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流體流動(dòng)控制裝置和系統(tǒng)以及使流體從其中流動(dòng)通過的方法

文檔序號:5631808閱讀:221來源:國知局
專利名稱:流體流動(dòng)控制裝置和系統(tǒng)以及使流體從其中流動(dòng)通過的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本公開大體上涉及流體流動(dòng)控制裝置。更具體地,本公開的實(shí)施例涉及這樣的裝置,所述裝置被配置成減少經(jīng)過其的流體的壓力和能量。
背景技術(shù)
在許多工業(yè)領(lǐng)域,通常需要減少管線中的流體(液體和氣體)的壓力和能量。為此目的可采用一個(gè)或多個(gè)控制裝置。在本領(lǐng)域中已經(jīng)存在用于控制裝置的各種設(shè)計(jì)。例如, 可采用一種裝置將通過該裝置的流分成多個(gè)分離流,所述多個(gè)分離的流配置為在所述裝置內(nèi)的多個(gè)曲折的流體流動(dòng)路徑。當(dāng)流體經(jīng)過所述曲折的流體流動(dòng)路徑時(shí),導(dǎo)致所述流體多次改變方向。此外,當(dāng)流體行進(jìn)通過該曲折的流體流動(dòng)路徑時(shí),流體流動(dòng)路徑的總截面面積可增加,以提供流動(dòng)路徑內(nèi)的流體速度的降低。由于所述路徑的壁之間的摩擦所導(dǎo)致的損失、擴(kuò)展或收縮的腔、和流體方向的快速變化,流體的流體壓力和能量沿著這種路徑部分耗散。這些裝置可包括通常稱為“曲折路徑修整裝置”的裝置。流體流動(dòng)控制裝置常規(guī)地具有盤的堆疊或多個(gè)同心圓柱形套筒的形式。在以前的設(shè)計(jì)中,多個(gè)基本上平面的盤在彼此頂部堆疊以提供中空的圓柱形結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)通常稱為“閥修整盤組件”。每個(gè)盤通常都包括通過該盤形成的多個(gè)空間。所述盤對齊且堆疊在一起,使得由所述盤中的空間提供多個(gè)連續(xù)曲折的流體路徑,其從中空的圓柱形閥修整盤組件的中心區(qū)域延伸到閥修整盤組件的外部。在近來的設(shè)計(jì)中,套筒徑向穿孔,相鄰套筒的所述穿孔偏移以導(dǎo)致所述流體在曲折的路徑中流動(dòng)。套筒由中間環(huán)形通道分離,中間環(huán)形通道允許經(jīng)過其的流體在其隨后需要收縮以經(jīng)過下一個(gè)套筒的穿孔之前擴(kuò)展。這種設(shè)計(jì)的具體幾何形狀布置配置成允許每條流的流體的壓力以相對小的增量并且在許多級中下降。流體流動(dòng)控制裝置通常設(shè)置在閥(諸如控制閥)的主體中,所述閥具有常規(guī)地配置成將流體從入口朝向中空的、圓柱形的流體流動(dòng)控制裝置導(dǎo)引的主體。閥還可被配置成將流體朝向流體出口導(dǎo)引,經(jīng)過流體流動(dòng)控制裝置至其外部。閥包括活塞、球形體、盤或配置成插入閥的中心區(qū)域以中斷流體流動(dòng)通過和關(guān)閉閥的其它裝置。加壓流體包含存儲(chǔ)的機(jī)械勢能。流體流動(dòng)控制裝置通過減少流體的壓力和速度來耗散此能量。當(dāng)流體流動(dòng)通過流體通路時(shí),流體流動(dòng)可以是湍流的。湍流流體具有關(guān)聯(lián)的壓力和速度波動(dòng),其作用在管子的結(jié)構(gòu)元件和流體在其中流動(dòng)的流體控制裝置上。這些壓力和速度波動(dòng)通常伴隨著其它問題,諸如腐蝕、噪音、振動(dòng)和氣穴現(xiàn)象。在許多應(yīng)用中,這些伴隨的問題是流體流動(dòng)控制裝置的不期望的或不可接受的特征。

發(fā)明內(nèi)容
