。
在第3實施方式的驅(qū)動機構(gòu)82c的螺母部件823a上固定有2個安裝部件824a、824b。安裝部件824a為具有與第2實施方式的驅(qū)動機構(gòu)82a的安裝部件824相同功能的部件，固定在螺母部件823a的抗蝕劑液泵81a一側(cè)。另一方面，安裝部件824b固定在螺母部件823a的抗蝕劑液泵81b一側(cè)，并且安裝在抗蝕劑液泵81b的結(jié)合部件813上。
以下，對第3實施方式的基板處理裝置1的動作進行說明。由于本實施方式的基板處理裝置1在基板90的表面上形成抗蝕劑膜的動作以與第1實施方式的基板處理裝置1大致相同的動作進行，適當省略對其說明。
首先，通過將基板90輸送到基板處理裝置1上來開始處理，線性馬達50、51使橋架結(jié)構(gòu)4向(+X)方向移動，同時由間隙傳感器42進行間隙測定，根據(jù)間隙傳感器42的輸出，升降機構(gòu)43、44調(diào)整狹縫噴嘴41的姿態(tài)。
此后，通過線性馬達50、51使橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動并將狹縫噴嘴41移動到排出開始位置，由狹縫噴嘴41開始掃描。
伴隨該狹縫噴嘴41的掃描的開始，在第3實施方式的基板處理裝置1中也從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液。
首先，控制系統(tǒng)6使開閉閥76為開放狀態(tài)，同時使驅(qū)動機構(gòu)82c的驅(qū)動馬達821正轉(zhuǎn)，使螺母部件823a向(-Z)方向移動。由此，抗蝕劑液泵81a的結(jié)合部件813與抗蝕劑液泵81b的結(jié)合部件813一體地以相同速度向(-Z)方向移動。由于抗蝕劑液泵81a與抗蝕劑液泵81b由大致相同構(gòu)造的部件構(gòu)成，各結(jié)合部件813以相等的速度移動時，與第2實施方式的基板處理裝置1同樣地，從各抗蝕劑液泵81a、81b排出的抗蝕劑液的量為相等。
橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動，狹縫噴嘴41移動到結(jié)束位置時，控制系統(tǒng)6使開閉閥76為閉鎖狀態(tài)，同時停止驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)，停止從狹縫噴嘴41的抗蝕劑液的排出。
以后，進行與第1實施方式的基板處理裝置1同樣的動作及控制，在對基板90的處理結(jié)束后，將基板90從基板處理裝置1向裝置外搬出。
如上所述，在第3實施方式的基板處理裝置1中也可獲得與第2實施方式的基板處理裝置1大致相同的效果。
此外，由于在第2實施方式的基板處理裝置1中，驅(qū)動機構(gòu)82c通過具有多個安裝部件824a、824b的螺母部件823a連接并驅(qū)動2個抗蝕劑液泵81a、81b，不需由控制系統(tǒng)6進行復雜的控制，能夠容易地使各自的排出流量相等地驅(qū)動抗蝕劑液泵81a、81b。
(4.第4實施方式)在上述實施方式中，對從一處向狹縫噴嘴41中供給抗蝕劑液的情況進行了說明，但供給抗蝕劑液的位置不僅限于一處。
圖9為根據(jù)這種原理構(gòu)成的第4實施方式的基板處理裝置1的本體2的正視圖。此外，在本實施方式的基板處理裝置1中，對于與第1及第2實施方式同樣功能的構(gòu)成也標以相同符號，省略對其說明。
在本實施方式的本體2上，與上述實施方式同樣地設有橋架構(gòu)造4。此外，橋架構(gòu)造4由升降機構(gòu)43、44及噴嘴支承部40構(gòu)成。
