專利名稱：能夠沿兩個方向工作的、諸如阻尼器的摩擦控制的滑動裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種諸如阻尼器的摩擦控制的滑動裝置，該滑動裝置適于沿兩個方向滑動。
背景技術(shù)：
文獻FR 2 905 997公開了一種摩擦控制的裝置，該裝置包括安裝成沿滑動方向相對于彼此運動的第一元件和第二元件，該摩擦構(gòu)件設(shè)置在兩元件之間并由按壓構(gòu)件推向楔入位置，因而，在兩元件沿行進方向相對運動的一個方向上，該摩擦構(gòu)件防止兩元件進行運動，并且在相對運動的另一方向上，在兩元件上施加相對的摩擦力，該摩擦力取決于由按壓構(gòu)件施加至楔構(gòu)件的應(yīng)力。為此，摩擦構(gòu)件包括摩擦抵靠兩元件中的一個元件的摩擦表面，以及支承抵靠另一元件的支承表面，這兩個表面彼此成一角度。該裝置具有僅沿一個方向工作的缺點。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明意圖使已知的裝置對稱，以允許在受控的摩擦作用下沿兩個方向運動。為了實現(xiàn)這個目的，設(shè)置有摩擦控制的裝置，該裝置包括安裝成沿滑動方向相對于彼此運動的第一元件和第二元件，本發(fā)明的裝置的特征在于，它包括對稱地設(shè)置兩元件之間的第一摩擦構(gòu)件和第二摩擦構(gòu)件，以選擇性地摩擦抵靠第二元件，每個摩擦構(gòu)件由按壓構(gòu)件推向楔入位置，第一摩擦構(gòu)件設(shè)置成在兩元件之間沿行進方向相對運動的第一方向上趨向于防止兩元件之間的相對運動，并且在第二方向上在兩元件上施加相對的摩擦力，該摩擦力取決于由按壓構(gòu)件施加抵靠第一楔構(gòu)件的應(yīng)力；而第二摩擦構(gòu)件在第二方向上設(shè)置成趨向于防止兩元件之間的相對運動，并且在第一方向上在兩元件上施加相對的摩擦力，該摩擦力取決于由按壓構(gòu)件施加抵靠第二楔元件的應(yīng)力；該裝置還包括平衡裝置，該平衡裝置用于使兩摩擦構(gòu)件中的適于阻止元件沿一個方向或另一個方向相對運動的一個摩擦構(gòu)件平衡，同時使另一摩擦構(gòu)件施加相對的摩擦力。因此，通過平衡裝置來防止處于阻塞運動的位置的摩擦構(gòu)件施加它的阻塞作用。 然后，各元件抵抗由另一摩擦構(gòu)件施加的相對的摩擦力而沿正在討論的方向自由運動。在沿相對方向的運動過程中，摩擦構(gòu)件交換任務(wù)。


參見所附各圖可更好地理解本發(fā)明，附圖中圖1是本發(fā)明的裝置的示意圖；以及圖2是實施本發(fā)明的摩擦阻尼器的示意剖視圖。
具體實施例方式參見圖1，本發(fā)明的裝置包括第一元件1(在此為固定元件)以及安裝在第一元件 1上以沿縱向滑動的第二元件2。為此，第一元件1載有用于引導(dǎo)第二元件2的導(dǎo)向輪3。 在此，并且為了解釋的需要，假定第二元件如圖中箭頭所示向右運動。第一元件1具有壁4，在該壁的任一側(cè)上有兩個摩擦構(gòu)件，具體為兩個楔5，這兩個楔由按壓構(gòu)件(在此為兩個彈簧6)推向壁4。每個楔都具有摩擦抵靠第二元件2的摩擦面 7和相對于摩擦表面形成一角度的相對的支承面8兩個楔5對稱設(shè)置在壁4的任一側(cè)上。平衡臂10延伸穿過壁4，因而，平衡臂的兩端部在此借助于輪子11支承抵靠每個楔5的支承面8。平衡臂10支承抵靠壁4的背部12，因而，它沿平行于第二元件2的行進方向在縱長上自由運動。最后，壁4通過兩個上升底部13終止于任一側(cè)上，每個上升底部具有適于與對應(yīng)一個楔5的對應(yīng)斜面14協(xié)配的斜面。裝置按如下進行操作。在閑置階段，當(dāng)?shù)谝辉?和第二元件2之間未產(chǎn)生相對運動時，彈簧6使楔5和平衡臂10相對于壁4對中。楔5經(jīng)由它們的摩擦面7擱抵第二元件2。此后，當(dāng)?shù)诙?，在此為向右運動時，通過平衡臂10將左側(cè)楔推抵第二元件2 并與其共同運動，直到斜面14安裝到面對的上升底部13上為止。