本發(fā)明涉及一種真空泵及質(zhì)量分析裝置。

背景技術(shù)：

渦輪分子泵(turbo-molecular pump)等真空泵作為可生成潔凈的高真空環(huán)境的泵而用于各種裝置。作為這種裝置的一例，有質(zhì)量分析器。在質(zhì)量分析器中，四極桿(quadrupole rod)或檢測(cè)器中的真空度設(shè)定為比離子源中的真空度高5倍至10倍左右。因此，已知有包含多個(gè)吸氣口，以能夠利用一臺(tái)真空泵應(yīng)對(duì)這種裝置的真空泵(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

在專利文獻(xiàn)1所述的真空泵中，包括第1渦輪分子平臺(tái)及第2渦輪分子平臺(tái)以及霍爾維克(Holweck)平臺(tái)，并且包括可流入至第1渦輪分子平臺(tái)的第1吸氣口、可流入至第1渦輪分子平臺(tái)與第2渦輪分子平臺(tái)之間的第2吸氣口、以及可流入至霍爾維克平臺(tái)的第3吸氣口。在霍爾維克平臺(tái)的定子(stator)側(cè)，形成有與所述第3吸氣口連通的貫通孔。

[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]

[專利文獻(xiàn)]

[專利文獻(xiàn)1]日本專利特開(kāi)2003-129990號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

[發(fā)明所要解決的問(wèn)題]

然而，在霍爾維克平臺(tái)的定子中形成有多個(gè)螺旋槽，在所述多個(gè)螺旋槽的各個(gè)中進(jìn)行氣體排出。但是，在專利文獻(xiàn)1所述的真空泵中，所述貫通孔僅貫通于多個(gè)螺旋槽之中的一部分螺旋槽，所以在每個(gè)螺旋槽內(nèi)氣體的流量不同。其結(jié)果為：霍爾維克平臺(tái)的吸氣側(cè)壓力升高，從而導(dǎo)致泵整體的排氣性能的惡化。

[解決問(wèn)題的技術(shù)手段]

本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的真空泵包括：第1泵平臺(tái)；第2泵平臺(tái)，設(shè)置在比所述第1泵平臺(tái)更靠泵下游側(cè)的位置，包括沿內(nèi)周面圓周方向交替地形成有多個(gè)螺紋槽及螺紋牙的圓筒狀定子、以及設(shè)置在所述圓筒狀定子的內(nèi)周側(cè)的圓筒狀轉(zhuǎn)子(rotor)；第1吸氣口，設(shè)置在比所述第1泵平臺(tái)更靠上游側(cè)的位置；以及第2吸氣口，設(shè)置在比所述第1泵平臺(tái)更靠下游側(cè)的位置，與所述第2泵平臺(tái)連通；并且在所述圓筒狀定子上，形成有貫通所述圓筒狀定子且與形成于內(nèi)周面的一個(gè)以上的所述螺紋槽連通的一個(gè)以上的貫通孔，形成于所述圓筒狀定子的所述一個(gè)以上的貫通孔的各圓周方向尺寸的合計(jì)被設(shè)定為所述圓筒狀定子的外周面上的所述第2吸氣口所對(duì)向的區(qū)域的圓周方向尺寸以上，并且包含將從所述第2吸氣口流入的氣體引導(dǎo)至所述貫通孔所貫通且與所述第2吸氣口所對(duì)向的區(qū)域相離的螺紋槽的氣體通路。

在更優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述氣體通路包含形成于所述圓筒狀定子的外周面的槽及形成于以覆蓋所述圓筒狀定子的外周側(cè)的方式而設(shè)置的泵殼體的內(nèi)周面的槽中的至少一者。

在更優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述氣體通路是以與所述貫通孔的開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域相對(duì)向的方式而形成。

本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的質(zhì)量分析裝置包括：所述真空泵；第1分析單元；第2分析單元，在壓力高于所述第1分析單元的壓力區(qū)域內(nèi)工作；第1腔室(chamber)，收納所述第1分析單元，并包含連接所述真空泵的第1吸氣口的第1排氣口；以及第2腔室，收納所述第2分析單元，并包含連接所述真空泵的第2吸氣口的第2排氣口。

[發(fā)明的效果]

