本發(fā)明涉及用于隨著回旋渦旋盤的工作而進行穩(wěn)定的公轉的渦旋式壓縮機，更詳細地，涉及用于將由在隨著回旋渦旋盤的工作以旋轉軸為中心公轉并向上下方向移動的過程中發(fā)生的導銷的應力集中引起的變形及噪音最小化的渦旋式壓縮機。

背景技術：

通常，渦旋式壓縮機作為利用具有螺旋形的卷體的固定渦旋盤和相對上述固定渦旋盤進行回旋運動的回旋渦旋盤的壓縮機，是一種如下的裝置：隨著固定渦旋盤和回旋渦旋盤以相咬合的方式旋轉，在固定渦旋盤和回旋渦旋盤之間形成的壓縮室的容積隨著回旋渦旋盤的回旋運動而減少，由此，流體的壓力隨之上升，從而在形成于固定渦旋盤中心部的排出口中排出制冷劑。

上述渦旋式壓縮機具有在回旋渦旋盤回旋的過程中連續(xù)進行吸入、壓縮及排出的特征，由此，原則上不需要排出閥及吸入閥，由于部件數(shù)少，因而具有不僅結構簡單，還可進行高速旋轉的特征。并且，由于壓縮所需的扭矩的變動少，且連續(xù)進行吸入及壓縮，因而具有噪音及振動少的優(yōu)點。

在渦旋式壓縮機中，重要的一點為固定渦旋盤和回旋渦旋盤之間的泄漏及潤滑問題，要想防止在固定渦旋盤和回旋渦旋盤之間發(fā)生泄漏，就需要使卷體的端部和硬板部的表面緊貼，來防止經壓縮的制冷劑泄漏。相反，需要將由摩擦引起的阻力最小化，來使回旋渦旋盤相對固定渦旋盤可進行順暢的回旋運動，但上述泄漏問題和潤滑問題存在相抵關系。即，若使卷體的端部與硬板部的表面緊密緊貼，則雖然在泄漏方面有利，但由于摩擦增加，因而由噪音及磨損引起的受損增加。相反，若降低緊貼強度，則雖然減少摩擦，但由于密封力下降，因而增加泄漏。

因此，以往，在回旋渦旋盤或固定渦旋盤的背部面形成具有定義為排出壓力和吸入壓力之間的值的中間壓力的背壓室，來解決密封問題及摩擦減少問題。即，形成與在回旋渦旋盤和固定渦旋盤之間形成的多個壓縮室中的具有中間壓力的壓縮室相連通的背壓室，來使回旋渦旋盤和固定渦旋盤以適當?shù)某潭染o貼，從而可解決泄漏問題及潤滑問題。

另一方面，上述背壓室可位于回旋渦旋盤的底面或固定渦旋盤的上部面，在上述背壓室位于回旋渦旋盤的底面的情況下，存在背壓室的形態(tài)及位置隨著回旋運動而發(fā)生變化，使得回旋渦旋盤傾斜，發(fā)生振動及噪音的憂慮高，且為了防止泄漏而插入的O型圈磨損快的問題。另一方面，在上部背壓式的情況下，雖然結構相對復雜，但由于背壓室具有固定的形態(tài)及位置，因而具有固定渦旋盤傾斜的憂慮少，背壓室的密封也良好的優(yōu)點。

在具有如上所述的特征的渦旋式壓縮機中，在形成于回旋渦旋盤的硬板部上部面的圓周方向的多個放置槽放置有套環(huán)，在上述多個放置槽以與上述套環(huán)緊貼的狀態(tài)設有銷部件，以防止上述回旋渦旋盤的穩(wěn)定的公轉及自轉。

上述銷部件在隨著渦旋式壓縮機公轉而向上下方向移動的情況下，發(fā)生由與上述放置槽的碰撞引起的噪音，由此，應力集中在上述銷部件的特定位置，從而引起上述銷部件有可能受損的問題。

技術實現(xiàn)要素：

技術問題

本發(fā)明的實施例提供渦旋式壓縮機，可實現(xiàn)安裝于渦旋式壓縮機的回旋渦旋盤的環(huán)部件的穩(wěn)定的放置和旋轉以及配置于上述環(huán)部件的外周面的導銷的穩(wěn)定的工作。