本公開的各種實(shí)施例包括流體流動(dòng)控制裝置。在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中,流體流動(dòng)控制裝置可包括主體,該主體包括沿著其縱向軸線延伸通過其的中心孔。至少一個(gè)第一通道,其可從主體的外側(cè)壁延伸至主體的內(nèi)側(cè)壁。至少一個(gè)第二通道,其可從主體的外側(cè)壁延伸至主體的內(nèi)側(cè)壁并且與所述至少一個(gè)第一通道相交。在一個(gè)或多個(gè)另外的實(shí)施例中,流體流動(dòng)控制裝置可包括主體,該主體包括沿著縱向軸線軸向聯(lián)接在一起的多個(gè)盤。所述多個(gè)盤中的至少一個(gè)盤可包括在其表面中的多個(gè)槽,所述多個(gè)槽從所述至少一個(gè)盤的外徑延伸到內(nèi)徑,并且配置成使得所述多個(gè)槽的至少兩個(gè)相交。本公開的另外的實(shí)施例包括流體流動(dòng)控制系統(tǒng)。這種系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例可包括流體入口和定位成與流體入口相關(guān)的流體流動(dòng)控制裝置,使得從流體入口經(jīng)過的流體流動(dòng)通過該流體流動(dòng)控制裝置。流體流動(dòng)控制裝置可包括至少一個(gè)第一通道,第一通道從主體的外側(cè)壁延伸到延伸通過該主體的中心孔的內(nèi)側(cè)壁。至少一個(gè)第二通道可從主體的外側(cè)壁延伸到主體的內(nèi)側(cè)壁并與所述至少一個(gè)第一通道相交。其他實(shí)施例包括用于形成流體流動(dòng)控制裝置的方法。這種方法的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例可包括在至少一個(gè)盤的表面中形成至少一個(gè)第一槽。所述至少一個(gè)第一槽可從所述至少一個(gè)盤的外徑延伸至其內(nèi)徑。至少另一個(gè)槽可形成在所述至少一個(gè)盤的表面中,從所述至少一個(gè)盤的外徑延伸到內(nèi)徑并且與所述至少一個(gè)第一槽相交。所述至少一個(gè)盤可聯(lián)接到至少一個(gè)另一個(gè)盤。在又一個(gè)其他實(shí)施例中,本公開包括用于使流體流動(dòng)通過流體流動(dòng)控制裝置的方法。在這種方法的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中,流體可流動(dòng)通過在主體的外表面和延伸通過主體的孔的內(nèi)表面之間延伸的通道。流體還可流動(dòng)通過至少一個(gè)第二通道,所述至少一個(gè)第二通道在主體的外表面和內(nèi)表面之間延伸并且與所述通道的至少一部分相交。流動(dòng)通過所述通道的流體可沖擊入流動(dòng)通過所述至少一個(gè)第二通道的流體中。


圖1示出了流體流動(dòng)控制系統(tǒng)的截面正視圖,流體流動(dòng)控制系統(tǒng)包括閥組件,其包括根據(jù)至少一個(gè)實(shí)施例的流體流動(dòng)控制裝置。圖2示出了圖1的根據(jù)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的流體流動(dòng)控制裝置的等距視圖。圖3是包括兩個(gè)或更多個(gè)盤的流體流動(dòng)控制裝置的剖切部分的透視圖。圖4是包括根據(jù)至少一個(gè)實(shí)施例的多個(gè)弓形通道的盤的平面圖,并且示出了通過所述通道的一些的流體流。圖5是用在根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的流體流動(dòng)控制系統(tǒng)中的流體流動(dòng)控制裝置的正視圖。