根據(jù)本發(fā)明，在包含多個(gè)吸氣口的真空泵中，可實(shí)現(xiàn)排氣性能的提高。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的真空泵的第1實(shí)施方式的一例的外觀立體圖。

圖2是沿軸方向?qū)⒄婵毡眉右云书_(kāi)的剖面圖。

圖3是圖2的A1-A1剖面圖。

圖4是表示第1螺桿定子的內(nèi)周面?zhèn)鹊男螤畹恼归_(kāi)圖。

圖5(a)及圖5(b)是對(duì)比地表示本實(shí)施方式的泵構(gòu)成與現(xiàn)有的真空泵的構(gòu)成的圖。

圖6是表示所述第1實(shí)施方式的第1變形例的圖。

圖7是表示所述第1實(shí)施方式的第2變形例的圖。

圖8(a)及圖8(b)是表示第2實(shí)施方式的一例的圖。

圖9是表示圖8(a)所示的第1螺桿定子的外周面?zhèn)鹊恼归_(kāi)圖。

圖10(a)及圖10(b)是表示圖9的D1-D1剖面及D2-D2剖面的圖。

圖11是表示質(zhì)量分析裝置的一例的圖。

圖12是表示不貫通螺紋牙時(shí)的第1螺桿定子的展開(kāi)圖。

[符號(hào)的說(shuō)明]

1：真空泵

10：軸

20：第1渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子

21：第1渦輪機(jī)葉片段

22：第1固定葉片段

23、33、50：間隔件

34：圓板部

60a～60c、600a：貫通孔

30：第2渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子

31：第2渦輪機(jī)葉片段

32：第2固定葉片段

40：磁鐵保持器

41：保持器支撐部

42、84：滾珠軸承

43、44：永久磁鐵

60：第1螺桿定子

60G1、60G2、700、701：氣體通路

61：第2螺桿定子

62：第1圓筒轉(zhuǎn)子

63：第2圓筒轉(zhuǎn)子

70：第1殼體

71：第1吸氣口

71a～73a：密封圈槽

72：第2吸氣口

73：第3吸氣口

75：凸緣部

80：第2殼體

81、82：排氣通路

83：軸承保持器

85：排氣端口

86：散熱鰭片

90：馬達(dá)轉(zhuǎn)子

91：馬達(dá)定子

100：質(zhì)量分析裝置

110：質(zhì)量分析部

112：加熱塊

113：第1中間室

114：第2中間室

115：分析室

120：去溶劑管

121：第1離子透鏡

122：撇渣器

123：八極裝置

124：聚焦透鏡

125：入口透鏡

126：第1四極桿

127：第2四極桿

128：檢測(cè)器

131、132、133：排氣口

150：離子化室

151：離子化用噴霧器

152：配管

601：螺紋牙

DL：虛線

G：箭頭

GL1～GL11：螺紋槽

HP：霍爾維克(Holweck)泵平臺(tái)

L1：與第3吸氣口73相對(duì)向的定子外周面區(qū)域的圓周方向尺寸

L2：貫通孔60的圓周方向尺寸

L2a：貫通孔60a的圓周方向尺寸

L2b：貫通孔60b的圓周方向尺寸

L3：與氣體通路700相對(duì)應(yīng)的以兩點(diǎn)點(diǎn)劃線TDCL表示的區(qū)域的圓周方向尺寸

LC：液相色譜部

TDCL：兩點(diǎn)點(diǎn)劃線

TP1：第1渦輪分子泵平臺(tái)

TP2：第2渦輪分子泵平臺(tái)

W1：與第3吸氣口相對(duì)向的定子外周面區(qū)域的軸方向尺寸

W2：貫通孔60a的軸方向尺寸

W3：與氣體通路700相對(duì)應(yīng)的以兩點(diǎn)點(diǎn)劃線TDCL表示的區(qū)域的軸方向尺寸

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖對(duì)用以實(shí)施本發(fā)明的方式進(jìn)行說(shuō)明。

-第1實(shí)施方式-

圖1是表示本發(fā)明的真空泵的一個(gè)實(shí)施方式的外觀立體圖。真空泵1包括第1殼體70及第2殼體80。在第1殼體70上，設(shè)置有形成有第1吸氣口71、第2吸氣口72及第3吸氣口73的凸緣(flange)部75。在第1吸氣口71、第2吸氣口72及第3吸氣口73上，分別形成有安裝密封圈(seal ring)的密封圈槽71a、密封圈槽72a、密封圈槽73a。如下所述，在第2殼體80中設(shè)置有馬達(dá)(motor)，在第2殼體80的表面(真空泵1的底面)形成有散熱鰭片86。

