專(zhuān)利名稱(chēng)：真空裝置用閘閥的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于真空裝置的閘閥，具體涉及蒸鍍裝置的電子槍用 閘閥。
背景技術(shù)：
在制造半導(dǎo)體、薄膜、液晶等時(shí)使用的真空裝置中，使用開(kāi)放、 關(guān)閉各真空室間的間閥。現(xiàn)有技術(shù)中，已知有各種真空裝置用間閥。例如，有在閉閥時(shí)使用膨脹密封件(一y7，一卜、乂一^)來(lái)提高密封性的閥(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)l、 2)或擺式閥等。圖5、圖6表示擺式閥的一例。該現(xiàn)有的擺式閥200從正面看時(shí)， 在閥箱202的側(cè)壁202b上形成開(kāi)口 204b (圖6 )。另外，該閥200從側(cè)面看閥箱202內(nèi)部時(shí)，具有在其相向的側(cè) 壁202a、 202b間形成的閥室215; i殳在其內(nèi)部的沖罷形閥體203;密封 環(huán)205。在該相向的側(cè)壁202a、 202b上形成開(kāi)口 204a、 204b。在密 封環(huán)205上安裝環(huán)狀的密封件206、 207 (圖5 )。當(dāng)開(kāi)閥狀態(tài)的閥200閉閥時(shí)，利用空氣壓力驅(qū)動(dòng)閥箱202側(cè)方的 空氣促動(dòng)器209，使促動(dòng)器軸208轉(zhuǎn)動(dòng)而使擺形的閥體203移動(dòng)到作 為閉閥位置的開(kāi)口 204a之前。然后，利用空氣壓力驅(qū)動(dòng)氣缸211來(lái)使 軸210動(dòng)作，將密封環(huán)205壓向閥體203，由此在閥箱202內(nèi)部，由 密封件207將開(kāi)口 204b周?chē)膬?nèi)壁面和密封環(huán)205之間密封，由密封 件206將閥體203的表面和密封環(huán)205間密封。其結(jié)果，形成為開(kāi)口 204a和開(kāi)口 204b間4皮遮斷。在此，在作為一個(gè)真空裝置的真空蒸鍍裝置中，在裝置的真空槽 內(nèi)加熱金屬、金屬氧化物、金屬化合物等的蒸鍍材料并使之蒸發(fā)(參照?qǐng)D7)。此時(shí)，從蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸鍍材料的蒸氣侵入到電子槍252內(nèi)， 存在難以長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)產(chǎn)生穩(wěn)定的電子束的問(wèn)題，雖然試驗(yàn)了種種對(duì)策 但仍未得到解決。例如，如圖7的真空蒸鍍裝置所示那樣具有在電子束的出口孔附 近排氣的排氣機(jī)構(gòu)，或者雖未圖示但在電子束的出口孔的前方設(shè)置捕 獲蒸鍍材料的蒸氣的收集器(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)3)。但是，在MgO的場(chǎng)合，蔓延激烈而得不到充分的效果。另外， 即使臨時(shí)防止蒸鍍材料的蒸氣侵入電子槍?zhuān)脖仨氝M(jìn)行燈絲的更換等 定期維護(hù)保養(yǎng)。專(zhuān)利文獻(xiàn)1:(日本)特開(kāi)2000-145980號(hào)公報(bào)(第3頁(yè)、圖1) 專(zhuān)利文獻(xiàn)2:(日本)特開(kāi)2004-360754號(hào)公報(bào)(第4頁(yè)、圖1) 專(zhuān)利文獻(xiàn)3:(日本)特開(kāi)平7-58832號(hào)公報(bào)(第4頁(yè)、圖l) 對(duì)于作為上述真空裝置一例的串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置，實(shí)施2周 以上的連續(xù)運(yùn)行。