技術方案

本發(fā)明第一實施例的渦旋式壓縮機的特征在于，其包括：回旋渦旋盤，放置于主框架的一面，沿著上述回旋渦旋盤的圓周方向形成有多個放置槽；高度差部，形成于上述放置槽；環(huán)部件，插入于上述放置槽，上述環(huán)部件的下部面緊貼于上述高度差部；以及導銷，上述導銷的一端固定于上述主框架，上述導銷的另一端向上述環(huán)部件的內徑方向延伸，上述導銷的端部維持與上述高度差部隔開的狀態(tài)。

本發(fā)明的特征在于，上述環(huán)部件以與上述放置槽的內周面維持第一間隙d的狀態(tài)插入于上述放置槽。

本發(fā)明的特征在于，上述高度差部呈與上述環(huán)部件的下部面相對應的形狀。

本發(fā)明的特征在于，上述高度差部的上部面維持與上述環(huán)部件的下部面緊貼的狀態(tài)。

本發(fā)明的特征在于，上述渦旋式壓縮機包括配置于上述回旋渦旋盤上部的固定渦旋盤，隨著上述回旋渦旋盤借助與上述固定渦旋盤的相對旋轉來對制冷劑進行壓縮及排出，從而發(fā)生壓力變化，插入于上述放置槽的環(huán)部件向上述放置槽的上下方向進行相對移動。

本發(fā)明的特征在于，上述環(huán)部件的上下方向移動距離維持比上述第一間隙d相對大的距離。

本發(fā)明的特征在于，以根據上述環(huán)部件的上下方向移動位移分散的狀態(tài)對維持與上述環(huán)部件的上側相接觸的狀態(tài)的導銷的第一區(qū)間b施加應力。

本發(fā)明的特征在于，上述導銷在上述環(huán)部件的外周面長度方向維持與上述環(huán)部件的外周面相接觸的狀態(tài)。

本發(fā)明的特征在于，上述環(huán)部件具有從上述高度差部的上部面延伸至上述放置槽的上部面的縱向長度L1。

本發(fā)明的特征在于，在上述放置槽的底面圓周方向以第一突出厚度T1向上述放置槽的底面中心方向突出，在上述放置槽的底面以第一突出高度H1朝向上述放置槽的上部突出。

本發(fā)明的特征在于，上述第一突出厚度T1以小于或等于上述環(huán)部件的厚度t1的方式延伸。

本發(fā)明的特征在于，上述環(huán)部件維持與上述高度差部的上部面部分接觸的狀態(tài)。

本發(fā)明的特征在于，上述高度差部的上部面延伸至上述環(huán)部件的下部面的中心位置。

本發(fā)明的特征在于，上述環(huán)部件以與沿著回旋渦旋盤的圓周方向形成的放置槽的內周面維持第一間隙的狀態(tài)插入于放置槽，上述第一間隙維持20微米以上且45微米以內的范圍，上述環(huán)部件的上下方向移動距離維持比上述第一間隙相對大的距離。

本發(fā)明第二實施例的渦旋式壓縮機包括：回旋渦旋盤，放置于主框架的一面，沿著上述回旋渦旋盤的圓周方向形成有多個放置槽；高度差部，形成于上述放置槽；環(huán)部件，插入于上述放置槽，上述環(huán)部件的下部面維持與上述高度差部部分接觸的狀態(tài)；以及導銷，上述導銷的一端固定于上述主框架，上述導銷的另一端向上述環(huán)部件的內徑方向延伸。

上述環(huán)部件包括：突出部，在上述環(huán)部件的圓周方向突出，以維持與上述高度差部相接觸的狀態(tài)；以及槽部220b，與上述突出部相鄰地朝向上述環(huán)部件的內側形成。

本發(fā)明的特征在于，上述突出部和槽部沿著上述環(huán)部件的圓周方向反復交替。

本發(fā)明的特征在于，上述突出部在上述環(huán)部件的下部面以相向的狀態(tài)配置。

本發(fā)明的特征在于，上述突出部以相當于上述環(huán)部件的厚度的長度突出。

本發(fā)明的特征在于，上述導銷與上述環(huán)部件的內周面維持第二間隙，上述導銷的下端在上述高度差部的上部面維持與上述高度差部的上部面隔開的狀態(tài)。

發(fā)明的效果

在本發(fā)明的實施例中，可穩(wěn)定地應對在隨著渦旋式壓縮機的回旋渦旋盤公轉而朝向固定渦旋盤相對移動的過程中產生的公差，從而可實現(xiàn)回旋渦旋盤的穩(wěn)定的公轉工作。