圖2是沿軸方向?qū)⒄婵毡?加以剖開(kāi)的剖面圖。另外，圖3是圖2的A1-A1剖面圖。在第1殼體70的內(nèi)部，設(shè)置有固定有第1渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子(turbinerotor)20、第2渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子30及馬達(dá)轉(zhuǎn)子90的軸(shaft)10。軸10由使用永久磁鐵43、永久磁鐵44的磁軸承及滾珠軸承(ball bearing)84所支撐。設(shè)置在馬達(dá)轉(zhuǎn)子90的外周側(cè)的馬達(dá)定子91保持于第2殼體80。滾珠軸承84保持于固定在第2殼體80的軸承保持器(bearing holder)83。

永久磁鐵44固定在形成于軸10的圖示右端部的凹部?jī)?nèi)。配置在永久磁鐵44的內(nèi)側(cè)的永久磁鐵43保持于磁鐵保持器40。磁鐵保持器40固定在保持器支撐部41，所述保持器支撐部41固定在第1殼體70。在磁鐵保持器40上，設(shè)置有滾珠軸承42。滾珠軸承42是作為對(duì)軸10的離心旋動(dòng)(centrifugal whirling)進(jìn)行限制以使永久磁鐵44與永久磁鐵43不接觸的限制構(gòu)件而發(fā)揮作用。

在第1渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子20上，沿軸方向形成有多段包含多個(gè)渦輪機(jī)葉片的第1渦輪機(jī)葉片段21。相對(duì)于多個(gè)第1渦輪機(jī)葉片段21，沿軸方向交替地配置有包含多個(gè)渦輪機(jī)葉片的第1固定葉片段22。第1渦輪分子泵平臺(tái)TP1由所述第1渦輪機(jī)葉片段21及第1固定葉片段22所構(gòu)成。

在第2渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子30上，沿軸方向形成有多段包含多個(gè)渦輪機(jī)葉片的第2渦輪機(jī)葉片段31。相對(duì)于多個(gè)第2渦輪機(jī)葉片段31，沿軸方向交替地配置有包含多個(gè)渦輪機(jī)葉片的第2固定葉片段32。第2渦輪分子泵平臺(tái)TP2由所述第2渦輪機(jī)葉片段31及第2固定葉片段32所構(gòu)成。第1固定葉片段22及第2固定葉片段32的軸方向(圖示左右方向)上的定位是通過(guò)間隔件(spacer)23、間隔件33、間隔件50來(lái)進(jìn)行。

在第2渦輪機(jī)轉(zhuǎn)子30的比第2渦輪機(jī)葉片段31更靠泵下游側(cè)(圖示左側(cè))的位置，形成有圓板部34。在圓板部34，固定有第1圓筒轉(zhuǎn)子62及第2圓筒轉(zhuǎn)子63。第2圓筒轉(zhuǎn)子63配置在第1圓筒轉(zhuǎn)子62的內(nèi)周側(cè)。在第1圓筒轉(zhuǎn)子62的外周側(cè)設(shè)置有第1螺桿定子60，在第1圓筒轉(zhuǎn)子62與第2圓筒轉(zhuǎn)子63之間設(shè)置有第2螺桿定子61。在第1螺桿定子60上，在與第1殼體70的第3吸氣口73相對(duì)向的位置，形成有貫通孔60a。

如圖3所示，在第1螺桿定子60的內(nèi)周面、第2螺桿定子61的外周面及內(nèi)周面、以及第2圓筒轉(zhuǎn)子63的內(nèi)周面所對(duì)向的第2殼體80的對(duì)向面上，分別形成有螺紋槽及螺紋牙?；魻柧S克(Holweck)泵平臺(tái)HP由第1圓筒轉(zhuǎn)子62、第2圓筒轉(zhuǎn)子63、第1螺桿定子60、第2螺桿定子61、以及形成于第2殼體80的對(duì)向面的螺紋槽及螺紋牙所構(gòu)成。