具體實(shí)施例方式呈現(xiàn)在本文中的例子在一些情況中并不是任何具體的流體流動(dòng)控制裝置、座保持器或控制閥的實(shí)際視圖,而僅是理想的表示,采用它們以描述本公開。另外,附圖之間相同的元件可保持相同的附圖標(biāo)記。本公開的各種實(shí)施例包括流體流動(dòng)控制裝置。圖1示出了流體流動(dòng)控制系統(tǒng)的截面等距視圖,流體流動(dòng)控制系統(tǒng)包括閥組件100,閥組件100包括根據(jù)至少一個(gè)實(shí)施例的流體流動(dòng)控制裝置110。也可稱為控制閥的閥組件100包括限定流體入口 130和流體出口 140的閥主體120,流體入口 130和流體出口 140在使用中可以連接到管子(未示出),所述管子將流體輸送到閥組件100或從閥組件100輸送流體。盡管閥組件100示出為具有入口 130和出口 140,但是閥組件100可以被用在流體流動(dòng)反向的應(yīng)用中。流體流動(dòng)的方向可根據(jù)具體應(yīng)用來選擇。塞腔150可定位在入口 130和出口 140之間,塞頭160可設(shè)置在其中。塞頭160聯(lián)接到軸165,并且被配置成在塞腔150中在全打開位置和關(guān)閉位置之間移動(dòng)。在打開位置, 塞頭160被縮回以提供流體入口 130和流體出口 140之間的流體連通,從而允許流體從流體入口 130流動(dòng)到塞腔150并進(jìn)入流體出口 140。在關(guān)閉位置,塞頭160鄰接閥座170,形成物理中斷流體入口 130和流體出口 140之間的流體連通的密封,從而有效地阻擋了流體流動(dòng)通過閥主體120。軸165可包括可控制地聯(lián)接至其的致動(dòng)器,并且被配置成控制塞頭160的位置。致動(dòng)器可包括對那些本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言已知的任何合適的致動(dòng)器。另外,定位器可以可操作地聯(lián)接到致動(dòng)器。定位器可包括任何常規(guī)的定位器,適于與所選的致動(dòng)器一起使用,如本領(lǐng)域的那些普通技術(shù)人員已知的那樣。如在圖1中所描繪的實(shí)施例所示出的那樣,流體流動(dòng)控制裝置110可配置為設(shè)置在閥座170上和塞腔150中的座保持器。流體流動(dòng)控制裝置110定位和配置成使得所有流體都經(jīng)過閥主體120流動(dòng)通過流體流動(dòng)控制裝置110。圖2示出了根據(jù)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的圖1的流體流動(dòng)控制裝置110的等距視圖。 流體流動(dòng)控制裝置Iio包括具有中心孔220的主體210,其中中心孔220沿著所述主體210 的縱向軸線230延伸通過主體。主體210包括在所述主體210的外表面250和內(nèi)表面沈0 之間延伸并且與所述主體210的外表面250和內(nèi)表面260連通的多個(gè)通道M0。至少一個(gè)通道240配置成與至少一個(gè)另一個(gè)通道240相交。在至少一個(gè)實(shí)施例中,流體流動(dòng)控制裝置110的主體210可包括多個(gè)基本上平面的且彼此相鄰堆疊的盤。圖3是包括兩個(gè)或更多個(gè)盤310的流體流動(dòng)控制裝置110的剖切部分的透視圖。至少一個(gè)盤310包括從盤的外徑區(qū)域徑向延伸到盤的內(nèi)徑區(qū)域的兩個(gè)或更多個(gè)通道M0。至少一個(gè)通道240配置成與至少一個(gè)其他通道240相交。在其他實(shí)施例中,所述兩個(gè)或更多個(gè)通道240都可包括形成在盤310的表面中的槽,并且可以包括至少基本上垂直于所述表面延伸的側(cè)壁。在至少一些實(shí)施例中,通道MO 可在所述盤310的表面上非直線地延伸。例如,在至少一些實(shí)施例中,所述通道240可基本上弓形地在盤310的表面上延伸。在其他實(shí)施例中,通道240可基本上直線地在盤310的表面上延伸。通道240可在兩個(gè)通道240之間配置有所選的相交角度以定制相交的效果。在一些實(shí)施例中,通道240可具有基本上恒定的寬度和深度,而在其他實(shí)施例中, 通道240可具有變化的寬度、深度或它們的組合。通道240的寬度和/或深度可變化,以定制通過通道MO的壓力下降的位置并可基于具體的應(yīng)用而配置。此外,通道240的深度可根據(jù)具體應(yīng)用和具體的流體流動(dòng)控制裝置的配置而選擇。所述兩個(gè)或更多個(gè)通道240中的每一個(gè)都可被配置成與至少一個(gè)其他通道240相交,所述相交包括能量減小級320。級320的數(shù)量可由相交的數(shù)量確定,并可基于具體應(yīng)用而選擇。例如,在一些實(shí)施例中,每個(gè)通道240都可包括單個(gè)級320。在其他實(shí)施例中,每個(gè)通道240都可包括多個(gè)級320。以示例并且非限制的方式,每個(gè)通道都可包括一個(gè)和七個(gè)級 320之間。在其他實(shí)施例中,級320的數(shù)量可超過七個(gè)。