在本發(fā)明的實施例中，可通過改變結構來使環(huán)部件在放置槽可進行穩(wěn)定的相對移動，使得因上述環(huán)部件的相對旋轉而產生的摩擦力減少，并且，將對導銷施加的應力集中最小化，從而可預防上述導銷的變形及破損。

在本發(fā)明的實施例中，在回旋渦旋盤隨著背壓室的壓力變動而公轉并朝向固定渦旋盤進行相對移動的情況下，防止因導銷的端部與放置槽碰撞而產生的噪音及變形，來維持回旋渦旋盤的穩(wěn)定的工作，由此實現(xiàn)渦旋式壓縮機的穩(wěn)定的工作。

附圖說明

圖1為本發(fā)明第一實施例的渦旋式壓縮機的縱向剖視圖。

圖2為本發(fā)明第一實施例的回旋渦旋盤的分解立體圖。

圖3為圖2的結合立體圖。

圖4為圖3的A-A線的部分剖視圖。

圖5為示出根據本發(fā)明第一實施例的環(huán)部件的移動位移來對導銷施加的應力區(qū)間的圖。

圖6為本發(fā)明第二實施例的渦旋式壓縮機的縱向剖視圖。

圖7為本發(fā)明第二實施例的渦旋式壓縮機的結合立體圖。

圖8為圖7的A-A線的部分剖視圖。

圖9為本發(fā)明第三實施例的渦旋式壓縮機的縱向剖視圖。

圖10為示出在本發(fā)明第三實施例的高度差部放置有環(huán)部件的狀態(tài)的剖視圖。

圖11為示出本發(fā)明第三實施例的環(huán)部件的立體圖。

圖12至圖13為簡要示出本發(fā)明第三實施例的環(huán)部件的多種形態(tài)的圖。

具體實施方式

參照附圖，對本發(fā)明一實施例的渦旋式壓縮機的第一實施例進行說明。作為參照，圖1為本發(fā)明第一實施例的渦旋式壓縮機的第一實施例的渦旋式壓縮機的縱向剖視圖，圖2為本發(fā)明第一實施例的回旋渦旋盤的分解立體圖，圖3為圖2的結合立體圖，圖4為圖3的A-A線的部分剖視圖。

參照圖1至圖4，第一實施例的渦旋式壓縮機1包括：前方外殼2a，形成外觀，并形成于用于吸入制冷劑的吸入口位置；中間外殼2b；以及后方外殼2c，在上述中間外殼2b的內部內置有驅動部3和壓縮單元5，上述驅動部3包括定子、轉子以及插入于上述轉子的中心的旋轉軸4。

在上述驅動部3中產生的旋轉力向壓縮單元5傳遞，從而實現(xiàn)對制冷劑的壓縮和排出，上述壓縮單元5包括固定渦旋盤10和回旋渦旋盤100，上述固定渦旋盤10維持固定的狀態(tài)，上述回旋渦旋盤100以相對于上述固定渦旋盤10可進行偏心旋轉的方式設置，從而實現(xiàn)相對移動，并對制冷劑進行壓縮。

回旋渦旋盤100放置于主框架6的上部面，沿著上述回旋渦旋盤100的圓周方向形成有多個放置槽110，上述放置槽110包括：圓板形態(tài)的硬板部101；以及回旋卷體102，從上述硬板部101的外側延伸，并形成為螺旋形，在上述硬板部101的中心形成有背壓室。

沿著硬板部101的上部面圓周方向以規(guī)定間隔形成有多個放置槽110，環(huán)部件200插入于上述放置槽110的內部，上述環(huán)部件200以附圖所示的直徑和高度形成，上述環(huán)部件200放置于形成在上述放置槽110的下部面的高度差部120的上部面。

高度差部120呈與上述環(huán)部件200的下部面相對應的形狀，在本實施例的情況下，由于上述高度差部120的上部面為偏平結構，因而將上述環(huán)部件200的下部面也限定為偏平結構，但可以變更為其他形態(tài)。

回旋渦旋盤100借助旋轉軸4一邊相對于固定渦旋盤10公轉一邊對制冷劑進行吸入、壓縮及排出，此時，上述回旋渦旋盤100根據背壓室的壓力變動狀態(tài)朝向固定渦旋盤10反復上升和下降。例如，在背壓室的壓力低的情況下，上述回旋渦旋盤100朝向固定渦旋盤10上升，相反地，在背壓室的壓力高的情況下，上述回旋渦旋盤100向下側方向下降移動，從而進行相對移動。