從圖2的第1吸氣口71流入的氣體通過(guò)第1渦輪分子泵平臺(tái)TP1排出至第1渦輪分子泵平臺(tái)TP1的下游側(cè)。另外，從第2吸氣口72流入的氣體、以及經(jīng)第1渦輪分子泵平臺(tái)TP1排出的氣體通過(guò)第2渦輪分子泵平臺(tái)TP2而排出至第2渦輪分子泵平臺(tái)TP2的下游側(cè)。經(jīng)第2渦輪分子泵平臺(tái)TP2排出的氣體、以及從第3吸氣口73流入的氣體通過(guò)霍爾維克泵平臺(tái)HP而排出。經(jīng)霍爾維克泵平臺(tái)HP排出的氣體通過(guò)形成于第2殼體80的排氣通路81、排氣通路82，從排氣端口85排出。第1吸氣口71、第2吸氣口72、第3吸氣口73的壓力P是以P(71)＜P(72)＜P(73)的方式越靠下游側(cè)越高。

圖4是表示第1螺桿定子60的內(nèi)周面?zhèn)鹊男螤畹恼归_(kāi)圖。在第1螺桿定子60的內(nèi)周面(即，與第1圓筒轉(zhuǎn)子62相對(duì)向的面)，交替地形成有螺紋槽及螺紋牙。在圖4所示的示例中，形成有十個(gè)螺紋槽GL1～螺紋槽GL10及十個(gè)螺紋牙601。螺紋槽GL1～螺紋槽GL10及螺紋牙601從吸氣側(cè)向排氣側(cè)沿轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)方向傾斜。

形成于第1螺桿定子60的貫通孔60a是以從螺紋槽GL3跨越至螺紋槽GL7的方式，在第1螺桿定子60的圓周方向上細(xì)長(zhǎng)地形成。另一方面，虛線DL表示與第3吸氣口73相對(duì)向的定子外周面區(qū)域的展開(kāi)形狀，即，將圓弧狀區(qū)域加以展開(kāi)而形成為平面狀區(qū)域時(shí)的形狀。另外，兩點(diǎn)點(diǎn)劃線TDCL表示形成于第1殼體70的內(nèi)周面的氣體通路700的展開(kāi)形狀。氣體通路700是以從第3吸氣口73沿圓周方向延伸的方式而形成。

貫通孔60a的圓周方向尺寸(圖示左右方向)設(shè)定為L(zhǎng)2，軸方向尺寸(圖示上下方向尺寸)設(shè)定為W2。同樣地，與第3吸氣口73相對(duì)向的定子外周面區(qū)域的圓周方向尺寸設(shè)定為L(zhǎng)1，軸方向尺寸設(shè)定為W1。另外，與氣體通路700相對(duì)應(yīng)的以兩點(diǎn)點(diǎn)劃線TDCL表示的區(qū)域的圓周方向尺寸設(shè)定為L(zhǎng)3，軸方向尺寸設(shè)定為W3。在圖4所示的示例中，這些尺寸是設(shè)定為L(zhǎng)1≦L2≦L3、以及W1＝W3≦W2。

通過(guò)設(shè)定為L(zhǎng)1≦L2，可將從第3吸氣口73流入的氣體有效地導(dǎo)入至螺紋槽內(nèi)。相反地，當(dāng)設(shè)定為L(zhǎng)1＞L2時(shí)，從第3吸氣口73至第3吸氣口73未對(duì)向的貫通孔區(qū)域?yàn)橹沟碾妼?dǎo)(conductance)變小，相對(duì)于從第3吸氣口73流入的氣體量，通過(guò)螺紋槽而排出的氣體流量降低。其結(jié)果為：第3吸氣口73的壓力有可能上升。即，為了進(jìn)一步降低第3吸氣口73的壓力，優(yōu)選的是設(shè)定為L(zhǎng)1≦L2。

此外，關(guān)于氣體通路700的圓周方向尺寸L3，也優(yōu)選的是設(shè)定為L(zhǎng)2≦13，以使氣體通路700形成為至少與貫通孔60a的開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域相對(duì)向。由此，可使流入至貫通孔60a所連通的各螺紋槽GL3～螺紋槽GL7的氣體量更均勻。當(dāng)然，即使是L2＞L3，雖然氣體流量均勻效果差，但是氣體通路700也具有將來(lái)自第3吸氣口73的氣體引導(dǎo)至各螺紋槽GL3～螺紋槽GL7的功能。