另外，對(duì)于具有MgO自動(dòng)供給機(jī)構(gòu)的裝置，也可 以進(jìn)行l(wèi)個(gè)月的連續(xù)運(yùn)行。但是，電子槍的燈絲、陰極等的消耗部件 大約每2 3周必須進(jìn)行更換?；蛘咴诎l(fā)生偶然的故障時(shí)，只把電子槍 部形成為大氣壓而進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)。在此，在電子槍部和蒸鍍室之間設(shè) 置閘閥，在更換時(shí)通過(guò)關(guān)閉該閘閥而只把電子槍部形成大氣壓就可以 進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)，這樣可把蒸鍍室保持為真空狀態(tài)，所以可期待大幅縮 短再開(kāi)始運(yùn)行時(shí)的起動(dòng)時(shí)間。因此，在圖7所示的串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置250的例子中，使用 現(xiàn)有的真空裝置用閘閥200。在圖7中，在串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置250中，蒸鍍室251利用連 接在排氣口 253上的圖中未示出的排氣裝置(真空泵)，把其內(nèi)部整體 保持成真空。為了對(duì)圖中的被蒸鍍物280進(jìn)行蒸鍍處理，在裝置本體下部與被 蒸鍍物280相向的位置，配置有收容蒸鍍材料(MgO) 281的蒸發(fā)源 254。另外，在蒸發(fā)源254的側(cè)方，配置有對(duì)蒸鍍材料281照射電子線的作為加熱源的電子槍252。在此，在電子槍252的前面，作為隔離電子槍部和蒸鍍室251之 間的閥，配置了真空裝置用閘閥200。通過(guò)關(guān)閉該閘閥200，在保持蒸 鍍室251真空的狀態(tài)下，可對(duì)電子槍252進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)。進(jìn)而，具有可連續(xù)運(yùn)行的蒸鍍材料的自動(dòng)供給機(jī)構(gòu)260。自動(dòng)供 給機(jī)構(gòu)260由以下的單元構(gòu)成。MgO供給室(在真空中貯存MgO的 腔)261、 MgO供料器(把MgO定量連續(xù)地供給蒸發(fā)源的機(jī)構(gòu))263 以及MgO投射器264。在MgO供給室261中貯存約5~200Kg以上的Mg0282，間歇地 向MgO供料器263供給必要量的MgO約1 ~ 1.5Kg。間歇?jiǎng)幼魍ㄟ^(guò) 氣缸266使MgO供給閥267動(dòng)作而得以進(jìn)行。MgO由供料器263移 送，在MgO投射器264滑落而進(jìn)入蒸發(fā)源254內(nèi)。然而，在現(xiàn)有的真空裝置用閘閥200中，在閥位于開(kāi)閥位置時(shí)， 閥箱202內(nèi)部的閥室215處于與蒸鍍室251連接的狀態(tài)。此時(shí)的閥箱 202的內(nèi)壁面和閥體203暴露在蒸鍍物(MgO) 281的蒸氣中。為此 在閥箱202的內(nèi)壁面及閥體203與密封環(huán)205的密封件206、 207的周 圍也附著蒸鍍物(MgO)，真空保持的可靠性甚低。因而，必須把蒸 鍍室251也形成為大氣壓地進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)。發(fā)明內(nèi)容在閉閥時(shí)，與現(xiàn)有技術(shù)同樣地閥體把電子槍部從蒸鍍室分離。在 開(kāi)閥時(shí)，通過(guò)把筒狀的可動(dòng)屏蔽件從閥的蒸鍍室側(cè)開(kāi)口插入閥箱內(nèi)， 使閥箱內(nèi)與蒸鍍室分離，閥箱的內(nèi)壁面及岡體受到保護(hù)而不會(huì)附著蒸 鍍物(MgO)。采用以上的才幾構(gòu)，可以防止蒸鍍物(MgO)向閥座面 附著，能夠解決無(wú)法保持真空的問(wèn)題。另外，閥箱的內(nèi)壁面及閥體具 有密封件、O型環(huán)等密封部件，可動(dòng)屏蔽件也可防止向蒸鍍物(MgO) 這些部件附著。發(fā)明的效果在串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置的連續(xù)運(yùn)行中可減少停機(jī)時(shí)間。另外，也可以減少必須把蒸鍍室向大氣壓開(kāi)放的頻度。


