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流體儲存室的制作方法

文檔序號:5792461閱讀:187來源:國知局
專利名稱:流體儲存室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種流體離合器裝置的流體儲存室。
背景技術(shù)
從DE 69911479T2中已知一種可以配備根據(jù)本發(fā)明的儲存室的流體離合器裝置, 特此通過引用將其內(nèi)容結(jié)合在本申請的披露的內(nèi)容中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是要提供一種在權(quán)利要求1的前序部分中所限定類型的流體離合器裝置的流體儲存室,該流體儲存室允許增加在注入開口處的流體壓力(油壓力)。所述目的是通過權(quán)利要求1的這些特征來實現(xiàn)的。通過根據(jù)本發(fā)明的流體儲存室有利地實現(xiàn)了使所需要的流體量(油量)更低,這造成了在操作過程中的成本節(jié)省。多項從屬權(quán)利要求涉及本發(fā)明的多個有利改進(jìn)。


從以下基于附圖的多個示例性實施方案的說明中顯現(xiàn)出本發(fā)明的進(jìn)一步的細(xì)節(jié)、 特征和優(yōu)點,在附圖中圖1示出了具有根據(jù)本發(fā)明的流體儲存室的一種流體離合器裝置的部分切除的側(cè)視圖,并且圖2示出了該流體離合器裝置的頂側(cè)的透視圖。以下,將參照并置的圖1和圖2來說明一種流體離合器裝置的、根據(jù)本發(fā)明的一個流體儲存室1的實施方案。
具體實施例方式圖1示出了具有根據(jù)本發(fā)明的流體儲存室1的一種流體離合器裝置的部分切除的側(cè)視圖。如從圖1中可以看到的,該流體離合器裝置具有圍繞一條中心旋轉(zhuǎn)軸線M延伸的內(nèi)邊界壁2以及圍繞該條中心旋轉(zhuǎn)軸線M延伸的一個外邊界壁3。此外,至少一個注入開口 4被安排在該外邊界壁3中。此處,該外邊界壁3在該注入開口 4的位置處具有到該中心軸線M的一個最大間距R1。如從圖2的圖示中可以看到的,所述最大間距Rl從該注入開口 4 的區(qū)域至一個點P而連續(xù)減小,并且在該點P處具有一個最小間距R3。此處,在提供了一個注入開口 4的情況下,具有最小間距R3的點P被安排為相對該注入開口 4偏置180°,也就是說被安排為基本上與該注入開口 4相反。在根據(jù)本發(fā)明的流體離合器裝置的流體儲存室1具有多個注入開口 4(分布在外邊界壁3的圓周上)的情況下,流體儲存室1的、具有最小間距R3的這些點P在各自的情況下配置在這些注入開口 4之間并且優(yōu)選中央式地配置在這些注入開口 4之間。
如從圖1和圖2中可以看到的,該流體儲存室1是關(guān)于該中心軸線M以直至該注入開口 4連續(xù)增大的間距Rl并以從該注入開口 4至點P連續(xù)減小的間距R3形成的。這種被偏心地安排或形成的流體儲存室1的結(jié)果是,由于在流體離合器裝置的旋轉(zhuǎn)過程中的離心力,包含在儲存室中的流體被移動到該注入開口 4 (具有到該中心軸線M的最大間距Rl) 的圓周區(qū)域中。因此,相對于現(xiàn)有技術(shù)的、具有同中心安排的多個流體儲存室的流體離合器裝置而言,該注入開口 4中的壓力增加。此外,以此方式,要求用于運行該流體離合器裝置的流體量相對較小,這導(dǎo)致成本降低并且額外地提供的優(yōu)點是,具有相對小的流體量的流體離合器裝置可以具有更快的反應(yīng)時間。在根據(jù)本發(fā)明的流體離合器裝置的、具有一個注入開口的流體儲存室中,除了內(nèi)邊界壁2的上述形狀之外,替代性地一種橢圓形的或多邊形的形狀同樣可能具有這些相同的優(yōu)點。為了補(bǔ)充本披露,明確地提及在圖1和圖2中對本發(fā)明的圖形展示。參考符號清單1流體儲存室2內(nèi)邊界壁3外邊界壁4注入開口M中心軸線P最小間距點Rl最大間距R3最小間距
權(quán)利要求
1.流體離合器裝置的一種流體儲存室(1),具有圍繞一條中心旋轉(zhuǎn)軸線(M)延伸的一個內(nèi)邊界壁0),圍繞一條中心旋轉(zhuǎn)軸線(M)延伸的一個外邊界壁(3),并且安排于該外邊界壁(3)中的至少一個注入開口 ,其中該外邊界壁C3)在該注入開口(4)的位置處具有到該中心軸線(M)的一個最大間距 (Rl),該間距連續(xù)地減小直至一個到該中心軸線(M)具有最小間距(R3)的點(P)。
2.如權(quán)利要求1所述的流體儲存室(1),其中,在僅有一個注入開口(4)的情況下,具有最小間距(R3)的該點(P)被安排為相對于該注入開口 (4)偏置180°。
3.如權(quán)利要求1或2所述的流體儲存室(1),其中,在具有多個注入開口(4)的情況下, 具有最小間距(R3)的這些點⑵在各自的情況下設(shè)置在這些注入開口⑷之間。
4.如權(quán)利要求3所述的流體儲存室(1),其中具有最小間距(R3)的這些點(P)中央式地安排在這些注入開口(4)之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及流體離合器裝置的一種流體儲存室(1),該流體儲存室具有圍繞一條中心旋轉(zhuǎn)軸線(M)延伸的一個內(nèi)邊界壁(2)、具有圍繞一條中心旋轉(zhuǎn)軸線(M)延伸的一個外邊界壁(3)、并且具有安排于該外邊界壁(3)中的至少一個注入開口(4),其中,該外邊界壁(3)在該注入開口(4)的位置處具有到該中心軸線(M)的一個最大間距(R1),該間距連續(xù)地減小直至一個到該中心軸線(M)具有最小間距(R3)的點(P)。
文檔編號F16D35/02GK102472333SQ201080029138
公開日2012年5月23日 申請日期2010年7月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月10日
發(fā)明者A·羅瑟夫, F·M·哈澤 申請人:博格華納公司
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