噴嘴支承部40的在Y軸方向兩側(cè)分別分開地設有送液機構(gòu)80c與送液機構(gòu)80f。即，各送液機構(gòu)80c、80d設置在狹縫噴嘴41的長度方向的兩端部上方。通過這種設置，本實施方式的基板處理裝置1能夠縮短從各抗蝕劑液泵81a、81b到狹縫噴嘴41的抗蝕劑液的流路，能夠提高狹縫噴嘴41的響應性。
圖10為第4實施方式的基板處理裝置1的狹縫噴嘴41與送液機構(gòu)80c、80d的連接狀態(tài)的示意圖。
在狹縫噴嘴4上以在Y軸方向排列的狀態(tài)設有用于供給抗蝕劑液的2個供給口(供給口401a及供給口401b)。即，供給口401a及供給口401b的配置位置在狹縫噴嘴41的長度方向的位置上各不相同。
送液機構(gòu)80c與送液機構(gòu)80d具有大致同樣的構(gòu)成，送液機構(gòu)80c具有抗蝕劑液泵81a、驅(qū)動機構(gòu)82a、排出管79c及開閉閥76a，送液機構(gòu)80d具有抗蝕劑液泵81b、驅(qū)動機構(gòu)82b、排出管79d及開閉閥76b。
在本實施方式中，抗蝕劑液泵81a的排出口816與排出管79c連通連接，排出管79c通過開閉閥76a安裝在狹縫噴嘴41的供給口410a上。此外，抗蝕劑液泵81b的排出口816與排出管79d連通連接，排出管79d通過開閉閥76b安裝在狹縫噴嘴41的供給口410b上。即，抗蝕劑液泵81a及抗蝕劑液泵81b一對一地連接在供給口401a及401b上。
控制系統(tǒng)6通過將根據(jù)2個間隙傳感器42的輸出求得的薄膜的膜厚值相互比較，檢測出形成的薄膜在Y軸方向的誤差，并調(diào)整向供給口410a及供給口410b供給的抗蝕劑液的送液量以消除該誤差。由于向供給口410a及供給口410b供給的抗蝕劑液的送液量由驅(qū)動各個抗蝕劑液泵81a、81b的各驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)速度決定，所以本實施方式的基板處理裝置1的控制系統(tǒng)6對各驅(qū)動馬達821進行與間隙傳感器42的輸出相應的反饋控制。
以下，對第4實施方式的基板處理裝置1的動作進行說明。由于本實施方式的基板處理裝置1在基板90的表面上形成抗蝕劑膜的動作以與第1實施方式的基板處理裝置1大致相同的動作進行，適當省略地說明。
首先，通過將基板90輸送到基板處理裝置1上來開始處理，線性馬達50、51使橋架結(jié)構(gòu)4向(+X)方向移動，同時由間隙傳感器42進行間隙測定，根據(jù)間隙傳感器42的輸出，升降機構(gòu)43、44調(diào)整狹縫噴嘴41的姿態(tài)。
此后，通過線性馬達50、51使橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動并將狹縫噴嘴41移動到排出開始位置，由狹縫噴嘴41開始掃描。
伴隨該狹縫噴嘴41的掃描的開始，在第4實施方式的基板處理裝置1中也從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液。
首先，控制系統(tǒng)6使開閉閥76a、76b各自為開放狀態(tài)，同時使各驅(qū)動機構(gòu)82c的各驅(qū)動馬達821正轉(zhuǎn)，使各螺母部件823a向(-Z)方向移動。由此，與第2實施方式同樣地從抗蝕劑液泵81a、81b排出抗蝕劑液。
在此，在第2及第3實施方式的基板處理裝置1中，從2個抗蝕劑液泵81a、81b排出的抗蝕劑液在向狹縫噴嘴41送液的途中合流，從1個供給口410向狹縫噴嘴41供給。