然后，左側(cè)楔被抬高，因而，摩擦面7與第二元件2分離。該楔不再能夠摩擦抵靠第二元件2，如此，該楔得以平衡。 它不再抵抗第二元件2的運動。然后，左側(cè)楔通過對應(yīng)的彈簧6保持與壁4鄰抵?？梢钥吹剑胶獗?0已向右運動了相同的量。右側(cè)楔最初與第二元件2共同運動，由此通過平衡臂10被推動，直到左側(cè)楔與壁 4鄰抵。在第二元件2的后續(xù)運動期間，右側(cè)楔傾向于被第二元件帶動來抵抗由對應(yīng)的彈簧6傳遞的阻力。然后，右側(cè)楔處于平衡位置，在該平衡位置，右側(cè)楔在第二元件上施加摩擦力，該摩擦力通過由彈簧6施加的應(yīng)力所控制。然后，右側(cè)楔完成其摩擦功能。當(dāng)然，該裝置是對稱的，且第二元件2向左的運動將引起右側(cè)楔平衡，而左側(cè)楔作為摩擦構(gòu)件被致動。應(yīng)當(dāng)觀察到，當(dāng)改變行進方向時有死區(qū)。當(dāng)?shù)诙淖兎较驎r，它帶動右側(cè)楔， 直到右側(cè)楔與壁4鄰抵，而左側(cè)楔通過平衡臂10被推回。在圖1中標(biāo)記為d的距離對應(yīng)于第二元件不受到任何相對力的死區(qū)。還應(yīng)當(dāng)觀察到，平衡臂10構(gòu)成用于通過在各楔之間保持一給定距離以及通過當(dāng)各楔都被第二元件2帶動時與它們一起運動來使楔5運動的構(gòu)件。平衡臂10還構(gòu)成用于支承面7的支承構(gòu)件，從而使活動的楔能夠產(chǎn)生受控的摩擦力。上述原理可在許多應(yīng)用場合中實施。例如，圖2是搖動的阻尼器的示意圖，該阻尼器例如適合用于對起落架的搖動進行衰減。在圖2中，向?qū)?yīng)于圖1元件的元件給出相同的附圖標(biāo)記再加上一百。所示各個部件環(huán)形對稱?？梢钥吹絻蓚€可互相運動的元件，具體為阻尼器本體101，桿102可滑動地安裝在該本體內(nèi)。兩個楔5被摩擦構(gòu)件105替代，這些摩擦構(gòu)件構(gòu)成回轉(zhuǎn)本體，該回轉(zhuǎn)本體具有用于摩擦抵靠桿102的圓筒形內(nèi)摩擦面107和圓錐形的外支承面108。存在帶有擴開基底的中心壁104，該基底構(gòu)成對應(yīng)于上升底部13的上升錐體113。在此例中由彈簧墊圈106來構(gòu)成彈簧構(gòu)件，彈簧墊圈在摩擦構(gòu)件上施加應(yīng)力，從而將摩擦構(gòu)件推向壁104。由襯套110來構(gòu)成間隔和支承構(gòu)件，該襯套適于支承抵靠摩擦構(gòu)件105的圓錐形外支承面108。襯套110穿過壁104。為此，壁104和襯套110具有能夠使襯套110平行于桿102的行進方向運動的適當(dāng)開口。類似于平衡臂10，襯套110用于將摩擦構(gòu)件105保持在一恒定間距處抵抗彈簧構(gòu)件106，同時還將摩擦構(gòu)件推抵桿102(經(jīng)由圓錐形表面108)。該組件以與圖1的裝置相同的方式進行工作。因此，只要桿102相對于本體101 的運動保持比死區(qū)的長度短，桿就不受到任何相對的摩擦力。但如果桿102的運動不比死區(qū)的長度長，則桿受到受控的摩擦力。因此，這種裝置有利地用于使具有增大到超過某一給定閾值的幅度的振動衰減，該閾值由阻尼器的死區(qū)確定。應(yīng)當(dāng)觀察到，通過運動到上升錐體113上來使更靠近壁104的摩擦構(gòu)件平衡，由此使摩擦構(gòu)件徑向擴大，從而防止其摩擦抵靠桿120。本發(fā)明并不局限于上述說明，而是覆蓋落入由權(quán)利要求書限定的范圍內(nèi)的任何變型。尤其是，盡管兩元件在這里所示的裝置中可沿直線方向運動，但當(dāng)然也可以設(shè)置成不是直線的，諸如圓形的運動方向。此外，可以重復(fù)兩個構(gòu)件的串聯(lián)或并聯(lián)的聯(lián)接。
權(quán)利要求
