專利名稱：線性滑塊的滾柱回流裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及作直線運(yùn)動(dòng)的傳動(dòng)部件，尤指一種線性滑塊的滾柱回流裝置。
技術(shù)背景線性滑塊是一種可以在導(dǎo)軌上以低摩擦、低噪音快速直線位移的塊體，為了使 線性滑±央得以低摩擦地快速位移，于線性滑塊內(nèi)部設(shè)有兩組滾柱回流裝置，每一組 滾柱回流裝置可容設(shè)二祠隨柱，藉由滾柱在滑軌表面滾動(dòng)。如中國臺(tái)灣專利公告第477869號(hào)"運(yùn)動(dòng)導(dǎo)引裝置"發(fā)明專利案(以下簡稱第一參考案)，其圖1顯示總共 需要8支支撐構(gòu)件，8個(gè)內(nèi)圍導(dǎo)引部構(gòu)件才能纟賊兩組供滾柱循環(huán)回流的裝置，其 組件形式多，因此需要多副模具才能制成，并且構(gòu)件多而具有組裝復(fù)雜、累積公差 等問題。此外，如中國臺(tái)灣專利證書號(hào)1234616 "滾柱式線性滑軌"(以下簡稱第二參 考案)，由其圖1可知，是于一滑±央本體設(shè)有四個(gè)回流孔及四個(gè)滾動(dòng)面，位于同一側(cè) 的兩回流孔及兩個(gè)滾動(dòng)面為一組，以分別容設(shè)兩個(gè)半循環(huán)模塊，由參考案的圖3可 知，每一個(gè)半循環(huán)模i央分別由兩個(gè)U形半循環(huán)片對(duì)合組成可容設(shè)滾柱的凹槽。但是， 雖然第二參考案比第一參考案的組件少，但是由第二參考案的圖4、 5可清楚看出， 兩個(gè)U形半循環(huán)片組成半循環(huán)模塊，其對(duì)合部位包括了直管狀的回流部及位于端角 的轉(zhuǎn)向部，位于轉(zhuǎn)彎處的轉(zhuǎn)向部具有斷差，使?jié)L柱滾動(dòng)時(shí)碰撞斷差，增加阻力。實(shí)用新型內(nèi)容為了改善前述兩件參考案的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種構(gòu)件少、 滾柱滾動(dòng)順暢的滾柱回流裝置?；谏鲜瞿康?，本實(shí)用新型的主要技術(shù)在于提供一種線性滑塊的滾柱回流裝置， 包括兩個(gè)滾柱循環(huán)單元，每一滾柱循環(huán)單元分別包括一循環(huán)基軌，包括一體制成的一外直條部、 一內(nèi)直條部、 一外回轉(zhuǎn)部及一內(nèi)回 轉(zhuǎn)部，其中，該外回轉(zhuǎn)部為彎弧形， 一體連接于外直條部及內(nèi)直條部的其中一端， 該內(nèi)回轉(zhuǎn)部為彎弧形， 一體連接于外直條部的另一端并且與內(nèi)直條部保持一間隙，該內(nèi)回轉(zhuǎn)部、內(nèi)直條部、外回轉(zhuǎn)部、及外直條部外周壁上形成一道暢通的滾柱槽， 且位于外直條部的滾柱槽是貫穿于朝向內(nèi)直條部的周壁，又內(nèi)回轉(zhuǎn)部設(shè)有一朝向內(nèi) 直條部突出的突緣，該突緣末端與內(nèi)直條部之間形成所述之間隙；一回流蓋，^t合封閉于內(nèi)回轉(zhuǎn)部的夕卜側(cè)；一側(cè)蓋，^t合封閉于內(nèi)直條部的外側(cè)；二滾柱循環(huán)單元的循環(huán)基軌垂直交叉，使任一循環(huán)基軌的內(nèi)回轉(zhuǎn)部及回流蓋， 位于另一循環(huán)基軌的外回轉(zhuǎn)部內(nèi)部。實(shí)施上述技術(shù)手段以后，本實(shí)用新型可獲得的具體效益為1. 由于本實(shí)用新型的循環(huán)基軌為單一構(gòu)件，即可構(gòu)成一一完整且暢通的滾柱槽， 相較于參考案由兩個(gè)U形半循環(huán)片對(duì)合形成的半循環(huán)?！姥?