象第1至第3實施方式的基板處理裝置1那樣地、將抗蝕劑液從一處向狹縫噴嘴41供給的狹縫涂布機中，在隨著基板90的大型化、狹縫噴嘴41大型化時，離供給開口410最近的位置與離供給口410最遠位置之間、離供給口410的距離差增加。因而，在這些位置的抗蝕劑液的供給量中產(chǎn)生誤差，狹縫噴嘴41的排出流量在Y軸方向上不均勻。此外，狹縫噴嘴41大型化時，由于狹縫噴嘴41的加工精度降低，排出流量在Y軸方向上不均勻。
但是，在第4實施方式的基板處理裝置1中，從各抗蝕劑液泵81a、81b排出的抗蝕劑液分別通過獨立的流路(排出管79c及排出管79d)向抗蝕劑液噴嘴41的不同位置供給。因而，由于與第1至第3實施方式的基板處理裝置1相比，本實施方式的基板處理裝置1可將離供給口最近的位置與離供給口最遠的位置距離供給口的距離差抑制得較小，所以能夠控制狹縫噴嘴41的長度方向的排出流量的誤差。由此，能夠提高狹縫噴嘴41的排出精度。
橋架構(gòu)造4向(-X)方向移動，狹縫噴嘴41移動到結(jié)束位置時，控制系統(tǒng)6使開閉閥76a、76b為閉鎖狀態(tài)，同時停止驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)，停止從狹縫噴嘴41排出抗蝕劑液。
此后，通過與第1實施方式的基板處理裝置1同樣的動作，由間隙傳感器42測定與形成在基板90的表面上的抗蝕劑膜的間隙。計算部60根據(jù)來自2個間隙傳感器42的輸出求出各位置的抗蝕劑膜的厚度尺寸，通過將這些值相互比較，對形成的抗蝕劑膜的膜厚檢測Y方向上的誤差(膜厚差)。
控制系統(tǒng)6在對接著要處理的基板90排出抗蝕劑液時，根據(jù)由計算部60求出的膜厚差控制各驅(qū)動馬達821。即、控制各驅(qū)動馬達821的旋轉(zhuǎn)速度，以使形成的抗蝕劑膜的膜厚在Y軸方向上均勻(求出的膜厚差為“0”)。
這樣，基板處理裝置1根據(jù)間隙傳感器42的輸出能夠相應于作為控制對象的抗蝕劑膜的膜厚獨立地反饋控制各驅(qū)動馬達821。由此，即使在例如狹縫噴嘴41的加工精度由于大型化而降低的情況下，由于能夠控制抗蝕劑液泵81a、81b的送液量以消除Y軸方向的排出流量的誤差，所以能夠提高狹縫噴嘴41的排出精度。
與第1實施方式的基板處理裝置1同樣，抗蝕劑膜的檢查結(jié)束時，平臺3停止基板90的吸附，操作者或輸送機構(gòu)將基板90從保持面上取出，向下一處理工序輸送。
正如上述，第4實施方式的基板處理裝置1即使在使用隨著基板90的大型化、長度方向(Y軸方向)的長度為1m以上的大型的狹縫噴嘴41的場合，通過送液機構(gòu)80c、80d分別分開地設置在狹縫噴嘴41的兩端部，各自獨立地從2處向狹縫噴嘴41供給抗蝕劑液，能夠使狹縫噴嘴41的長度方向的抗蝕劑液供給量均勻化。因而，能夠提高狹縫噴嘴41的排出精度。
此外，通過根據(jù)間隙傳感器42的輸出，反饋控制驅(qū)動各抗蝕劑液泵81a、81b的各驅(qū)動馬達821，能夠進行對應于實測值的控制，進一步提高了排出精度。
再者，在本實施方式的基板處理裝置1中，對從2處向狹縫噴嘴供給抗蝕劑液的情況進行了說明，但也可為從更多的位置供給抗蝕劑液的結(jié)構(gòu)。
(5.變形例)以上對本發(fā)明的實施方式進行了說明，但本發(fā)明并不僅于上述實施方式，可以有各種變形。
例如，上述實施方式的基板處理裝置1從狹縫噴嘴排出抗蝕劑液，即所謂狹縫涂布機，但本發(fā)明并不限定于狹縫涂布機。
此外，驅(qū)動機構(gòu)82驅(qū)動的泵并不僅限于抗蝕劑液泵81那種形式的泵，例如也可以使用驅(qū)動活塞泵的活塞。即，只要是通過將可動部沿直線狀的軸驅(qū)動來送液的泵，可為任一種泵。
此外，抗蝕劑液泵81、81a、81b也可設置于狹縫噴嘴41的下方。在該場合，能夠?qū)⒖刮g劑液泵81及狹縫噴嘴41內(nèi)的抗蝕劑液進一步高效率地回收、排廢液。