1.一種摩擦控制的裝置，所述裝置包括安裝成沿滑動方向相對于彼此運動的第一元件和第二元件(1，2;101，102)，本發(fā)明的所述裝置的特征在于，它包括對稱地設(shè)置在所述兩元件之間的第一摩擦構(gòu)件和第二摩擦構(gòu)件(5，5 ；105,105)，以選擇性地摩擦抵抗所述第二元件，每個摩擦構(gòu)件由按壓構(gòu)件(6 ； 106)推向楔入位置，所述第一摩擦構(gòu)件設(shè)置成在所述兩元件之間沿行進方向相對運動的第一方向上趨向于防止所述兩元件之間的相對運動，并且在第二方向上在所述兩元件上施加相對的摩擦力，所述摩擦力取決于由所述按壓構(gòu)件施加抵靠第一楔構(gòu)件的應(yīng)力；而所述第二摩擦構(gòu)件在所述第二方向上設(shè)置成趨向于防止所述兩元件之間的相對運動，并在所述第一方向上在所述兩元件上施加相對的摩擦力，所述摩擦力取決于由所述按壓構(gòu)件施加抵靠第二楔元件的應(yīng)力；所述裝置還包括平衡裝置(10， 13，14 ；110,113，114)，所述平衡裝置用于使所述摩擦構(gòu)件中的適于阻止所述元件沿一個方向或另一個方向相對運動的一個摩擦構(gòu)件平衡，同時使另一摩擦構(gòu)件施加相對的摩擦力。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述平衡裝置包括上升裝置(13，14，；113， 114)，所述上升裝置用于抬高所述元件中的面向所述摩擦面的一個元件的每個摩擦構(gòu)件的摩擦面(7 ； 107)。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述上升裝置包括楔形上升部(13，113)，所述摩擦構(gòu)件中的一個摩擦構(gòu)件配合到所述上升部上，直到所述摩擦構(gòu)件與所述第二元件分開，所述摩擦構(gòu)件最初通過所述第二元件的運動被帶動。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述楔形上升部通過設(shè)置在所述摩擦構(gòu)件 (4 ； 104)之間的壁來承載。
5.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述平衡裝置包括支承和間隔構(gòu)件(5; 105)，所述支承和間隔構(gòu)件在所述摩擦構(gòu)件之間延伸，以支承抵靠每個所述摩擦構(gòu)件的支承面，以保持它們間隔開，所述支承和間隔構(gòu)件在它們都被所述第二元件(2)帶動時相對于所述摩擦構(gòu)件自由運動。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種摩擦控制的裝置，該裝置包括安裝成能夠沿滑動軸線相對于彼此運動的第一元件和第二元件(1，2)。本發(fā)明的裝置的特征在于該裝置包括對稱設(shè)置在上述兩元件之間的第一摩擦構(gòu)件和第二摩擦構(gòu)件(5，5)，以選擇性地摩擦抵靠第二元件，每個所述摩擦構(gòu)件由按壓構(gòu)件(6)返回到楔入位置。第一摩擦構(gòu)件設(shè)置成在兩元件沿運動軸線相對運動的第一方向上，它防止兩元件之間的相對運動，并且在第二方向上，它在兩元件上施加相對的摩擦力，所述摩擦力取決于由所述按壓構(gòu)件施加到第一楔構(gòu)件上的應(yīng)力。第二摩擦構(gòu)件設(shè)置成在第二方向上，它防止兩元件之間的相對運動，并且在第一方向上，它在兩元件上施加相對的摩擦力，所述摩擦力取決于通過所述按壓構(gòu)件施加到第二楔構(gòu)件上的應(yīng)力。該裝置還包括平衡裝置(10，13，14)，該平衡裝置用于使能夠阻塞各元件沿一個方向或另一個方向相對運動的摩擦構(gòu)件平衡，同時使另一摩擦構(gòu)件能夠施加相對的摩擦力。
文檔編號F16F7/08GK102369370SQ201080011855
公開日2012年3月7日 申請日期2010年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月6日
發(fā)明者A·拉菲特, S·韋里克 申請人:梅西耶-布加蒂-道提公司