，本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度 顯然較佳。2. 由于本實(shí)用新型，滾柱槽只有一處斷差部位即設(shè)于內(nèi)直條部與內(nèi)回轉(zhuǎn)部之 間之間隙，且該斷差部是位于直線上，而內(nèi)回轉(zhuǎn)部的突緣及內(nèi)直條部又同時(shí)受至IJ滑 土央本體內(nèi)部的撐持，因此，滾柱通過該斷差處亦可順暢滾動(dòng)，相較于參考案的斷差 部位設(shè)于轉(zhuǎn)彎處，本實(shí)用新型容設(shè)滾柱以后，滾柱通過斷差處的阻力較小，而一體 式的循環(huán)基軌可以減少組誤差。此外，本實(shí)用新型較佳是于側(cè)蓋朝向滾柱槽的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有一道凹入的油溝， 又于側(cè)蓋周壁上，設(shè)有多個(gè)貫穿內(nèi)外周壁的透油孔，且設(shè)有透油孔的側(cè)蓋外周壁為 一平面。實(shí)施上述技術(shù)手段以后，可以形成供潤滑劑通過的通道。又，本實(shí)用新型進(jìn)一步的技術(shù)手段，是榭立于外直條部夕卜偵啲滾柱槽二周壁， 分別設(shè)有一道相向突出的擋緣，二擋緣的距離小于滾柱槽的寬度。因此，滾柱置于滾柱槽內(nèi)部以后，不會(huì)由滾柱槽的出口脫離，使?jié)L柱不需要另 外以一保持器撐持，即可以直接在滾柱循環(huán)單元內(nèi)循環(huán)滾動(dòng)。


圖1是安裝有本實(shí)用新型的線性滑塊與線性滑軌的立體組合示意圖。圖2是安裝有本實(shí)用新型的線性滑塊與線性滑軌的立體分解示意圖。圖3是安裝有本實(shí)用新型的線性滑i央立體局部剖面示意圖。圖4是安裝有本實(shí)用新型的線性滑塊與線性滑軌的局部立體組合剖面示意圖。圖5是安裝有本實(shí)用新型的線性滑i央與線性滑軌的平面剖面示意圖。圖6是本實(shí)用新型組合狀態(tài)的立體組合示意圖。圖7是本實(shí)用新型的立體分解示意圖。圖8是本實(shí)用新型安裝于線性滑塊及線性滑軌上的局部平面方文大示意圖。圖9是本實(shí)用新型安裝于線性滑塊及線性滑軌上的另一實(shí)施例局部放大示意主要組件符號(hào)說明
l--線性滑塊 n-滑槽 13-下滾動(dòng)面 15—下回流孔 20—立而蓋 22-油路 30-刮油片 4-滾柱回流裝置 400-滾柱槽 41-循環(huán)基軌 4101-卡制斜面部 411-內(nèi)直條部 413-內(nèi)回轉(zhuǎn)部 4131-插槽 4133—卡制凹槽 420-卡制片 43-側(cè)蓋 431—油溝 45-滾柱組 451-滾柱 50-線性滑軌 52-下滾動(dòng)面10-12-14-16-21-滑塊本體 上滾動(dòng)面 上回流孔 v形凹槽 回轉(zhuǎn)槽40-滾柱循環(huán)單元410-外直條部412-外回轉(zhuǎn)部 4130-突緣 4132—擋柱 42-回流蓋430-432-450-凹榨曰透油孔 保持器51-上滾動(dòng)面具體實(shí)施方式
如圖1至圖3所示，線性滑±央1是包括一滑i央本體10、兩±央分別設(shè)于滑±央本體 10兩端的端蓋20、兩片分別設(shè)于端蓋20夕卜表面的刮油片30、以及兩組分別安裝于 滑土央本體10的滾柱回流裝置4，該端蓋20朝向滑i央本體10的端面，設(shè)有兩個(gè)可局 部容設(shè)滾柱回流裝置4的回轉(zhuǎn)槽21、以及一M兩回轉(zhuǎn)槽21的油路22，每一回轉(zhuǎn) 槽21是包括兩個(gè)呈九十度交槽的凹部，線性滑塊1藉由兩組滾柱回流裝置4在一線 性滑軌50上位移。