通道240可配置成與外表面250、內(nèi)表面沈0、以及另一個(gè)通道MO以特定角度相交。相交的角度可被選擇,以最大化對經(jīng)過流體流動(dòng)控制裝置的流體的作用,并且可根據(jù)特定應(yīng)用而變化。此外,對于單個(gè)通道240而言,至少內(nèi)表面沈0、外表面250以及各個(gè)級320 之間的一些相交角度可不同。例如,在包括弓形通道240的實(shí)施例中,在外表面250、在第一級320、在一個(gè)或多個(gè)附加級320以及在內(nèi)表面260處的相交角度每個(gè)都可包括不同的值。流體流動(dòng)控制裝置110取決于具體應(yīng)用可包括多種材料。以示例并且非限制的方式,本公開的流體流動(dòng)控制裝置110的實(shí)施例可包括金屬或金屬合金(諸如鋼)、陶瓷或其他合適的材料。在包括多個(gè)盤310的實(shí)施例中,可形成通道240并且盤310可設(shè)置成彼此相鄰并且固定在位,如將在下文中更詳細(xì)的描述的那樣。圖4是根據(jù)至少一個(gè)實(shí)施例的包括多個(gè)弓形通道MO的盤310的平面圖,并且示出了通過所述通道MO中的一些的流體流。流體可在流體流動(dòng)控制裝置110的外表面250 和內(nèi)表面260之間流動(dòng)。在圖4中,流體流被示出為從外表面250向內(nèi)表面260流動(dòng),稱為 “上方流(flow over)”設(shè)計(jì)。但是,取決于具體的應(yīng)用,在其他實(shí)施例中,流體流可被配置成從內(nèi)表面260向外表面250流動(dòng),稱為“下方流(flow under)”設(shè)計(jì)。流體流動(dòng)通過所述多個(gè)通道M0,所述多個(gè)通道240在外表面250和內(nèi)表面沈0 之間延伸。每個(gè)通道240都與一個(gè)或多個(gè)其他通道在級320處相交。例如,在由圖4描繪的實(shí)施例中,每個(gè)通道都包括4個(gè)級。當(dāng)流體流動(dòng)通過每個(gè)通道240時(shí),每個(gè)通道240中的流體在級320處沖擊來自一個(gè)或多個(gè)其他通道240的流體。在沖擊點(diǎn)處(即,在每個(gè)級320 處),兩個(gè)相交通道240中的流體被迫同時(shí)配合地通過包括單個(gè)通道240的寬度的面積。換句話說,兩倍的流體體積被迫流動(dòng)通過單個(gè)通道MO的寬度,導(dǎo)致流體可流動(dòng)通過的面積突然收縮。當(dāng)流體繼續(xù)進(jìn)入所述兩個(gè)相交通道240中的一個(gè)時(shí),相比于相交相關(guān)的面積,流體經(jīng)歷了可從其中流動(dòng)通過的突然的面積擴(kuò)展。流體流動(dòng)通過的所述面積的所述突然收縮和擴(kuò)展導(dǎo)致了流動(dòng)通過其的流體的壓力的減小。流體可隨后以比流體進(jìn)入通道240的壓力低的壓力離開通道對0。本公開的另外的實(shí)施例包括形成流體流動(dòng)控制裝置的方法。這種方法的實(shí)施例參照圖1-5來描述。如在上文中闡述的那樣,本公開的流體流動(dòng)控制裝置110的至少一些實(shí)施例可包括多個(gè)彼此相鄰堆疊的基本上平面的盤310。盤310可由基本上圓形的形狀形成,并且包括形成于其中的中心孔220。盤310的厚度可根據(jù)具體應(yīng)用而選擇。僅以示例的方式,至少一些實(shí)施例可采用包括選自大約0. 125 in.和0. 5 in.(大約3. 175 mm和12. 7 mm)的厚度的盤310。在其他實(shí)施例中,盤310可包括大于0. 