以上述方式工作的回旋渦旋盤100在以旋轉軸4為中心進行公轉的過程中，為了防止根據背壓室的壓力變動狀態(tài)而發(fā)生的自轉，以緊貼上述環(huán)部件200的內側的狀態(tài)設置導銷300，上述導銷300的一端固定于主框架6，上述導銷300的另一端向上述環(huán)部件200的內徑方向延伸。

在渦旋式壓縮機1中，回旋渦旋盤100在借助旋轉軸4進行公轉的過程中，朝向固定渦旋盤10向上下方向發(fā)生移動位移，上述導銷300的向放置槽110延伸的端部不延伸至上述放置槽110的底面，而是以與上述放置槽110隔開的狀態(tài)配置，從而在上述回旋渦旋盤100朝向固定渦旋盤10向上部、下部方向發(fā)生移動位移的情況下，不發(fā)生由接觸引起的沖擊。

在后續(xù)部分中，對上述導銷和高度差部的配置狀態(tài)進行更詳細的說明，首先，對插入于放置槽的環(huán)部件進行說明。

參照圖2至圖4，環(huán)部件200以與放置槽110的內周面維持第一間隙d的狀態(tài)插入于上述放置槽110，當回旋渦旋盤100進行公轉時，由于環(huán)部件200需要與放置槽110的內周面進行相對旋轉，因而相比于完全緊貼而強行扣入的形態(tài)，優(yōu)選地，維持使上述環(huán)部件200在放置槽110的內周面進行相對旋轉的間隙。

作為一例，上述環(huán)部件200的外周面和放置槽110的內周面之間維持第一間隙d，優(yōu)選地，上述第一間隙d維持20微米以上且45微米以下的范圍。

上述范圍相當于環(huán)部件200與放置槽110的內周面不以強行扣入狀態(tài)結合而穩(wěn)定地進行相對旋轉的間隙范圍，上述環(huán)部件200的穩(wěn)定的旋轉可將對后述的導銷300的外周面施加的應力最小化，從而可以說上述環(huán)部件200的穩(wěn)定的旋轉是相當重要的。

例如，在上述環(huán)部件200與放置槽110維持20微米以下的間隙的情況下，當上述環(huán)部件200與放置槽110進行穩(wěn)定的相對旋轉時，摩擦力增加，導致有可能發(fā)生摩擦損失，因此由于在上述放置槽110進行相對旋轉的環(huán)部件200的不必要的摩擦損失，有可能使旋轉效率降低。并且，在上述環(huán)部件200與放置槽110維持45微米以上的間隙的情況下，雖然環(huán)部件200與放置槽110的內周面可進行順暢的相對旋轉，但有可能發(fā)生滑脫(slip)現(xiàn)象，因此，維持在相當于上述的第一間隙d的數(shù)值范圍內，就可實現(xiàn)環(huán)部件200的穩(wěn)定的相對旋轉。

在第一實施例的高度差部120中，當從上部觀察放置槽110時，上述高度差部120在上述放置槽110底面的圓周方向以第一突出厚度T1朝向上述放置槽110的底面中心方向(r方向)突出，上述高度差部120在上述放置槽110的底面以第一突出高度H1朝向上述放置槽110的上部突出，優(yōu)選地，上述第一突出厚度T1以小于或等于環(huán)部件200的厚度t1的方式延伸。這是因為在回旋渦旋盤100以上述高度差部120的上部面與環(huán)部件200的下部面相接觸的狀態(tài)進行公轉的情況下，當上述環(huán)部件200在上述高度差部120的上部面進行相對旋轉時，通過最小化不必要的摩擦力，來實現(xiàn)上述環(huán)部件200穩(wěn)定的旋轉。

因此，當上述回旋渦旋盤100以旋轉軸4為中心進行公轉時，插入于放置槽110的內側的環(huán)部件200可進行穩(wěn)定的相對旋轉。

環(huán)部件200的下部面維持與高度差部120的上部面緊貼的狀態(tài)，環(huán)部件200呈與上述高度差部120的下部面相對應的形狀，例如，在上述環(huán)部件200的下部面形成為偏平結構的情況下，上述高度差部120的上部面也可以形成為偏平結構，以與上述環(huán)部件200的下部面相對應。并且，雖然未在本實施例中圖示，但上述環(huán)部件200也可以形成為凸出的形態(tài)，以使隨著上述高度差部120和環(huán)部件200之間的相對旋轉而產生的摩擦力最小化。