請(qǐng)參閱圖3至圖5所示，滑i央本體10底部設(shè)有一凹入的滑槽11，以容設(shè)線性 滑軌50，該滑槽11的二側(cè)邊及線性滑軌50的兩側(cè)邊分別設(shè)有一上滾動(dòng)面12/51及 一下滾動(dòng)面13/52，另外于滑塊本體10內(nèi)部兩側(cè)分別設(shè)有一個(gè)上回流孔14、 一個(gè)下 回流 L 15，所述的滾柱回流裝置4即分別置于上回流 L 14、下回流孔15及上滾動(dòng) 面12、下滾動(dòng)面13上。
請(qǐng)參閱圖6、 7所示，該滾柱回流裝置4是包括兩個(gè)滾柱循環(huán)單元40，以及兩 排分別安裝于滾柱循環(huán)單元40內(nèi)的滾柱組45，該滾柱循環(huán)單元40進(jìn)一步包括一個(gè) 循環(huán)基軌41、 一回流蓋42及一側(cè)蓋43，其中，該循環(huán)基軌41是一體成型的長形環(huán) 體，其朝外的周壁上設(shè)有一道凹入的滾柱槽400，循環(huán)基軌41包括一外直條部410、 —內(nèi)直條部411、一外回轉(zhuǎn)部412、 一內(nèi)回轉(zhuǎn)部413，所述滾柱槽400即形成于內(nèi)、 外直條部411/410及內(nèi)、外回轉(zhuǎn)部413412的外表面，并且滾柱槽400是貫穿于外直 條部410周壁，其中，激卜回轉(zhuǎn)部412是一體連接于兩個(gè)直條部410/411的其中一 端，而內(nèi)回轉(zhuǎn)部413是一體連接于外直條部410—端，而與內(nèi)直條部411形成一小 間隙，并且內(nèi)回轉(zhuǎn)部413鄰近內(nèi)直條部411端，是設(shè)有一小段朝向內(nèi)直條部411突 出的突緣4130，該突緣4130與內(nèi)直條部411之間具有一間隙，使內(nèi)直條部411 一 端固定于外回轉(zhuǎn)部412而另一端為可以扳開狀，以供兩條循環(huán)基軌41可以相互垂直 插卡(如圖6)，使任一個(gè)循環(huán)基軌41的內(nèi)回轉(zhuǎn)部413分別位于另一個(gè)循環(huán)基軌41 的外回轉(zhuǎn)部412內(nèi)部；
所述回流蓋42是相應(yīng)蓋合于圓弧形的內(nèi)回轉(zhuǎn)部413外部，回流蓋42中空的內(nèi) 部與內(nèi)回轉(zhuǎn)部413的滾柱槽400對(duì)合形成可供滾柱組45通過的空間，回流蓋42較 佳的是于兩側(cè)邊分別設(shè)有一突出的卡制片420,而內(nèi)回轉(zhuǎn)部413的外周壁設(shè)有匹配 的二卡審ij凹槽4133，又于內(nèi)回轉(zhuǎn)部413與外直條部410連接端設(shè)有凹入的二插槽 4131、以及兩個(gè)分別位于插槽4131—側(cè)的擋柱4132,而回流蓋42的其中一端則匹配插卡于插槽4131，并且藉由擋柱4132擋止，使回流蓋42得以蓋合定位于內(nèi)回轉(zhuǎn) 部413外側(cè)；
所述側(cè)蓋43是蓋合于內(nèi)直條部411外部的條形殼體，其斷面呈三個(gè)周壁，以圍 成一個(gè)可供滾柱組45通過的凹槽430，且凹槽430的槽底設(shè)有一道凹入的油溝431 ， 而側(cè)蓋43周壁上設(shè)有多個(gè)垂直貫穿于油溝431的透油孔432;
所述滾柱組45是包括一具有撓性的帶狀保持器450，以及多個(gè)間隔安裝于保持 器450內(nèi)的滾柱451，該保持器450及滾柱451為習(xí)知，且非本案重點(diǎn)不再復(fù)述。
上述為本實(shí)用新型的基本型態(tài)，其組裝方式及型態(tài)說明如后