圖l是表示本發(fā)明的電子槍用閘闊的實(shí)施方式的說(shuō)明圖(從閥箱 內(nèi)部的本體側(cè)面的說(shuō)明圖)。圖2是表示本發(fā)明的電子槍用閘閥的動(dòng)作的說(shuō)明圖(從閥箱內(nèi)部 的本體側(cè)面的說(shuō)明圖)。圖2A表示開(kāi)閥的狀態(tài)，圖2B表示閉閥的狀 態(tài)。圖3是表示本發(fā)明的電子槍用閘閥的實(shí)施方式的說(shuō)明圖(從蒸鍍 室側(cè)觀看電子槍用閘閥本體的外觀的正面圖)。圖4是表示本發(fā)明的電子槍用閘閥使用的串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置 的一例的說(shuō)明圖。圖5是表示現(xiàn)有的真空裝置用閘閥的一例的說(shuō)明圖(從閥箱內(nèi)部 的本體側(cè)面的說(shuō)明圖)。圖6是表示現(xiàn)有的真空裝置用閘閥的一例的說(shuō)明圖(從蒸鍍室側(cè) 的正面圖)。圖7是表示使用現(xiàn)有的真空裝置用閘閥的串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置 的一例的說(shuō)明圖。 附圖標(biāo)記說(shuō)明1真空裝置用閘閥；2閥箱；3閥體；4a開(kāi)口 (電子槍側(cè))；4b 開(kāi)口 (蒸鍍室側(cè))；5密封環(huán)；6密封件；7密封件；8促動(dòng)器軸；9 空氣促動(dòng)器；10軸；11氣缸；15閥室；21可動(dòng)屏蔽件止擋部件； 22可動(dòng)屏蔽件；23氣缸；24軸；50串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置；51蒸 鍍室；52電子槍?zhuān)?3排氣口； 54蒸發(fā)源；56防鍍板(可動(dòng)屏蔽件 止擋部件)；60自動(dòng)供給機(jī)構(gòu)；61MgO供給室；63MgO供料器；64 MgO投射器；66供給閥驅(qū)動(dòng)用氣缸；67MgO供給閥；68 MgO補(bǔ)給 口；69MgO補(bǔ)給口的蓋；80被蒸鍍物；81蒸鍍材料(MgO); 82 MgO; 200真空裝置用閘閥；202閥箱；203閥體；204a、 204b開(kāi)口； 205 密封環(huán)；206、 207密封件；208促動(dòng)器軸；209空氣促動(dòng)器；210軸；211氣缸；215閥室；231氣缸；232氣缸桿；233空氣通路；250串 聯(lián)式MgO蒸鍍裝置；251蒸鍍室；252電子槍?zhuān)?53排氣口； 254蒸 發(fā)源；260自動(dòng)供給才幾構(gòu)；261MgO供給室；263 MgO供給器；264 MgO投射器；266供給閥驅(qū)動(dòng)用氣缸；267 MgO供給閥；268 MgO 補(bǔ)給口； 269MgO補(bǔ)給口的蓋；280被蒸鍍物；281蒸鍍材料(MgO: 熔融狀態(tài))；282 MgO。
具體實(shí)施方式
以下，參照附圖對(duì)適用本發(fā)明的具體實(shí)施方式