環(huán)部件200以縱向長度L1延伸，上述縱向長度L1為從上述高度差部120的上部面延伸至上述放置槽110的底面的長度。并且，環(huán)部件200的上下方向移動距離維持比上述第一間隙d相對大的距離，例如，隨著上述渦旋式壓縮機1工作，環(huán)部件200向上述放置槽110的上下方向移動的移動位移至少在0.3毫米以上且最大在0.6毫米以下的范圍內進行移動。

上述環(huán)部件200移動范圍相當于根據背壓室的壓力變動狀態(tài)而向上下方向移動的移動位移，由此，上述環(huán)部件200在上述的移動位移向放置槽110的上下方向進行移動。

尤其，在本實施例中，在環(huán)部件200的上下方向上的移動位移大于上述的第一間隙d，在與借助公轉的環(huán)部件200進行穩(wěn)定的相對旋轉的過程中，為了根據背壓室的壓力變動狀態(tài)，來最小化在回旋渦旋盤100的上下方向上的移動位移和后述的導銷300的應力集中現(xiàn)象，環(huán)部件200的上下方向移動位移維持大于第一間隙d的距離。

導銷300維持與插入于放置槽110的環(huán)部件200的一側緊貼的狀態(tài)，當環(huán)部件200在放置槽110進行相對旋轉時，上述環(huán)部件200在向上下方向移動的過程中維持與導銷300的外周面相接觸的狀態(tài)。在上述導銷300的一端固定于主框架6的狀態(tài)下，上述導銷300沿著環(huán)部件200的長度方向延伸，上述導銷300的另一端在高度差部120的上部面維持與上述高度差部120的上部面隔開的狀態(tài)。

上述導銷300在放置槽110的上部面與上述放置槽110的上部面隔開，這是為了當回旋渦旋盤100在進行公轉的過程中朝向固定渦旋盤10向上下方向移動時，防止上述放置槽110的底面與導銷300的另一端發(fā)生由直接碰撞引起的噪音、或者上述導銷300的變形及破損。

上述導銷300的另一端借助回旋渦旋盤100的公轉以與放置槽110的底面隔開的狀態(tài)設置，因此上述回旋渦旋盤100朝向固定渦旋盤10向上側或下側方向移動的情況下，也不產生導銷300的另一端直接與上述底面相接觸的現(xiàn)象。

導銷300在環(huán)部件200的外周面長度方向維持與環(huán)部件200的外周面相接觸的狀態(tài)，在主框架6向環(huán)部件200的內側延伸的導銷300的情況下，以附圖為基準，上述環(huán)部件200的上側在導銷300的第一區(qū)間b發(fā)生應力集中，上述第一區(qū)間b相當于上述環(huán)部件200向回旋渦旋盤100的上下方向移動的移動位移，上述第一區(qū)間b并不以附圖所示的長度來限定。

如上所述，維持導銷300與環(huán)部件200相接觸的區(qū)間并不以特定位置來限定，在維持第一區(qū)間b的情況下，在上述導銷300中，因與環(huán)部件200的接觸而產生的應力并不僅集中在第一區(qū)間b的特定位置，而是被分散，因此在長期使用的情況下，也可通過防止因應力集中而受損及變形的現(xiàn)象，來實現(xiàn)回旋渦旋盤100的穩(wěn)定的工作。

參照圖5，例如，在回旋渦旋盤100朝向固定渦旋盤10進行相對移動的情況下，應力可集中在導銷300的A位置或B位置，但是，不向上述A位置、B位置反復施加集中應力，而以分散的狀態(tài)對第一區(qū)間b的其他位置施加應力，因而可穩(wěn)定地使用導銷300。

在導銷300中，回旋渦旋盤100可朝向固定渦旋盤10進行相對移動，當背壓室的壓力高時，上述回旋渦旋盤100下降，相反地，當背壓室的壓力低時，上述回旋渦旋盤100上升，因此，上述導銷300的下端不應與放置槽110的底面相接觸，為此，在本發(fā)明中，放置槽110的底面和導銷300的下端維持隔開的狀態(tài)。

并且，在導銷300的下端配置有上述的高度差部120，由于上述高度差部120并不配置于直接干擾上述導銷300的位置，因此，與回旋渦旋盤100的工作無關，不產生上述導銷300的下端受損或變形的現(xiàn)象。

參照附圖，對本發(fā)明的第二實施例的渦旋式壓縮機進行說明。本實施例與上述的實施例不同，具有放置于高度差部的環(huán)部件的下部面與上述高度差部的上部面維持接觸的面積不同的特征。