此外，正如前述，為了提高狹縫噴嘴41的排出精度，希望縮短從抗蝕劑液泵81、81a、81b的各排出口816到狹縫噴嘴41(供給口401)的距離。在第1至第3實施方式的基板處理裝置1中，通過將送液機構(gòu)80、80a、80b設置在噴嘴支承部40上來縮短該距離。但也可例如通過將送液機構(gòu)80、80a、80b安裝在噴嘴支承部40的中央部附近來進一步縮短該距離。
此外，對在第4實施方式的基板處理裝置1那樣，狹縫噴嘴41具有多個供給口410a、410b的情況下，為了校正狹縫噴嘴41在Y軸方向的排出不均，使用反饋控制進行了說明，但反饋控制有效的并不僅限于這種情況。即，即使在第1至第3實施方式那樣狹縫噴嘴41僅具有單一的供給口410的場合，為了將從狹縫噴嘴41排出的抗蝕劑液的流量控制為適當量，也可根據(jù)由間隙傳感器42的輸出求出的抗蝕劑膜的膜厚進行各驅(qū)動馬達821的反饋控制。即，也可通過反饋控制來修正由預先實驗等求得的驅(qū)動馬達821的速度分布。
權利要求
1.一種在基板上形成特定的處理液的膜的基板處理裝置，其特征為，具有保持基板的保持臺、將所述特定的處理液向基板的主面上排出的狹縫噴嘴、供給所述特定處理液的供給機構(gòu)、將所述特定處理液向所述狹縫噴嘴送液的送液組件，所述送液組件具有可變更內(nèi)部容積的容器部件、在內(nèi)部構(gòu)成所述特定的處理液的流路的同時可變更內(nèi)部容積的管部件、可變更所述容器部件的內(nèi)部容積地驅(qū)動的驅(qū)動組件，所述管部件設置在所述容器部件的內(nèi)部，在所述容器部件與所述管部件之間的空間中內(nèi)封有間接液。
2.按照權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，所述容器部件由內(nèi)徑相互不同，并且內(nèi)部相互連通的第1及第2波紋管構(gòu)成，所述驅(qū)動組件使所述第1及第2波紋管的邊界附近向特定方向移動。
3.按照權利要求2所述的基板處理裝置，其特征為，所述狹縫噴嘴對于基板相對地移動并排出所述特定處理液，所述第1及第2波紋管的邊界附近移動的速度控制成與所述狹縫噴嘴的移動速度同步的速度。
4.按照權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，具有控制所述驅(qū)動組件的控制組件，所述控制組件具有控制所述送液組件送液的所述特定的處理液的送液量的定容量供給機構(gòu)和控制由所述送液組件送液的所述特定的處理液的流量的定流量供給機構(gòu)。
5.按照權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，在所述送液組件中設有分別位于所述管部件的兩端側(cè)的吸引口及排出口，配置成所述吸引口及所述排出口中某一個的高度位置比另一個低。
6.按照權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，所述供給機構(gòu)具有貯存所述特定的處理液的緩沖箱，所述緩沖箱在大氣壓下使所述送液組件吸引所述特定的處理液。
7.按照權利要求6所述的基板處理裝置，其特征為，所述供給機構(gòu)還具有向所述緩沖箱的液面高度設定為比所述狹縫噴嘴的排出口低。
8.按照權利要求6所述的基板處理裝置，其特征為，所述供給機構(gòu)還具有向所述緩沖箱中補給所述特定的處理液的補給組件，所述補給組件將貯存在所述緩沖箱中的所述特定的處理液以特定的壓力向所述狹縫噴嘴送液。
9.按照權利要求6所述的基板處理裝置，其特征為，所述供給機構(gòu)還具有測定貯存在所述緩沖箱中的所述特定的處理液的量的測定組件。
10.按照權利要求8所述的基板處理裝置，其特征為，還具有在由所述補給組件將所述特定的處理液加壓并送液的場合不通過所述送液組件地將所述特定的處理液導向所述狹縫噴嘴的預備流路。