圖5(a)及圖5(b)是對(duì)比地表示圖3、圖4所示的本實(shí)施方式的泵構(gòu)成與現(xiàn)有的真空泵(例如，所述專利文獻(xiàn)1中所記載的真空泵)的構(gòu)成的圖。均是將第3吸氣口73的部位相對(duì)于泵軸垂直地加以剖開(kāi)的圖，關(guān)于比第1圓筒轉(zhuǎn)子62更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置的構(gòu)成，省略圖示。

圖5(b)是表示現(xiàn)有的泵的示例的圖，形成于第1螺桿定子60的貫通孔600a僅形成于與第3吸氣口73相對(duì)向的區(qū)域。因此，從第3吸氣口73流入的氣體流入至貫通孔600a所貫通的螺紋槽GL4、螺紋槽GL5及螺紋槽GL6，但不流入至其它螺紋槽GL1～螺紋槽GL3、螺紋槽GL7、螺紋槽GL10。其結(jié)果為：螺紋槽GL4、螺紋槽GL5及螺紋槽GL6的氣體流量大于其它螺紋槽GL1～螺紋槽GL3、螺紋槽GL7、螺紋槽GL10的氣體流量。

通常而言，第3吸氣口73的壓力為第2吸氣口72的壓力的十倍以上。因此，霍爾維克泵平臺(tái)HP的吸氣側(cè)壓力是通過(guò)形成有貫通孔60a的螺紋槽的吸氣側(cè)壓力所支配。當(dāng)對(duì)比圖5(a)及圖5(b)時(shí)，圖5(a)的構(gòu)成中，氣體所流入的螺紋槽的數(shù)量更多，因此可進(jìn)一步降低螺紋槽的吸氣側(cè)壓力。其結(jié)果為：可實(shí)現(xiàn)真空泵1的排氣性能的提高。

在圖5(a)所示的本實(shí)施方式的情況下，從第3吸氣口73流入的氣體如以虛線箭頭G所示流入至泵內(nèi)。流入氣體不僅流入至設(shè)置在與第3吸氣口73相對(duì)向的區(qū)域的螺紋槽GL4、螺紋槽GL5及螺紋槽GL6，而且還經(jīng)過(guò)氣體通路700流入至螺紋槽GL3及螺紋槽GL7。另外，使貫通孔60a的圓周方向尺寸L2大于圖5(b)的情況，而且形成有氣體通路700，所以關(guān)于螺紋槽GL4、螺紋槽GL6的從第3吸氣口73的出口至螺紋槽為止的電導(dǎo)大于圖5(b)的情況。其結(jié)果為：向螺紋槽GL4、螺紋槽GL6的氣體流入量增加。在圖5(a)所示的構(gòu)成的情況下，可使來(lái)從第3吸氣口73的氣體流入至形成有多個(gè)的螺紋槽GL1～螺紋槽GL10中的更多螺紋槽，從而與現(xiàn)有的情況相比可實(shí)現(xiàn)螺紋槽的流量均勻化。

如上所述，為了將從第3吸氣口73流入的氣體導(dǎo)入至更多的螺紋槽，優(yōu)選的是如圖4所示將貫通孔60a的圓周方向尺寸L2設(shè)為第3吸氣口73所對(duì)向的區(qū)域(圖4的以虛線DL表示的區(qū)域)的圓周方向尺寸L1以上。但是，當(dāng)設(shè)為此種構(gòu)成時(shí)，不與第3吸氣口73相對(duì)向的區(qū)域的螺紋槽(例如，圖5(a)的螺紋槽GL3)相比于與第3吸氣口73相對(duì)向的區(qū)域的螺紋槽，從第3吸氣口73至螺紋槽為止的電導(dǎo)更小。因此，在本實(shí)施方式中，通過(guò)設(shè)置氣體通路700，來(lái)使充分的氣體也流入至與第3吸氣口73的對(duì)向區(qū)域隔開(kāi)的螺紋槽。