參照圖6至圖8，本實施例的渦旋式壓縮機1a包括：回旋渦旋盤100a，放置于主框架6的上部面，沿著上述回旋渦旋盤100a的圓周方向形成有多個放置槽110；高度差部120，形成于上述放置槽110；環(huán)部件200，插入于上述放置槽110，上述環(huán)部件200的下部面維持與上述高度差部120部分接觸的狀態(tài)；以及導銷300a，上述導銷300a的一端固定于上述主框架6，上述導銷300a的另一端向上述環(huán)部件200的內徑方向延伸。

在本實施例中，環(huán)部件200維持與高度差部120的上部面相接觸的狀態(tài)的特征與前述的第一實施例相同，但是，如附圖所示，不維持上述高度差部120的上部面和上述環(huán)部件200的下部面全部相接觸的狀態(tài)，而是僅維持一半與高度差部120的上部面面接觸的狀態(tài)，從而可維持上述環(huán)部件200在放置槽110進行旋轉時所產生的摩擦力相對減少的狀態(tài)。

例如，上述高度差部120的上部面延伸至上述環(huán)部件200下部面的中心位置，由于后述的導銷300a的下端以與放置槽110的底面不直接發(fā)生碰撞的方式隔開，因此在上述回旋渦旋盤100a朝向固定渦旋盤10進行相對移動的情況下，導銷300a的下端也不直接與高度差部120相接觸。并且，上述高度差部120的上部面經由環(huán)部件200的下部面，而不延伸至可與導銷300a相接觸的位置，因此在回旋渦旋盤100a進行相對移動的情況下，也不產生導銷300a的下端與高度差部120直接干擾的現(xiàn)象。

回旋渦旋盤100a借助旋轉軸4一邊相對于固定渦旋盤10進行公轉一邊對制冷劑進行吸入、壓縮及排出，此時，上述回旋渦旋盤100a根據制冷劑的狀態(tài)變化朝向固定渦旋盤10反復上升和下降。

例如，在背壓室的壓力低的情況下，上述回旋渦旋盤100a朝向固定渦旋盤10上升，相反地，在背壓室的壓力高的情況下，上述回旋渦旋盤100a向下側方向下降移動，并根據上述制冷劑的壓力狀態(tài)來進行相對移動。

以上述方式工作的回旋渦旋盤100a在以旋轉軸4為中心進行公轉的過程中，為了防止根據背壓室的壓力變動狀態(tài)而發(fā)生的自轉，以緊貼上述環(huán)部件200的內側的狀態(tài)設置導銷300a，上述導銷300a的一端固定于主框架6，上述導銷300a的另一端向上述環(huán)部件200的內徑方向延伸。

以上述方式工作的渦旋式壓縮機1a在借助旋轉軸4進行公轉的過程中，朝向固定渦旋盤10向上下方向發(fā)生移動位移，上述導銷300a的向放置槽110延伸的端部并不延伸至上述放置槽110的底面，而是以與上述放置槽110隔開的狀態(tài)配置，從而在上述回旋渦旋盤100a朝向固定渦旋盤10向上部、下部方向發(fā)生移動位移的情況下，不發(fā)生由接觸引起的沖擊。

參照圖8，環(huán)部件200以與放置槽110的內周面維持第一間隙d的狀態(tài)插入于上述放置槽110，當回旋渦旋盤100a進行公轉時，環(huán)部件200需要與放置槽110的內周面進行相對旋轉，因而，相比于完全緊貼而強行扣入的形態(tài)，優(yōu)選地，維持使上述環(huán)部件200在放置槽110的內周面進行相對旋轉的間隙。

作為一例，上述環(huán)部件200的外周面和放置槽110的內周面之間維持第一間隙d，優(yōu)選地，上述第一間隙d維持20微米以上且45微米以內的范圍。

上述范圍相當于環(huán)部件200與放置槽110的內周面不以強行扣入狀態(tài)結合而穩(wěn)定地進行相對旋轉的間隙范圍，上述環(huán)部件200的穩(wěn)定的旋轉可將對后述的導銷300a的外周面施加的應力最小化，從而可以說上述環(huán)部件200穩(wěn)定的旋轉是相當重要的。

在高度差部120中，當從上部觀察放置槽110時，上述高度差部120在上述放置槽110底面的圓周方向以第一突出厚度T1朝向上述放置槽110的底面中心方向(r方向)突出，上述高度差部120在上述放置槽110的底面以第一突出高度H1朝向上述放置槽110的上部突出，優(yōu)選地，上述第一突出厚度T1以小于或等于環(huán)部件200的厚度t1的方式延伸。