請(qǐng)復(fù)參閱圖3及圖5所示，每一滾柱回流裝置4是以其中一循環(huán)基軌41的內(nèi)直 條部411插入滑i央本體10上回流孔14，而外直條部410位于下滾動(dòng)面13上；又以 另一循環(huán)基軌41的內(nèi)直條部411插入下回流孔15，而外直條部410位于上回流孔 14上，并且使循環(huán)基軌41的內(nèi)回轉(zhuǎn)部413位于另一循環(huán)基軌41的外回轉(zhuǎn)部412內(nèi)， 再以二回流蓋42分別蓋合于內(nèi)回轉(zhuǎn)部413,另將二側(cè)蓋43分別插入上回流孔14、 下回流孔15內(nèi)，而與內(nèi)直條部411的滾柱槽400對(duì)合。兩個(gè)滾柱組45即分別安裝 于循環(huán)基軌41與側(cè)蓋43、回流蓋42之間，并且在上滾動(dòng)面12、下滾動(dòng)面13上滾 動(dòng)，而由于滾柱槽400是貫穿外直條部410周壁，因此，滾柱451同時(shí)在線性滑軌 50的上滾動(dòng)面51、下滾動(dòng)面52上滾動(dòng)，而滾柱循環(huán)單元40的回流蓋42及外回轉(zhuǎn) 部412均突出于滑±央本體10端部，再相應(yīng)插置于圖2所示端蓋20的回轉(zhuǎn)槽21內(nèi)。
此外，本實(shí)用新型的細(xì)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)具有下述特點(diǎn)
1. 完成組裝以后，如圖3所示將回流蓋42朝向滑塊本體10方向推移，使內(nèi)回 轉(zhuǎn)部413的突緣4130進(jìn)入下回流孔15 /上回流孔14內(nèi)，艮口，突緣4130及內(nèi)直條 部411均受到下回流孔15 /上回流孔14周壁的限制及撐持，不至于發(fā)生突緣4130 及內(nèi)直條部411高低不平的情形，不影響滾柱451滾動(dòng)通過，雖然二者之間具有小 間隙，但該間隙是位于直線上，因此，滾柱451可順利通過，不致影響滾柱運(yùn)動(dòng)的 順暢性。
2. 如圖5及圖8局部放大圖所示，側(cè)蓋43的二側(cè)邊外周壁為圓弧狀，藉以頂 撐于下回流孔15、上回流孔14的周壁，側(cè)蓋43位于中段的外周壁為平面狀，以與 下回流 L 15 /上回流孔14周壁形成一可容設(shè)潤滑劑的空間，潤滑劑由圖2所示的 端蓋20油路22注入回轉(zhuǎn)槽21內(nèi)，再注入滑i央本體10的上回流孔14、下回流孔15 內(nèi)，而后經(jīng)由側(cè)蓋43的透油孔432注入油溝431，提供滾柱451滾動(dòng)時(shí)所需的潤滑度，以降^S減少摩擦阻力，藉由透油孔432的設(shè)置可以使?jié)櫥瑒┙?jīng)由側(cè)蓋43夕卜部 進(jìn)入內(nèi)部，又藉由油溝431的設(shè)置，可以提供油路空間，保持油路順暢。
3. 再由圖5、 8所示，滑塊本體10的上滾動(dòng)面12及下滾動(dòng)面13之間設(shè)有一由 滑槽11凹入的v形凹槽16，而二循環(huán)基軌41的外直條部410其中一側(cè)設(shè)有一匹配 插入v形凹槽16內(nèi)的卡制斜面部4101，使兩個(gè)外直條部410獲f導(dǎo)定位，循環(huán)基軌 41因?yàn)橥庵睏l部410及內(nèi)直條部411均被定位住而不會(huì)任意位移。
4. 請(qǐng)參閱圖9所示，本實(shí)用新型進(jìn)一步將位于外直條部410的滾柱槽400 二側(cè) 周壁設(shè)有朝內(nèi)突出的擋緣4102， 二擋緣4102的距離小于滾柱451的長度，使?jié)L柱 451不需要保持器，可以直接置入滾柱槽400內(nèi)，藉由擋緣4102的限制而不脫出。