再者，即使在圖5(a)的構(gòu)成中無(wú)氣體通路700的情況下，氣體經(jīng)由貫通孔60a也流入至形成于不與第3吸氣口73相對(duì)向的區(qū)域的螺紋槽GL3、螺紋槽GL7。但是，與設(shè)置在第3吸氣口73的正下方的螺紋槽GL5相比，螺紋槽GL3、螺紋槽GL7的從第3吸氣口73至螺紋槽GL3、螺紋槽GL7為止的電導(dǎo)更小。因此，在本實(shí)施方式中，通過(guò)設(shè)置氣體通路700來(lái)實(shí)現(xiàn)至螺紋槽GL3、螺紋槽GL7為止的電導(dǎo)的改善，從而提高流量均勻化的效果。

圖6是表示所述實(shí)施方式的第1變形例的圖。在圖6所示的第1變形例中，氣體通路701是遍及第1殼體70的內(nèi)周面的圓周方向全周而形成。其它構(gòu)成與圖3所示的構(gòu)成相同。在這種情況下，可獲得與圖3的構(gòu)成的情況相同的效果。

圖7是表示所述實(shí)施方式的第2變形例的圖。在圖3所示的真空泵中，形成于第1螺桿定子60的貫通孔60a在與第3吸氣口73相對(duì)向的位置上只設(shè)置有一個(gè)。在第2變形例的第1螺桿定子60中，在與第3吸氣口73相對(duì)向的位置設(shè)置貫通孔60a，并且在相位與貫通孔60a相差180度的位置形成有第2貫通孔60b。在第1殼體70的內(nèi)周面，形成有與圖6所示的第1變形例的情況相同的氣體通路701。在這種情況下，氣體通路701也形成為與各貫通孔60a、貫通孔60b的開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域相對(duì)向。

如以箭頭G所示從第3吸氣口73流入的氣體的一部分經(jīng)由貫通孔60a流入至螺紋槽GL4、螺紋槽GL5、螺紋槽GL6，并且另一部分經(jīng)由氣體通路701從貫通孔60b流入至螺紋槽GL1、螺紋槽GL9、螺紋槽GL10。即，在第3變形例中，從第3吸氣口73流入的氣體流入至螺紋槽GL1～螺紋槽GL10之中的六個(gè)螺紋槽GL1、螺紋槽GL4～螺紋槽GL6、螺紋槽GL9、螺紋槽GL10。其結(jié)果為：與圖5(b)所示的現(xiàn)有的構(gòu)成相比，可實(shí)現(xiàn)各槽間的壓力的均勻化，能進(jìn)一步降低螺紋槽的吸氣側(cè)壓力，從而可實(shí)現(xiàn)真空泵的性能提高。

-第2實(shí)施方式-

圖8(a)及圖8(b)是表示本發(fā)明的真空泵的第2實(shí)施方式的圖。在所述第1實(shí)施方式中，將氣體通路700、氣體通路701形成在第1殼體70的內(nèi)周面，而在第2實(shí)施方式中，設(shè)為將氣體通路形成在第1螺桿定子60的外周面。在圖8(a)所示的示例中，在第1螺桿定子60上形成有以與第3吸氣口73相對(duì)向的方式而設(shè)置的貫通孔60a、以及相位與所述貫通孔60a相差180度的貫通孔60b。而且，在第1螺桿定子60的外周面，形成有將第3吸氣口73與貫通孔60b加以連接的氣體通路60G1、氣體通路60G2。

圖9是表示圖8(a)所示的第1螺桿定子60的外周面?zhèn)鹊恼归_(kāi)圖。貫通孔60a與螺紋槽GL4、螺紋槽GL5、螺紋槽GL6連通，貫通孔60b與螺紋槽GL1、螺紋槽GL9、螺紋槽GL10連通。如上所述，當(dāng)在第1螺桿定子60上形成兩個(gè)貫通孔60a、貫通孔60b時(shí)，優(yōu)選的是將貫通孔60a的圓周方向尺寸L2a與貫通孔60b的圓周方向尺寸L2b的合計(jì)L2(＝L2a+L2b)相對(duì)于與第3吸氣口73相對(duì)向的定子外周面區(qū)域的圓周方向尺寸L1設(shè)定為L(zhǎng)1≦L2。再者，如圖7所示將氣體通路701形成于第1殼體70的情況也是同樣。

此外，形成三個(gè)以上的貫通孔的情況也是同樣，優(yōu)選的是將形成于第1螺桿定子60的一個(gè)以上的貫通孔的各圓周方向尺寸的合計(jì)被設(shè)定為第1螺桿定子60的外周面上的第3吸氣口73所對(duì)向的區(qū)域的圓周方向尺寸以上。