進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。 圖4是表示使用本發(fā)明的電子槍用閘閥1的串聯(lián)式MgO蒸鍍裝 置50的例子。在圖4中，在串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置50中，蒸鍍室51通過(guò)與排 氣口 53連接的未圖示的排氣裝置(真空泵)而保持其內(nèi)部整體為真空。為了對(duì)圖中的被蒸鍍物80進(jìn)行蒸鍍處理，在裝置本體下部與被蒸 鍍物80相向的位置上，配置收容蒸鍍材料(MgO) 81的蒸發(fā)源54。另外，在蒸發(fā)源54的側(cè)方，配置向蒸鍍材料81照射電子線的作 為加熱源的電子槍52。在此，在電子槍52之前，作為隔離電子槍部和蒸鍍室51之間的 閥，配置電子槍用閘岡l。通過(guò)關(guān)閉該閘閥l,在保持蒸鍍室51真空 的狀態(tài)下，可對(duì)電子槍52進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)。進(jìn)而，具有可連續(xù)運(yùn)行的蒸鍍材料82的自動(dòng)供給機(jī)構(gòu)60。自動(dòng) 供給機(jī)構(gòu)60由以下的單元構(gòu)成。MgO供給室(在真空中貯存MgO 的腔)61、 MgO供料器(把MgO定量連續(xù)供給蒸發(fā)源的機(jī)構(gòu))63及 MgO投射器64。在MgO供給室61貯存約5~200Kg以上的Mg082，間歇地向 MgO供料器63供給必要量的MgO約1 ~ 1.5Kg。間歇供給動(dòng)作通過(guò) 氣缸66使MgO供給閥67動(dòng)作而得以進(jìn)行。MgO由供料器63移送， 在MgO投射器64滑落而進(jìn)入蒸發(fā)源54內(nèi)。本發(fā)明實(shí)施方式的電子槍用閘閥1的實(shí)施例如圖l及3所示。在本實(shí)施方式，如圖1所示，閥箱2的內(nèi)部與現(xiàn)有的真空裝置用 閘閥的擺式閥相同。筒狀的可動(dòng)屏蔽件止擋部件21、筒狀的可動(dòng)屏蔽 件22、可動(dòng)屏蔽件驅(qū)動(dòng)用的氣缸23和安裝可動(dòng)屏蔽件的軸24與現(xiàn)有 的擺式閥不同。如圖3所示，電子槍用閘閥1在從正面看閥箱2時(shí)，在閥箱2的 蒸鍍室側(cè)的側(cè)壁2b形成開(kāi)口 4b。在開(kāi)口 4b的周?chē)惭b可動(dòng)屏蔽件止 擋部件21。筒狀的可動(dòng)屏蔽件22安裝在軸24的末端，貫通開(kāi)口 4b 地自由往復(fù)運(yùn)動(dòng)，由作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的氣缸23驅(qū)動(dòng)。在可動(dòng)屏蔽件22 的電子槍側(cè)的側(cè)壁2a形成的開(kāi)口 4a側(cè)的末端部，在內(nèi)方側(cè)形成凸緣， 在開(kāi)口 4b側(cè)的末端部在外方側(cè)形成凸緣，都用于密封閥室15。另外，該電子槍用閘閥1在從側(cè)面看閥箱2內(nèi)部時(shí)，具備在其 相向的側(cè)壁2a、 2b間形成的閥室15;設(shè)在閥箱2的內(nèi)部的擺形的閥 體3;設(shè)在閥箱2的內(nèi)部的密封環(huán)5。在閥箱2中，在其相向的側(cè)壁 2a、 2b上形成開(kāi)口 4a、 4b。在密封環(huán)5上安裝環(huán)狀的密封件6、 7(圖 1)。在關(guān)閉開(kāi)閥狀態(tài)的閥1時(shí)，由空氣壓力驅(qū)動(dòng)閥箱2側(cè)方的空氣促 動(dòng)器9，使促動(dòng)器軸8轉(zhuǎn)動(dòng)而使擺形的閥體3移動(dòng)到作為閉閥位置的 開(kāi)口4a之前。然后，由空氣壓力驅(qū)動(dòng)氣缸11使軸10動(dòng)作，把密封環(huán) 5按壓向閥體3。由此，在閥箱2的內(nèi)部，開(kāi)口4b的周?chē)膬?nèi)壁面和 密封環(huán)5之間由密封件7密封，閥體3的表面和密封環(huán)5之間由密封 件6密封。