這是為了在回旋渦旋盤100a以上述高度差部120的上部面與環(huán)部件200的下部面相接觸的狀態(tài)進行公轉的情況下，當上述高度差部120的上部面進行相對旋轉時，上述環(huán)部件200通過最小化不必要的摩擦力，來實現(xiàn)上述環(huán)部件200的穩(wěn)定的旋轉。因此，當上述回旋渦旋盤100a以旋轉軸4為中心進行公轉時，插入于放置槽110的內側的環(huán)部件200可進行穩(wěn)定的相對旋轉。

環(huán)部件200的下部面維持與高度差部120的上部面緊貼的狀態(tài)，環(huán)部件200呈與上述高度差部120的下部面相對應的形狀，例如，在上述環(huán)部件200的下部面形成為偏平結構的情況下，上述高度差部120的上部面也可以形成為偏平結構，以與上述環(huán)部件200的下部面相對應。并且，雖然未在本實施例中圖示，但上述環(huán)部件200也可以形成為凸出的形態(tài)，從而最小化隨著上述高度差部120和環(huán)部件200之間的相對旋轉而產生的摩擦力。

環(huán)部件200以縱向長度L1延伸，上述縱向長度L1為從上述高度差部的上部面延伸至上述放置槽的上部面的長度，環(huán)部件200的上下方向移動距離維持比上述第一間隙相對大的距離，例如，隨著上述渦旋式壓縮機1工作，環(huán)部件200向上述放置槽110的上下方向移動的移動位移至少在0.32毫米以上且最大在0.53毫米以內的范圍進行移動。

上述環(huán)部件200的移動范圍相當于根據背壓室的壓力變動狀態(tài)而向上下方向移動的移動位移，上述移動位移相當于在回旋渦旋盤100a進行公轉過程中所產生的工作半徑，由此，上述環(huán)部件200在上述的移動位移向放置槽110的上下方向進行移動。

尤其，在本實施例中，在環(huán)部件200的上下方向上的移動位移大于上述的第一間隙d，在與借助公轉的環(huán)部件200進行穩(wěn)定的相對旋轉的過程中，為了最小化根據制冷劑的吸入及排出的回旋渦旋盤100a的上下方向上的移動位移和后述的導銷300a的應力集中現(xiàn)象，環(huán)部件200的上下方向移動位移維持大于第一間隙d的距離。

導銷300a維持與插入于放置槽110的環(huán)部件200的一側緊貼的狀態(tài)，當環(huán)部件200在放置槽110進行相對旋轉時，上述環(huán)部件200在向上下方向移動的過程中維持與導銷300a的外周面相接觸的狀態(tài)。在上述導銷300a的一端固定于主框架6的狀態(tài)下，上述導銷300a沿著環(huán)部件200的長度方向延伸，上述導銷300的另一端在高度差部120的上部面維持與上述高度差部120的上部面隔開的狀態(tài)。

上述導銷300a在放置槽110的上部面與上述放置槽110的上部面隔開，這是為了當回旋渦旋盤100a在進行公轉的過程中朝向固定渦旋盤10向上下方向移動時，防止上述放置槽110的底面與導銷300a的另一端發(fā)生由直接碰撞引起的的噪音、或者上述導銷300a的變形及破損。

上述導銷300a的另一端借助回旋渦旋盤100a的公轉以與放置槽110的底面隔開的狀態(tài)設置，因此上述回旋渦旋盤100a朝向固定渦旋盤10向上側或下側方向移動的情況下，由于導銷300a的另一端直接與上述底面相接觸，因此不發(fā)生沖擊。

參照附圖，對本發(fā)明第三實施例的渦旋式壓縮機進行說明。本實施例與上述的實施例的不同，放置于高度差部的環(huán)部件的下部面并不在整個區(qū)間與上述高度差部的上部面相接觸，而是以細化的狀態(tài)與上述高度差部的上部面維持部分接觸。

參照圖9至圖11，本實施例的渦旋式壓縮機1b包括：回旋渦旋盤100b，放置于主框架6的上部面，沿著上述回旋渦旋盤100b的圓周方向形成有多個放置槽110b；高度差部120b，形成于上述放置槽110b；環(huán)部件200b，插入于上述放置槽110b，上述環(huán)部件200b的下部面維持與上述高度差部120b部分接觸的狀態(tài)；以及導銷300b，上述導銷300b的一端固定于上述主框架6，上述導銷300b的另一端向上述環(huán)部件200b的內徑方向延伸。作為參照，高度差部120b的結構與第一實施例中的結構相似，因此省略詳細說明。