圖10(a)是表示圖9的D1-D1剖面的圖，圖10(b)是表示D2-D2剖面的圖。在第1螺桿定子60的外周面，遍及全周形成有剖面形狀為矩形的槽，氣體通路60G1、氣體通路60G2構(gòu)成所述矩形槽的一部分。在圖10(b)的D2-D2剖面上，氣體通路60G1經(jīng)由貫通孔60b，與形成于內(nèi)周面?zhèn)鹊穆菁y槽GL10連通。

圖8(b)表示設(shè)置有三個(gè)貫通孔的情況。在第1螺桿定子60上，形成有以與第3吸氣口73相對(duì)向的方式而設(shè)置的貫通孔60a、以及相位不同的兩個(gè)貫通孔60b、貫通孔60c。圖示左側(cè)的貫通孔60b經(jīng)由氣體通路60G1與第3吸氣口73連接。圖示右側(cè)的貫通孔60c經(jīng)由氣體通路60G2與第3吸氣口73連接。其結(jié)果為：流入至第3吸氣口73的氣體從貫通孔60a～貫通孔60c流入至螺紋槽GL1～螺紋槽GL6、螺紋槽GL8、螺紋槽GL9。

再者，在將氣體通路形成于第1殼體70的內(nèi)周面的第1實(shí)施方式的情況下，也可與圖8(b)所示的情況同樣地將貫通孔的數(shù)量設(shè)定為三個(gè)以上。

(質(zhì)量分析裝置)

圖11是表示搭載具有三個(gè)吸氣口71～吸氣口73的真空泵1的質(zhì)量分析裝置100的一例的圖。圖11是表示利用電噴射離子化法(electrosprayionization，ESI)的液相色譜質(zhì)量分析裝置的概略構(gòu)成的示意圖。質(zhì)量分析裝置100包括離子化室150及質(zhì)量分析部110。在質(zhì)量分析部110，分別經(jīng)由隔壁設(shè)置有與離子化室150鄰接的第1中間室113、與第1中間室鄰接的第2中間室114、以及與第2中間室114鄰接的分析室115。

真空泵1的第1吸氣口71與分析室115的排氣口131連接。真空泵1的第2吸氣口72與第2中間室114的排氣口132連接。真空泵1的第3吸氣口73與第1中間室113的排氣口133連接。如上所述，利用一個(gè)真空泵1對(duì)壓力區(qū)域不同的三個(gè)空間(第1中間室113、第2中間室114及分析室115)進(jìn)行排氣。

在離子化室150內(nèi)設(shè)置有離子化用噴霧器(spray)151。經(jīng)液相色譜部LC成分分離的液體試料通過(guò)配管152而供給至離子化用噴霧器151。雖未圖示，但是離子化用噴霧器151供給霧化氣體，液體試料是通過(guò)離子化用噴霧器151而噴霧。在離子化用噴霧器151的前端施加有高電壓，在噴霧時(shí)進(jìn)行離子化。在第1中間室113與離子化室150之間設(shè)置有加熱塊(heater block)112，在加熱塊112中設(shè)置有將離子化室150與中間室113加以連通的去溶劑管120。去溶劑管120具有在經(jīng)離子化室150生成的離子或試料的液滴經(jīng)過(guò)時(shí)，促進(jìn)去溶劑化及離子化的功能。

在第1中間室113內(nèi)，設(shè)置有第1離子透鏡121。在第2中間室114內(nèi)，設(shè)置有八極裝置(octupole)123及聚焦透鏡(focus lens)124。在第2中間室114與分析室115之間的隔壁上，設(shè)置有具有細(xì)孔的入口透鏡125。在分析室115內(nèi)，設(shè)置有第1四極桿126、第2四極桿127及檢測(cè)器128。

經(jīng)離子化室150生成的離子依次經(jīng)過(guò)去溶劑管120、第1中間室113的第1離子透鏡121、撇渣器(skimmer)122、第2中間室114的八極裝置123及聚焦透鏡124、入口透鏡125而傳送至分析室115，并通過(guò)四極桿126、四極桿127排出不需要的離子，僅對(duì)抵達(dá)至檢測(cè)器128的特定離子進(jìn)行檢測(cè)。