5 in. (12.7 mm)的厚度。具有通道MO的形式的流體通路可形成在盤310中。在至少一些實(shí)施例中,通道 240可使用切割器在盤310中切割出通道來形成。以示例并且非限制的方式,切割器可包括孔鋸,其可適于形成弓形通道對0,或盤鋸,其可適于形成基本上直線的通道對0。切割器可在不完全切割穿過所述盤310的情況下部分進(jìn)入到盤310中并且進(jìn)入至選定的深度。采用切割器(諸如孔鋸)的單次切割可同時(shí)形成兩個(gè)通道M0。例如,采用孔鋸的單次切割可形成圖4中的通道440A和440B。至少兩個(gè)通道240可形成在盤310的表面中,所述通道在一些點(diǎn)處相交以形成級320。通道240的深度可取決于具體的應(yīng)用和盤310的厚度而變化。例如,較薄的盤310 將僅允許更淺的通道對0,而相對厚的盤310將允許更深的通道M0。在至少一個(gè)實(shí)施例中,僅可采用一到三個(gè)相當(dāng)厚的盤310,并且厚的通道240可形成于其中。這種具有深的通道MO的厚的盤310可適于各種應(yīng)用,諸如僅具有開或關(guān)性能的閥。通道MO的寬度也可根據(jù)具體應(yīng)用而變化。通常,通道MO的寬度可由用于形成通道MO的切割器的厚度而確定。但是,比切割器的厚度寬的通道240可通過將切割器兩次或多次在幾乎相同的位置進(jìn)入盤310的表面來形成。盤310可設(shè)置成彼此相鄰并固定在位。盤310可設(shè)置成使得其中具有通道240的一個(gè)盤310的表面定位成相鄰于其中沒有通道MO的另一個(gè)盤的表面。在其他實(shí)施例中, 盤310可設(shè)置成使得其中具有通道240的一個(gè)盤310的表面定位成相鄰于其中也具有通道 240的另一個(gè)盤的表面。在這種實(shí)施例的各種配置中,每個(gè)表面中的通道240可取向成基本上對齊或部分偏移,諸如美國專利公開No. 2006/0191584所教導(dǎo)的流體通路。在一些實(shí)施例中,盤310可包括形成在通道240之間的通孔(未示出)并且可采用螺栓或銷(未示出)穿過通孔以對齊盤310和將盤310固定在一起。在其他實(shí)施例中,該堆盤310可通過粘合或者通過釬焊或焊接到一起而被固定。在盤310包括陶瓷材料的實(shí)施例中,盤310可使用本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員已知的用于將陶瓷材料固定在一起技術(shù)被彼此固定。盡管本公開已經(jīng)描述了用在閥中的流體流動(dòng)控制裝置110的實(shí)施例,但是本發(fā)明不限于此。本公開的流體流動(dòng)控制裝置的各種實(shí)施例可被用于各種應(yīng)用中以減小流動(dòng)通過系統(tǒng)的流體的壓力和/或能量。圖5是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的用在流體流動(dòng)控制系統(tǒng)的流體流動(dòng)控制裝置510的正視圖。流體流動(dòng)控制裝置510在一個(gè)縱向端聯(lián)接到流體入口,諸如管子 520,并可在相反的縱向端封閉。流動(dòng)通過管子520的流體可進(jìn)入流體流動(dòng)控制裝置510的中心孔并且可經(jīng)過多個(gè)通道240至外部。這種流體流動(dòng)控制裝置510可用在各種應(yīng)用中, 諸如但不限于,使流體流動(dòng)進(jìn)入流體罐,使流體流動(dòng)進(jìn)入河或其他流體流,用于將流體釋放到周圍環(huán)境的排氣系統(tǒng),或使流體從管子520流動(dòng)到另一管子。盡管附圖中已經(jīng)描述和示出了某些實(shí)施例,但這些實(shí)施例僅為示意性的,而不限制本公開的范圍,且本公開不限于所示和所述的特定構(gòu)造和布置,因?yàn)閷λ鰧?shí)施例的各種其它添加和修改及刪減對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員是顯而易見的。因此,本公開的范圍僅由以下權(quán)利要求的書面語言和法律等同物限制。
權(quán)利要求