其結(jié)果，開(kāi)口 4a和開(kāi)口 4b間凈皮遮斷。用圖2說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式的可動(dòng)屏蔽件的功能。在圖2A、圖2B中表示本實(shí)施例的電子槍用閘閥的打開(kāi)及關(guān)閉狀態(tài)。圖2A表示閥打開(kāi)的時(shí)候。在開(kāi)閥時(shí)，由筒狀的可動(dòng)屏蔽件22保 護(hù)閥室15。即，在開(kāi)閥時(shí)，可動(dòng)屏蔽件22從蒸鍍室側(cè)的開(kāi)口部4b被 插入，貫通閥室15，通過(guò)電子槍側(cè)的開(kāi)口 4a而被兼作可動(dòng)屏蔽件止 擋部件的防鍍板(防著板)56擋住。可動(dòng)屏蔽件22的開(kāi)口 4a側(cè)的末 端部在內(nèi)方側(cè)形成凸緣，與防鍍板56 ( SUS304制)的凸緣緊密接合。其結(jié)果，閥室15的可動(dòng)屏蔽件22的內(nèi)方側(cè)和可動(dòng)屏蔽件22的外方側(cè) 的閥室15的氣氛被分開(kāi)。另外，同時(shí)可動(dòng)屏蔽件22的開(kāi)口 4b側(cè)的末端在外方側(cè)成為凸緣， 與屏蔽件止擋部件21的開(kāi)口 4b側(cè)端面及內(nèi)方側(cè)面緊密接合。通過(guò)以 上構(gòu)成，完全密封閥室15。因而，除去可動(dòng)屏蔽件22的內(nèi)方側(cè)的閥 室15由于與蒸鍍室完全分離，所以可切實(shí)保護(hù)閥箱2的內(nèi)壁面和閥體 3、及密封環(huán)5的密封件6、 7，故能夠防止附著異物。圖2B表示閥關(guān)閉的時(shí)候。在閉閥時(shí)，與現(xiàn)有的閘閥同樣由閥體3 及密封環(huán)5進(jìn)行密封。通過(guò)把閥體3移動(dòng)到閉閥位置，把密封環(huán)5按 壓向閥體3，從而進(jìn)4亍閉閥。另外，通過(guò)移動(dòng)閥體3把密封環(huán)5按壓向閥體3而進(jìn)行閉閥的機(jī) 構(gòu)使用與圖5、 6的現(xiàn)有例相同的機(jī)構(gòu)。通過(guò)以上構(gòu)成，在串聯(lián)式MgO蒸鍍裝置的連續(xù)運(yùn)行中可以減少 停機(jī)時(shí)間。閥正常動(dòng)作時(shí)的電子槍的維護(hù)保養(yǎng)時(shí)間為冷卻30分鐘、排放5 分鐘、電子槍維護(hù)保養(yǎng)10分鐘、真空排氣10分鐘的共計(jì)55分鐘。當(dāng)閥不正常動(dòng)作時(shí)，為冷卻30分鐘、電子槍室及蒸鍍室排放10 分鐘、電子槍維護(hù)保養(yǎng)10分鐘、真空排氣360分鐘的共計(jì)410分鐘。因而，可以減少355分鐘的停才幾時(shí)間。以上，說(shuō)明了本發(fā)明的實(shí)施方式，當(dāng)然本發(fā)明并不限于此，可以 基于本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思進(jìn)行種種的變型。在本發(fā)明的電子槍用閘閥的實(shí)施例中，閥箱2和閥體3的構(gòu)造采 用與圖5、 6所示的采用現(xiàn)有的擺式閥體的真空裝置用閘閥相同的構(gòu) 造，但也可以是其他構(gòu)造的真空裝置用閘閥。例如，也可以是膨脹密 封式閘板閥、扇型閥體式閘板閥、球閥。只要是具有形成了貫通相向 壁面的開(kāi)口的閥箱、并具有位于開(kāi)閥位置的閥體能夠從所述開(kāi)口完全 退避的閥室的真空裝置用閘閥的構(gòu)造就可以使用。在實(shí)施例中，閥的 開(kāi)口為圓形，當(dāng)然也可以是其他的形狀。例如，若閥的開(kāi)口是正方形 的話，則只要把筒體的橫斷面形狀做成正方形即可。另外，在開(kāi)閥時(shí)可動(dòng)屏蔽件22被兼作可動(dòng)屏蔽件止擋部件的防鍍 板56擋住，但也不一定必須擋住，也可以保持具有能夠真空地分開(kāi)氣 氛的傳導(dǎo)的間隙、例如5mm以下的間隙，使可動(dòng)屏蔽件22接近兼作 可動(dòng)屏蔽件止擋部件的防鍍板56而使之停止。