根據(jù)所述實(shí)施方式，可獲得下述作用效果。

(1)真空泵1如圖2、圖4、圖5(a)及圖5(b)所示，包含多個(gè)吸氣口(第1吸氣口71、第2吸氣口72及第3吸氣口73)，在圓筒狀的第1螺桿定子60上，形成有貫通第1螺桿定子60且與形成于內(nèi)周面的螺紋槽GL3～螺紋槽GL7連通的貫通孔60a。而且，貫通孔60a的圓周方向尺寸L2a設(shè)定為第1螺桿定子60的外周面上的第3吸氣口73所對(duì)向的區(qū)域的圓周方向尺寸L1以上。此外，設(shè)為包含氣體通路700，所述氣體通路700將從第3吸氣口73流入的氣體引導(dǎo)至貫通孔所貫通且第3吸氣口73不對(duì)向的螺紋槽GL3、螺紋槽GL7。

如圖4所示，將貫通孔60a的圓周方向尺寸L2a設(shè)為L(zhǎng)1以上，所以可將氣體引導(dǎo)至更多的螺紋槽GL3～螺紋槽GL7。此外，通過(guò)如圖5(a)所示設(shè)置氣體通路700，可使至第3吸氣口73不對(duì)向的螺紋槽GL3、螺紋槽GL7為止的電導(dǎo)增大，從而可使向螺紋槽GL3、螺紋槽GL7的氣體流入量增多。其結(jié)果為：能進(jìn)一步降低螺紋槽的吸氣側(cè)壓力，可實(shí)現(xiàn)真空泵的性能提高。

當(dāng)如圖9所示在第1螺桿定子60上形成兩個(gè)貫通孔60a、貫通孔60b時(shí)，優(yōu)選的是將貫通孔60a的圓周方向尺寸L2a與貫通孔60b的圓周方向尺寸L2b的合計(jì)L2(＝L2a+L2b)相對(duì)于與第3吸氣口73相對(duì)向的定子外周面區(qū)域的圓周方向尺寸L1設(shè)定為L(zhǎng)1≦L2。由此，可進(jìn)一步降低螺紋槽的吸氣側(cè)壓力。

(2)另外，也可如圖8(a)及圖8(b)所示在第1螺桿定子60的外周面形成槽而形成為氣體通路60G1、氣體通路60G2，還可如圖3所示在以覆蓋第1螺桿定子60的外周側(cè)的方式而設(shè)置的第1殼體70的內(nèi)周面形成槽來(lái)形成為氣體通路700。此外，還可在第1螺桿定子60的外周面與第1殼體70的內(nèi)周面這兩者上形成氣體通路用槽，由此可進(jìn)一步增大氣體通路的剖面面積。

(3)此外，優(yōu)選的是：如圖3、圖4所示，氣體通路700形成為與貫通孔60a的開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域相對(duì)向。通過(guò)設(shè)為此種構(gòu)成，可使流入至貫通孔60a所連通的各螺紋槽GL3～螺紋槽GL7的氣體量更均勻。

(4)在本實(shí)施方式的質(zhì)量分析裝置中，例如，如圖11所示，在收納作為第1分析單元的八極裝置123及聚焦透鏡124的第2中間室114的排氣口132上，連接有真空泵1的第2吸氣口72，并且在收納第1離子透鏡121的第1中間室113的排氣口133上，連接有真空泵1的第3吸氣口，所述第1離子透鏡121在壓力高于第1分析單元的壓力區(qū)域內(nèi)工作。因此，可利用一臺(tái)真空泵1對(duì)多個(gè)腔室進(jìn)行排氣，從而可實(shí)現(xiàn)質(zhì)量分析裝置100的成本下降。

再者，只要不破壞本發(fā)明的特征，本發(fā)明絲毫不限定于所述實(shí)施方式。例如，在實(shí)施方式中，以具有三個(gè)吸氣口的真空泵為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是本發(fā)明也可以應(yīng)用于無(wú)第2渦輪分子泵平臺(tái)TP2及第2吸氣口72，而包括兩個(gè)第1吸氣口71、第3吸氣口73的真空泵。

另外，在所述實(shí)施方式中，各貫通孔60a～貫通孔60c是以也貫通螺紋牙601的方式而形成，但是如圖12所示，也可設(shè)為保留螺紋牙601的部分而只貫通螺紋槽GL3～螺紋槽GL7的部分。

以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明做任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容做出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。