1.一種流體流動(dòng)控制裝置,包括主體,所述主體包括沿著其縱向軸線延伸通過所述主體的中心孔;至少一個(gè)第一通道,其從所述主體的外側(cè)壁延伸至所述主體的內(nèi)側(cè)壁;至少一個(gè)第二通道,其從所述主體的所述外側(cè)壁延伸至所述主體的所述內(nèi)側(cè)壁,并且與所述至少一個(gè)第一通道相交。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述主體包括彼此相鄰堆疊的多個(gè)ο
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述至少一個(gè)第一通道和所述至少一個(gè)第二通道在所述主體的所述外側(cè)壁和所述內(nèi)側(cè)壁之間的寬度和深度中的至少一個(gè)方面不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述至少一個(gè)第一通道與多個(gè)其他通道相交。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述至少一個(gè)第一通道和所述多個(gè)其他通道之間的至少一些相交角度是不同的。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述多個(gè)盤沿著縱向軸線軸向聯(lián)接在一起,其中所述多個(gè)盤中的至少一個(gè)盤包括在其表面中從所述至少一個(gè)盤的所述外側(cè)壁向所述內(nèi)側(cè)壁延伸的多個(gè)通道,其中所述多個(gè)通道中的至少兩個(gè)相交。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述多個(gè)盤包括選自如下材料的組的材料,所述組包括金屬、金屬合金或陶瓷。
8.一種流體流動(dòng)控制系統(tǒng),包括流體入口 ;以及根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的流體流動(dòng)控制裝置,其中所述流體控制裝置定位成與所述流體入口相關(guān),使得從所述流體入口經(jīng)過的流體流動(dòng)通過所述流體流動(dòng)控制裝置,并且其中所述至少一個(gè)第一通道從所述主體的外側(cè)壁延伸至中心孔的內(nèi)側(cè)壁,所述中心孔延伸通過所述主體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的流體流動(dòng)控制系統(tǒng),還包括閥主體,閥主體包括定位在所述流體入口和流體出口之間的塞腔;塞頭,塞頭設(shè)置在所述塞腔中;并且其中所述流體流動(dòng)控制裝置配置為定位在所述塞腔中的座保持器。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的流體流動(dòng)控制系統(tǒng),其中所述流體流動(dòng)控制裝置在一個(gè)縱向端聯(lián)接到所述流體入口,并且在相反的縱向端封閉。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的流體流動(dòng)控制裝置或系統(tǒng),其中所述至少一個(gè)第一通道和所述至少一個(gè)第二通道基本上直線地從主體的外側(cè)壁向內(nèi)側(cè)壁延伸。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的流體流動(dòng)控制裝置或系統(tǒng),其中所述至少一個(gè)第一通道和所述至少一個(gè)第二通道基本上非直線地從所述主體的所述外側(cè)壁向所述內(nèi)側(cè)壁延伸。