作為一例，環(huán)部件200b包括：突出部210b，在上述環(huán)部件200b的圓周方向突出，以與上述高度差部120b維持相接觸的狀態(tài)；槽部220b，與上述突出部210b相鄰，并朝向上述環(huán)部件200b的內側形成，上述突出部210b和槽部220b沿著上述環(huán)部件200b的圓周方向反復交替。即，若突出部210b朝向環(huán)部件200b的下側突出，則與上述突出部210b相鄰的槽部220b形成為向內側凹陷的形態(tài)或如圖所示的四角截面形態(tài)，突出部210b和槽部220b以上述形態(tài)反復配置。

突出部210b雖然維持與高度差部120b的上部面相接觸的狀態(tài)，但并不在上述高度差部120b的上部面的整個區(qū)域維持面接觸的狀態(tài)，而是僅在上述突出部210b維持接觸的狀態(tài)，因此在上述環(huán)部件200b在高度差部120b的上部面進行相對旋轉的情況下，也可將摩擦力最小化，從而可實現(xiàn)上述環(huán)部件200b的穩(wěn)定的相對旋轉。

突出部210b的圓周方向長度和槽部220b的圓周方向長度能夠以相似的長度延伸，或者，上述槽部220b能夠以相對長的長度延伸，并不局限于圖中所示的長度。

參照圖12，突出部210b在上述環(huán)部件200b的下部面以相向的狀態(tài)配置，在放置于高度差部120b的上部面的突出部210b的情況下，當上述突出部210b與放置槽110b的外周面進行相對旋轉時所產生的摩擦力大致分為兩種，一種是在壁面產生的壁面摩擦力，一種是在突出部210b和高度差部120b的上部面所產生的突出部摩擦力，通過回旋渦旋盤100b的公轉，上述環(huán)部件200b的隨著旋轉的摩擦力最小化，這可使旋轉變得容易。尤其，在環(huán)部件200b的內周面和導銷300b的外周面之間所產生的摩擦力中，在上述環(huán)部件200b在放置槽110b維持不穩(wěn)定的旋轉的狀態(tài)的情況下，可導致因與上述導銷300b的摩擦而發(fā)生的應力集中增加，因此環(huán)部件200b的順暢的旋轉和摩擦力減少具有相當重要的關系。

因此，通過使環(huán)部件200b進行穩(wěn)定的旋轉，并將摩擦力最小化，可實現(xiàn)回旋渦旋盤100b的穩(wěn)定的公轉。

優(yōu)選地，突出部210b以相當于環(huán)部件200b的厚度的長度突出，在突出長度以長于圖中所示的長度延伸的情況下，可產生可減少環(huán)部件200b的重量來實現(xiàn)輕量化的效果，但考慮到上述突出部210b的破損及變形，以圖中所示的長度延伸，并以相當于厚度的長度突出，從而維持結構剛度的穩(wěn)定性，最小限度地維持隨著環(huán)部件200b的旋轉而產生的摩擦力，因此將隨著旋轉而產生的不必要的摩擦力最小化。

參照圖13，本發(fā)明另一實施例的環(huán)部件200b以圖中所示的形態(tài)延伸，并以與突出部210b相向的狀態(tài)延伸，上述突出部210b的突出的長度以與環(huán)部件200b的厚度相似的長度延伸，并以與上述環(huán)部件200b相向的狀態(tài)配置，突出部210b和槽部220b反復配置。

在本實施例中，突出部210b在高度差部120的上部面維持與高度差部120的上部面接觸規(guī)定區(qū)間的狀態(tài)，在上述突出部210b中，當假設高度差部120上部面的總面積為100％時，上述突出部210b所接觸的面積在總面積的50％以內的范圍維持面接觸，從而將因環(huán)部件200b的旋轉而產生的摩擦最小化，且可實現(xiàn)回旋渦旋盤100的穩(wěn)定的旋轉。

產業(yè)上的可利用性

在本實施例的渦旋式壓縮機中，導銷的端部維持與回旋渦旋盤的放置槽隔開的狀態(tài)，因而可提供可實現(xiàn)回旋渦旋盤的穩(wěn)定的公轉工作的渦旋式壓縮機。