11.按照權利要求10所述的基板處理裝置，其特征為，還具有在將所述特定的處理液向所述狹縫噴嘴送液的場合選擇通過驅(qū)動所述驅(qū)動組件送液還是通過所述補給組件送液的任一種的送液選擇組件，以及選擇通過所述送液組件送液還是通過所述預備流路送液的流路選擇組件。
12.按照權利要求11所述的基板處理裝置，其特征為，所述流路選擇組件具有開閉所述預備流路的閥。
13.按照權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，所述送液裝置具有多個所述容器部件和在所述多個容器部件的內(nèi)部均設置一個的多個所述管部件。
14.按照權利要求13所述的基板處理裝置，其特征為，還具有在所述多個容器部件與所述狹縫噴嘴之間形成所述特定的處理液的流路的送液配管，在所述狹縫噴嘴上設有多個處理液供給口，所述送液配管將所述多個處理液供給口與所述多個容器部件一對一地連接起來。
15.按照權利要求4所述的基板處理裝置，其特征為，還具有檢測形成于基板表面上的所述薄膜的厚度的膜厚檢測組件，所述控制組件根據(jù)所述膜厚檢測組件的檢測結(jié)果控制所述控制機構(gòu)，以使所述薄膜的厚度均勻。
16.按照權利要求13所述的基板處理裝置，其特征為，所述驅(qū)動機構(gòu)各自獨立地變更驅(qū)動所述多個容器部件的內(nèi)部容積。
17.按照權利要求13所述的基板處理裝置，其特征為，所述驅(qū)動機構(gòu)通過連接并驅(qū)動所述多個容器部件來變更所述多個容器部件的內(nèi)部容積地驅(qū)動。
18.按照權利要求17所述的基板處理裝置，其特征為，從所述多個容器部件各自到所述狹縫噴嘴之間的所述送液配管流路的長度及粗細各自大致相同。
19.一種將在基板上涂布的特定處理液進行送液的送液裝置，其特征為，具有產(chǎn)生用于將所述特定的處理液送液的驅(qū)動力的驅(qū)動馬達、由所述驅(qū)動馬達旋轉(zhuǎn)的螺桿、與所述螺桿螺紋結(jié)合的螺母部件、引導所述螺母部件的驅(qū)動方向的導向部件、以及控制所述驅(qū)動馬達的控制組件，所述驅(qū)動馬達為低速旋轉(zhuǎn)時穩(wěn)定性高的低速馬達，所述螺桿與所述螺母部件為由一體制造的部件構(gòu)成。
20.按照權利要求19所述的送液裝置，其特征為，所述螺桿的節(jié)距為3mm至6mm。
21.按照權利要求19所述的送液裝置，其特征為，所述驅(qū)動馬達在500rpm以下的低速旋轉(zhuǎn)中具有1％以下的速度精度，對于來自所述控制組件的控制具有217P/rev以上的分辨率精度。
全文摘要
提供一種不產(chǎn)生顆粒，將處理液高精度地送液的裝置。在將抗蝕劑液(處理液)向狹縫噴嘴(41)送液的送液機構(gòu)(80)中設有抗蝕劑液泵(81)和驅(qū)動機構(gòu)(82)。此外，在抗蝕劑液泵(81)上設有小直徑的第1波紋管、大直徑的第2波紋管、第1波紋管與第2波紋管的結(jié)合部件及構(gòu)成抗蝕劑液的流路的管。通過驅(qū)動機構(gòu)(82)向圖3中下方向移動結(jié)合部件，管的內(nèi)部容積減少，管內(nèi)的抗蝕劑液被向狹縫噴嘴(41)送液。此外，通過驅(qū)動機構(gòu)(82)向圖3中下方向移動結(jié)合部件，管的內(nèi)部容積增加，將抗蝕劑液向抗蝕劑液泵(81)吸引。
文檔編號F04B7/00GK1530176SQ20041002873
公開日2004年9月22日 申請日期2004年3月12日 優(yōu)先權日2003年3月14日
發(fā)明者高木善則, 福地毅, 北澤裕之, 安藤美奈子, 之, 奈子 申請人:大日本屏影象制造株式會社