專利名稱：真空吸力包渦流分散裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及適應(yīng)于彈性流體的泵送裝置領(lǐng)域，具體為一種真空吸力包渦流分
散裝置。
背景技術(shù)：
目前通行的真空吸力包多是采用浮子式控制閥，吸力包內(nèi)水位上升到設(shè)定水位時，浮子在浮力作用下上升，將負壓口堵塞，阻止水流進入負壓泵。其主要缺點是1.只能防止水流上升進入負壓泵，當(dāng)空氣渦流中含有大量水珠時，浮子無法阻止水珠進入負壓泵；2.當(dāng)吸力包工作介質(zhì)為污水時，吸力包內(nèi)很容易結(jié)垢，使浮子不能正常工作；3.浮子安裝·在吸力包內(nèi)部，發(fā)生故障時只能拆卸維修，很不方便。

實用新型內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、維護容易、適用范圍廣的真空輸送設(shè)備，本實用新型公開了一種真空吸力包渦流分散裝置。本實用新型通過如下技術(shù)方案達到發(fā)明目的一種真空吸力包渦流分散裝置，包括真空吸力包和進料管，進料管和真空吸力包下部的側(cè)壁密封連接，真空吸力包的頂部為排氣口，其特征是還包括下錐形盤、中錐形盤和上錐形盤，下錐形盤底面的直徑小于真空吸力包的內(nèi)徑，下錐形盤設(shè)于真空吸力包內(nèi)腔的下部且位于進料管的上方，下錐形盤的錐頂朝向排氣口 ；中錐形盤底面的直徑等于真空吸力包的內(nèi)徑，中錐形盤的頂部開有通孔，中錐形盤設(shè)于下錐形盤的上方，中錐形盤的錐頂背向排氣口 ；上錐形盤底面的直徑小于真空吸力包的內(nèi)徑，上錐形盤設(shè)于中錐形盤的上方，上錐形盤的錐頂超向排氣口。所述的真空吸力包渦流分散裝置，其特征是下錐形盤的錐頂角、中錐形盤的錐頂角和上錐形盤的錐頂角都在120° 150° ;下錐形盤底面的直徑和上錐形盤底面的直徑都為真空吸力包⑴內(nèi)徑的50% 70%;中錐形盤頂部通孔的直徑是中錐形盤底面直徑的5% 15%。真空吸力包渦流分散技術(shù)是一項新型的真空吸力包渦流控制技術(shù)，這項技術(shù)利用真空吸力包內(nèi)渦流分散原理，將真空吸力包內(nèi)含水空氣渦流通過多層導(dǎo)流板和細孔分流設(shè)計，使真空吸力包內(nèi)的含水空氣渦流在流動過程中反復(fù)改變流速、流向和分散，使渦流的動能不斷釋放，空氣渦流中的水珠不斷減速、停留、下落，確保真空吸力包吸入的污水不隨空氣渦流進入上方負壓泵，保障負壓泵在無水狀態(tài)下正常工作。本實用新型使用時，進料管和負壓泵連接，當(dāng)負壓泵工作時，真空吸力包內(nèi)存在自下至上的氣流，同時物料從進料管被吸入真空吸力包內(nèi)，氣流成為混雜有水分的空氣渦流；空氣渦流首先遇到下錐形盤的阻擋，空氣渦流分散后從下錐形盤四周繼續(xù)上行，由于四周通過面積遠大于進氣管路，可達五倍以上，因此空氣渦流在通過下錐形盤時改向并減速，改向減速時空氣渦流中的大部分水珠附著在下錐形盤的盤底，并順著下錐形盤錐形外側(cè)面流向外沿后滴落；空氣渦流通過下錐形盤后又遇到中錐形盤，空氣渦流再次改向從中錐形盤頂部的通孔繼續(xù)上行，改向減速時空氣渦流中的水珠附著在中錐形盤上，并順著中錐形盤錐形外側(cè)面流向中心后滴落；空氣渦流通過中錐形盤后又遇到上錐形盤，空氣渦流分散后從上錐形盤四周繼續(xù)上行，空氣渦流在通過上錐形盤時改向并減速，改向減速時空氣渦流中的水珠附著在上錐形盤的盤底，并順著上錐形盤錐形外側(cè)面流向外沿后滴落；這樣空氣渦流中的水珠基本被排除干凈。本實用新型的有益效果是1.空氣渦流中的所含的水珠在持續(xù)的改向和減速中不斷被滴落，確保真空吸力包I吸入的污水不隨空氣渦流進入上方負壓管路，保障負壓泵在無水狀態(tài)下正常工作；2.結(jié)構(gòu)簡單，沒有機械動作或行程，不會發(fā)生故障；3.免維護。