另外，作為本發(fā)明的變形例，也可以設(shè)置冷卻可動(dòng)屏蔽件22的機(jī) 構(gòu)。在電子槍用閘閥位于開(kāi)岡位置時(shí)，通過(guò)對(duì)密封閥室15的可動(dòng)屏蔽 件22進(jìn)行冷卻而冷卻閥箱2內(nèi)，可防止密封件6、 7因熱而產(chǎn)生的劣 化。例如，可動(dòng)屏蔽件22位于開(kāi)閥位置時(shí)，由于與止擋部件21緊密 接觸，所以通過(guò)在止擋部件21的與可動(dòng)屏蔽件22接觸的面上設(shè)置使 冷卻水循環(huán)的金屬管而能夠得以實(shí)現(xiàn)。
另外，在本發(fā)明的實(shí)施例中，對(duì)于兼作可動(dòng)屏蔽件止擋部件的防 鍍板56使用了不銹鋼材，但為了提高緊密接合性也可以用軟質(zhì)金屬。
例如是極軟鋼、軟鋼、純鐵、銅、鋁、鋅、鉛、錫。
進(jìn)而，作為本發(fā)明的變形例，也可以在可動(dòng)屏蔽件22的兩端部的 凸緣或可動(dòng)屏蔽件止擋部件21、 56的與可動(dòng)屏蔽件抵接的面上，安裝 例如極軟鋼、軟鋼、純鐵、銅、鋁、鋅、鉛、錫等的密封件。
其中任何一個(gè)都可以提高可動(dòng)屏蔽件22與可動(dòng)屏蔽件止擋部件 21、 56抵接部分的緊密接合性，從而提高遮蔽效果。
權(quán)利要求
1.一種真空裝置用閘閥，其是隔離真空裝置的處理室和電子槍部之間的閥，其特征在于，包括在相向的側(cè)壁部上分別具有開(kāi)口的閥箱、開(kāi)閉所述開(kāi)口的閥體、開(kāi)閥時(shí)從所述開(kāi)口的處理室側(cè)插入所述閥箱內(nèi)的能夠自由往復(fù)運(yùn)動(dòng)的筒狀的可動(dòng)屏蔽件、能夠與所述可動(dòng)屏蔽件的末端部抵接且設(shè)在所述開(kāi)口的電子槍部側(cè)的止擋部件、和使所述可動(dòng)屏蔽件往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；通過(guò)利用所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述可動(dòng)屏蔽件的末端部和所述止擋部件接近，所述可動(dòng)屏蔽件的內(nèi)方側(cè)的氣氛與所述閥箱內(nèi)的氣氛被分離。
2. 如權(quán)利要求l所述的真空裝置用閘閥，其特征在于，所述可動(dòng) 屏蔽件具有冷卻機(jī)構(gòu)。
3. 如權(quán)利要求l所述的真空裝置用閘閥，其特征在于，在所述可 動(dòng)屏蔽件與所述止擋部件抵接的部位使用密封件，該密封件是極軟鋼、軟鋼、純鐵、銅、鋁、鋅、鉛、錫。
全文摘要
一種用于蒸鍍裝置的真空裝置用閘閥，即使其位于開(kāi)閥位置時(shí)，也可以通過(guò)保護(hù)閥箱的內(nèi)壁面及閥體的密封部件與蒸鍍材料的蒸氣隔離來(lái)提高蒸鍍室真空保持的可靠性。作為電子槍用閘閥(1)，使用真空裝置用閘閥，關(guān)閉閥時(shí)，與現(xiàn)有技術(shù)同樣地閥體(3)把電子槍部從蒸鍍室分離。打開(kāi)閥時(shí)，通過(guò)把筒狀的可動(dòng)屏蔽件(22)插入閥的閥室(15)內(nèi)，使閥室(15)與蒸鍍室隔離，閥箱(2)的內(nèi)壁面及閥體(3)的密封部件不暴露在蒸鍍室內(nèi)的蒸氣中，以進(jìn)行保護(hù)而避免蒸鍍物(MgO)附著。
文檔編號(hào)F16K51/02GK101321888SQ20068004521
公開(kāi)日2008年12月10日 申請(qǐng)日期2006年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月5日
發(fā)明者飯島榮一 申請(qǐng)人:株式會(huì)社愛(ài)發(fā)科