權(quán)利要求1.一種線性滑塊的滾柱回流裝置，其特征在于，包括兩個(gè)滾柱循環(huán)單元，每一滾柱循環(huán)單元分別包括一循環(huán)基軌，包括一體制成的一外直條部、一內(nèi)直條部、一外回轉(zhuǎn)部及一內(nèi)回轉(zhuǎn)部，其中，該外回轉(zhuǎn)部為彎弧形，一體連接于外直條部及內(nèi)直條部的其中一端，該內(nèi)回轉(zhuǎn)部為彎弧形，一體連接于外直條部的另一端并且與內(nèi)直條部保持一間隙，該內(nèi)回轉(zhuǎn)部、內(nèi)直條部、外回轉(zhuǎn)部、及外直條部外周壁上形成一道暢通的滾柱槽，且位于外直條部的滾柱槽是貫穿于朝向內(nèi)直條部的周壁，又內(nèi)回轉(zhuǎn)部設(shè)有一朝向內(nèi)直條部突出的突緣，該突緣末端與內(nèi)直條部之間形成所述之間隙；一回流蓋，是對(duì)合封閉于內(nèi)回轉(zhuǎn)部的外側(cè)；一側(cè)蓋，是對(duì)合封閉于內(nèi)直條部的外側(cè)；二滾柱循環(huán)單元的循環(huán)基軌垂直交叉，使任一循環(huán)基軌的內(nèi)回轉(zhuǎn)部及回流蓋，位于另一循環(huán)基軌的外回轉(zhuǎn)部內(nèi)部。
2. 如權(quán)利要求1所述的線性滑塊的滾柱回流裝置，其特征在于，其中，于側(cè)蓋朝 向滾柱槽的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有一道凹入的油溝。
3. 如權(quán)禾腰求2所述的線性滑塊的滾柱回流裝置，其特征在于，其中，設(shè)有油溝 的側(cè)蓋周壁上，設(shè)有多個(gè)貫穿內(nèi)外周壁的透油孔，且設(shè)有透油孔的外周壁為一 平面。
4. 如權(quán)禾腰求1所述的線性滑塊的滾柱回流裝置，其特征在于，其中，位于外直 條部外側(cè)的滾柱槽二周壁，分別設(shè)有一道相向突出的擋緣，二擋緣的距離小于 滾柱槽的寬度。
5. 如權(quán)禾腰求1所述的緣性滑塊的滾柱回流裝置，其特征在于，其中，滾柱回流 體的二外直條部的其中一頂湘互貼靠，其相互貼靠側(cè)分別設(shè)有一道朝向內(nèi)直 條部突出的卡制斜面部。
6. 如權(quán)禾腰求1所述的線性滑塊的滾柱回流裝置，其特征在于，其中，回流蓋與 內(nèi)回轉(zhuǎn)部周壁設(shè)有匹配的卡制片、卡制凹槽，又于內(nèi)回轉(zhuǎn)部與外直條部連接端 設(shè)有凹入的二插槽，而回流蓋的端部匹配插卡于卡制插槽。
專利摘要一種線性滑塊的滾柱回流裝置，包括兩個(gè)滾柱循環(huán)單元，每一滾柱循環(huán)單元分別包括一循環(huán)基軌、一回流蓋及一側(cè)蓋，其中，循環(huán)基軌為一體成型幾乎呈封閉狀的長形環(huán)狀體，包括一外直條部、一內(nèi)直條部、一體連接于二直條部其中一端的一外回轉(zhuǎn)部、一體連接于外直條部另一端的內(nèi)回轉(zhuǎn)部，該內(nèi)回轉(zhuǎn)部與內(nèi)直條部之間具有一間隙，使內(nèi)直條部可以扳開，將二滾柱循環(huán)單元的循環(huán)基軌垂直交叉，并且使任一循環(huán)基軌的內(nèi)回轉(zhuǎn)部位于另一循環(huán)基軌的外回轉(zhuǎn)部內(nèi)，另于內(nèi)回轉(zhuǎn)部及內(nèi)直條部外側(cè)分別以所述的回流蓋、側(cè)蓋對(duì)合封閉，使?jié)L柱組在滾柱槽內(nèi)循環(huán)滾動(dòng)，本實(shí)用新型單一循環(huán)基軌即可以形成完整的滾柱槽，其結(jié)構(gòu)強(qiáng)度佳，并且可以減少滾柱滾動(dòng)時(shí)的摩擦阻力。
文檔編號(hào)F16C29/06GK201173249SQ20082000374
公開日2008年12月31日 申請(qǐng)日期2008年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月15日
發(fā)明者吳清山, 陳仁文, 陳孟宜 申請(qǐng)人:鼎耀科技股份有限公司