圖I是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下通過具體實施例進一步說明本實用新型。實施例I一種真空吸力包渦流分散裝置，包括真空吸力包I、進料管2、下錐形盤31、中錐形盤32和上錐形盤33，如圖I所示，具體結(jié)構(gòu)是進料管2和真空吸力包I下部的側(cè)壁密封連接，真空吸力包I的頂部為排氣口 11，下錐形盤31底面的直徑小于真空吸力包I的內(nèi)徑，下錐形盤31設(shè)于真空吸力包I內(nèi)腔的下部且位于進料管2的上方，下錐形盤31的錐頂朝向排氣口 11 ;中錐形盤32底面的直徑等于真空吸力包I的內(nèi)徑，中錐形盤31的頂部開有通孔，中錐形盤31設(shè)于下錐形盤31的上方，中錐形盤32的錐頂背向排氣口 11 ;上錐形盤33底面的直徑小于真空吸力包I的內(nèi)徑，上錐形盤33設(shè)于中錐形盤32的上方，上錐形盤33的錐頂超向排氣口 11。下錐形盤31的錐頂角、中錐形盤32的錐頂角和上錐形盤33的錐頂角都在120° 150°，本實施例都取135° ;下錐形盤31底面的直徑和上錐形盤33底面的直徑都為真空吸力包I內(nèi)徑的50% 70%，本實施例都取60% ;中錐形盤31頂部通孔的直徑是中錐形盤31底面直徑的5% 15%，本實施例取10%。本實施例使用時，進料管2和負壓泵連接，當(dāng)負壓泵工作時，真空吸力包I內(nèi)存在自下至上的氣流，同時物料從進料管2被吸入真空吸力包I內(nèi)，氣流成為混雜有水分的空氣渦流?？諝鉁u流首先遇到下錐形盤31的阻擋，空氣渦流分散后從下錐形盤31四周繼續(xù)上行，由于四周通過面積遠大于進氣管路，可達五倍以上，因此空氣渦流在通過下錐形盤31時改向并減速，改向減速時空氣渦流中的大部分水珠附著在下錐形盤31的盤底，并順著下錐形盤31錐形外側(cè)面流向外沿后滴落。空氣渦流通過下錐形盤31后又遇到中錐形盤32，空氣渦流再次改向從中錐形盤32頂部的通孔繼續(xù)上行，改向減速時空氣渦流中的水珠附著在中錐形盤32上，并順著中錐形盤32錐形外側(cè)面流向中心后滴落?？諝鉁u流通過中錐形盤32后又遇到上錐形盤33，空氣渦流分散后從上錐形盤33四周繼續(xù)上行，空氣渦流在通過上錐形盤33時改向并減速，改向減速時空氣渦流中的水珠附著在上錐形盤33的盤底，并順著上錐形盤33錐形外側(cè)面流向外沿后滴落；這樣空氣渦流中的水珠基本被排除干凈。·
權(quán)利要求1.一種真空吸力包渦流分散裝置，包括真空吸力包(I)和進料管(2)，進料管(2)和真空吸力包(I)下部的側(cè)壁密封連接，真空吸力包(I)的頂部為排氣口(11)，其特征是還包括下錐形盤(31)、中錐形盤(32)和上錐形盤(33)， 下錐形盤(31)底面的直徑小于真空吸力包(I)的內(nèi)徑，下錐形盤(31)設(shè)于真空吸力包⑴內(nèi)腔的下部且位于進料管⑵的上方，下錐形盤(31)的錐頂朝向排氣口(11)； 中錐形盤(32)底面的直徑等于真空吸力包(I)的內(nèi)徑，中錐形盤(31)的頂部開有通孔，中錐形盤(31)設(shè)于下錐形盤(31)的上方，中錐形盤(32)的錐頂背向排氣口(11)； 上錐形盤(33)底面的直徑小于真空吸力包(I)的內(nèi)徑，上錐形盤(33)設(shè)于中錐形盤(32)的上方，上錐形盤(33)的錐頂超向排氣口(11)。
2.如權(quán)利要求I所述的真空吸力包渦流分散裝置，其特征是下錐形盤(31)的錐頂角、中錐形盤(32)的錐頂角和上錐形盤(33)的錐頂角都在120° 150° ;下錐形盤(31)底面的直徑和上錐形盤(33)底面的直徑都為真空吸力包(I)內(nèi)徑的50% 70%;中錐形盤(31)頂部通孔的直徑是中錐形盤(31)底面直徑的5% 15%。
專利摘要本實用新型涉及適應(yīng)于彈性流體的泵送裝置領(lǐng)域，具體為一種真空吸力包渦流分散裝置。具體為一種真空吸力包渦流分散裝置。一種真空吸力包渦流分散裝置，包括真空吸力包(1)和進料管(2)，其特征是還包括下錐形盤(31)、中錐形盤(32)和上錐形盤(33)，下錐形盤(31)設(shè)于真空吸力包(1)內(nèi)腔的下部且位于進料管(2)的上方，下錐形盤(31)的錐頂朝向排氣口(11)；中錐形盤(31)設(shè)于下錐形盤(31)的上方，中錐形盤(32)的錐頂背向排氣口(11)；上錐形盤(33)設(shè)于中錐形盤(32)的上方，上錐形盤(33)的錐頂超向排氣口(11)。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，維護容易，適用范圍廣。
文檔編號F04B39/00GK202732275SQ20122034013
公開日2013年2月13日 申請日期2012年7月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月15日
發(fā)明者曹越 申請人:上海易之景和環(huán)境技術(shù)有限公司