13.一種形成流體流動(dòng)控制裝置的方法,包括在至少一個(gè)盤的表面中形成從所述至少一個(gè)盤的外徑向所述至少一個(gè)盤的內(nèi)徑延伸的至少一個(gè)第一槽;在所述至少一個(gè)盤的表面中形成從所述至少一個(gè)盤的外徑向所述至少一個(gè)盤的內(nèi)徑延伸的至少一個(gè)第二槽,并且所述至少一個(gè)第二槽與所述至少一個(gè)第一槽相交;并且將所述至少一個(gè)盤聯(lián)接到至少一個(gè)另一個(gè)盤。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成所述至少一個(gè)第一槽和所述至少一個(gè)第二槽包括在不完全切割通過所述至少一個(gè)盤的情況下,使切割器部分進(jìn)入到所述至少一個(gè)盤的所述表面中。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成所述至少一個(gè)第一槽和所述至少一個(gè)第二槽包括在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成至少一個(gè)第一非直線槽和至少一個(gè)第二非直線槽。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成所述至少一個(gè)第一非直線槽和所述至少一個(gè)第二非直線槽包括使孔鋸進(jìn)入到所述至少一個(gè)盤的所述表面中。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成所述至少一個(gè)第一槽和所述至少一個(gè)第二槽包括在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成至少一個(gè)第一直線槽和至少一個(gè)第二直線槽。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,還包括在所述至少一個(gè)盤的所述表面中形成所述至少一個(gè)第一槽和所述至少一個(gè)第二槽,以改變所述至少一個(gè)盤的所述外徑和所述內(nèi)徑之間的寬度和深度中的至少一個(gè)。
19.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中將所述至少一個(gè)盤聯(lián)接到至少另一個(gè)盤包括螺栓連接、粘附、釬焊和焊接所述至少一個(gè)盤至所述至少一個(gè)另一個(gè)盤中的至少一種。
20.一種使流體流動(dòng)通過流體流動(dòng)控制裝置的方法,包括使流體流動(dòng)通過在主體的外表面和孔的內(nèi)表面之間延伸的通道,所述孔延伸通過所述主體;使流體流動(dòng)通過至少一個(gè)在所述主體的所述外表面和所述內(nèi)表面之間延伸的第二通道,并且所述第二通道與所述通道的至少一部分相交;使流動(dòng)通過所述通道的所述流體沖擊到流動(dòng)通過所述至少一個(gè)第二通道的所述流體中。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法,其中使所述流體流動(dòng)通過所述通道并且通過所述至少一個(gè)第二通道包括使所述流體流動(dòng)通過直線的通道和通過直線的至少一個(gè)第二通道。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法,其中使所述流體流動(dòng)通過所述通道并且通過所述至少一個(gè)第二通道包括使所述流體流動(dòng)通過非直線的通道和通過非直線的至少一個(gè)第二通道。
全文摘要
流體流動(dòng)控制裝置包括主體,主體包括沿著縱向軸線延伸通過其的中心孔和多個(gè)從所述主體的外側(cè)壁延伸至所述主體的內(nèi)側(cè)壁的通道。至少一個(gè)第一通道可與至少一個(gè)其他通道相交。還公開了流體流動(dòng)控制系統(tǒng),形成流體流動(dòng)控制裝置的方法,以及使流體流動(dòng)通過流體流動(dòng)控制裝置的方法。
文檔編號F16K51/00GK102459980SQ200980160588
公開日2012年5月16日 申請日期2009年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月27日
發(fā)明者海恩斯 B., D.吉福德, 黑爾 M. 申請人:芙羅服務(wù)管理公司
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