專利名稱：防反應釜介質被污染的機械密封裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及反應釜，特別涉及一種用于藥品、食品等行業(yè)的可防反應釜介質 被污染的機械密封裝置。
背景技術：
藥品、食品等行業(yè)常使用反應釜合成生產成品或者中間產品，對產品有著高潔凈 度的要求，生產過程中應杜絕反應釜內發(fā)生介質污染。反應釜機械密封裝置由動環(huán)和靜環(huán) 構成端面密封，在使用過程中，動環(huán)、靜環(huán)摩擦副運轉摩擦會產生磨屑。如果不采取防護措 施，這些磨屑會逐步落入反應釜內，污染藥品、食品，嚴重影響產品質量。

實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是提供一種防反應釜介質被污染的機械密封裝 置，能有效地避免反應釜內介質不被污染。本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是本實用新型防反應釜介質被污 染的機械密封裝置，包括動環(huán)、靜環(huán)和靜環(huán)座，其特征是所述靜環(huán)與被密封軸之間設置有 磨屑收集環(huán)，該磨屑收集環(huán)的外表面與靜環(huán)的內壁之間形成用于積納磨屑的空腔。本實用新型的有益效果是，能有效地避免動環(huán)、靜環(huán)摩擦副產生磨屑落入反應釜 內，從而確保反應釜內介質不被污染。

本說明書包括如下二幅附圖圖1是本實用新型防反應釜介質被污染的機械密封裝置的裝配圖；圖2是圖1中A局部的放大示意圖。圖中示出零部件、部位名稱及所對應的標記動環(huán)10、靜環(huán)20、靜環(huán)座21、上0型 密封圈22、下0型密封圈23、磨屑收集環(huán)30、空腔31。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。參照圖1，本實用新型的防反應釜介質被污染的機械密封裝置，包括動環(huán)10、靜環(huán) 20和靜環(huán)座21。所述靜環(huán)20與被密封軸之間設置有磨屑收集環(huán)30，該磨屑收集環(huán)30的 外表面與靜環(huán)20內壁之間形成用于積納磨屑的空腔31，反應釜運行過程中動環(huán)、靜環(huán)摩擦 副產生的磨屑落入空腔31內，故能有效地避免磨屑落入反應釜內，從而確保反應釜內介質 不被污染。參照圖2，所述磨屑收集環(huán)30的上端面宜高出動環(huán)10、靜環(huán)20之間摩擦副的位 置。圖2則示出了磨屑收集環(huán)30的一種典型結構和安裝方式，即所述磨屑收集環(huán)30 的下端具有徑向延伸形成的凸緣，在該凸緣的上端面與靜環(huán)20的下端面之間設置有上0型密封圈22，在該凸緣的下端面與靜環(huán)座21的上端面之間設置有下0型密封圈23。 以上所述只是用圖解說明本實用新型防反應釜介質被污染的機械密封裝置的一 些原理，并非是要將本實用新型局限在所示和所述的具體結構和適用范圍內，故凡是所有 可能被利用的相應修改以及等同物，均屬于本實用新型所申請的專利范圍。
權利要求防反應釜介質被污染的機械密封裝置，包括動環(huán)(10)、靜環(huán)(20)和靜環(huán)座(21)，其特征是所述靜環(huán)(20)與被密封軸之間設置有磨屑收集環(huán)(30)，該磨屑收集環(huán)(30)的外表面與靜環(huán)(20)內壁之間形成用于積納磨屑的空腔(31)。
2.如權利要求1所述防反應釜介質被污染的機械密封裝置，其特征是所述磨屑收集 環(huán)(30)的上端面高出動環(huán)(10)、靜環(huán)(20)之間摩擦副的位置。
3.如權利要求1或2所述防反應釜介質被污染的機械密封裝置，其特征是所述磨屑 收集環(huán)(30)的下端具有徑向延伸形成的凸緣，該凸緣的上端面與靜環(huán)(20)的下端面之間 設置有上0型密封圈(22)，該凸緣的下端面與靜環(huán)座(21)的上端面之間設置有下0型密封 圈(23)。
專利摘要本實用新型公開了一種防反應釜介質被污染的機械密封裝置，旨在有效地避免動環(huán)、靜環(huán)摩擦副產生磨屑落入反應釜內，從而確保反應釜內介質不被污染。防反應釜介質被污染的機械密封裝置，包括動環(huán)(10)、靜環(huán)(20)和靜環(huán)座(21)，其特征是所述靜環(huán)(20)與被密封軸之間設置有磨屑收集環(huán)(30)，該磨屑收集環(huán)(30)的外表面與靜環(huán)(20)內壁之間形成用于積納磨屑的空腔(31)。
文檔編號F16J15/16GK201651309SQ20102003773
公開日2010年11月24日 申請日期2010年1月15日 優(yōu)先權日2010年1月15日
發(fā)明者蘭杰, 宋小平, 李學慶 申請人:四川省西密高技術有限公司