專利名稱：一種填補式間隙調(diào)整裝置及調(diào)整方法
技術領域：
本發(fā)明涉及間隙填補方式，具體地，涉及一種填補式間隙調(diào)整裝置及調(diào)整方法。
背景技術：
一般而言，在機械結構中，考慮到制造，裝配，使用等方面的因素，需要在零部件間設計預留間隙，而在之后的使用中，為避免整機在運動或震動過程中引起的零部件晃動，需要對間隙填補或間隙做適當?shù)恼{(diào)整，以配合零部件的使用。現(xiàn)有技術中，針對間隙的填補和調(diào)整，通常的間隙填補方式有補焊，塞板，螺栓擰
緊，彈簧等。但是上述這些做法都存在很大的弊端，例如無法調(diào)節(jié)，不牢靠，無法承受較大的力。因此，提供一種能夠有效填補間隙，同步可以進行調(diào)節(jié)并承受較大的力的填補式間隙調(diào)整裝置及調(diào)整方法就顯得尤為重要了。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是針對上述問題，解決現(xiàn)有技術的間隙調(diào)整無法調(diào)節(jié)，不牢靠，無法承受較大力的不足。本發(fā)明公開一種填補式間隙調(diào)整裝置，其中，包括 支架，所述支架上貫穿有螺栓；
螺母，螺紋連接所述螺栓，位于所述支架的一側；
位于所述支架另一側的螺栓固定連接第一楔塊，所述第一楔塊具有第一傾斜面； 第二楔塊，具有第二傾斜面，所述第二傾斜面與所述第一傾斜面配合； 所述第二楔塊與所述第一楔塊位于支架的同側。上述的填補式間隙調(diào)整裝置，其中，所述第一傾斜面的斜率取值范圍為1/3至 1/2。上述的填補式間隙調(diào)整裝置，其中，所述第二楔塊還具有平面，所述平面與所述第二傾斜面相對。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，還公開一種采用上述的填補式間隙調(diào)整裝置調(diào)整間隙方法，包括
步驟1，從支架中拉供螺栓移動預設長度； 步驟2，旋轉推動螺母，使所述螺母抵住所述支架。上述的調(diào)整間隙方法，其中，所述預設長度的值等于需要調(diào)整間隙的距離與所述第一楔塊上第一傾斜面斜率的比值。本發(fā)明通過螺栓的螺旋調(diào)節(jié)，控制楔塊的相對位置；兩楔塊通過斜面配合，實現(xiàn)間隙的調(diào)節(jié)；螺母螺紋連接螺栓，螺母端面頂住支架端面，以固定螺栓的位置，從而固定楔塊的位置。
本發(fā)明的優(yōu)點是
1，提供一種可調(diào)節(jié)式的間隙填補方式，可根據(jù)實際需要，實際情況有效的調(diào)整間隙，微調(diào)性好，可準確找到最佳位置，適應性好； 2，受力好，可靠性高；
3，本發(fā)明的填補式間隙調(diào)整裝置結構簡單，操作方便，快捷。


通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述，本發(fā)明及其特征、外形和優(yōu)點將會變得更明顯。在全部附圖中相同的標記指示相同的部分。并未刻意按照比例繪制附圖，重點在于示出本發(fā)明的主旨。在附圖中，為清楚明了，放大了部分部件。圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的，一種填補式間隙調(diào)整裝置的結構示意圖； 圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的，一種填補式間隙調(diào)整裝置抽出螺栓的示意圖； 圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的，一種填補式間隙調(diào)整裝置固定螺母的示意圖4示出了根據(jù)本發(fā)明一個變化例的，一種填補式間隙調(diào)整裝置的結構示意圖。
具體實施例方式以下結合附圖及具體實施方式
對本發(fā)明進行進一步詳細說明。此處所描述的具體實施方式
僅用于解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明的保護范圍。參考圖1至圖3所示出的填補式間隙調(diào)整裝置，包括 支架100，所述支架100上貫穿有螺栓2 ；
螺母1，螺紋連接所述螺栓2，位于所述支架100的一側；
位于所述支架100另一側的螺栓2固定連接第一楔塊4，所述第一楔塊4具有第一傾斜面 301 ；
第二楔塊3，具有第二傾斜面401，所述第二傾斜面401與所述第一傾斜面301配合； 所述第二楔塊3與所述第一楔塊4位于支架100的同側。在圖1中，第一楔塊4的下表面為平面。在一個優(yōu)選例中，所述第一傾斜面301的斜率取值范圍為1/3至1/2。進一步地，所述第二楔塊3還具有平面302，所述平面302與所述第二傾斜面401 相對。更為具體地，采用上述的填補式間隙調(diào)整裝置調(diào)整間隙方法，包括 步驟1，從支架100中拉供螺栓2移動預設長度，如圖2所示；
步驟2，旋轉推動螺母1，使所述螺母1抵住所述支架100，如圖3所示。其中，所述預設長度的值等于需要調(diào)整間隙的距離與所述第一楔塊4上第一傾斜面301斜率的比值。參考圖1和圖2，在通過填補式間隙調(diào)整裝置調(diào)整間隙之后，間隙距離d變化為 d2，從而實現(xiàn)間隙調(diào)節(jié)的目的。再參考圖4，在這一個變化例中，固定楔塊41代替第一楔塊4，固定楔塊41與第一楔塊4不同之處在于，所述固定楔塊41僅具有第一傾斜面301，固定楔塊41下表面為非平
本發(fā)明通過楔塊的平面和斜面，螺栓螺旋面，螺母螺旋面和端面受力，受力好，可
靠性高。本領域技術人員結合現(xiàn)有技術以及上述實施例可以實現(xiàn)所述變化例，這樣的變化例并不影響本發(fā)明的實質(zhì)內(nèi)容，在此不予贅述。以上對本發(fā)明的較佳實施例進行了描述。需要理解的是，本發(fā)明并不局限于上述特定實施方式，其中未盡詳細描述的設備和結構應該理解為用本領域中的普通方式予以實施；任何熟悉本領域的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術內(nèi)容對本發(fā)明技術方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例，這并不影響本發(fā)明的實質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案保護的范圍內(nèi)。
權利要求
1.一種填補式間隙調(diào)整裝置，其特征在于，包括 支架，所述支架上貫穿有螺栓，螺母，螺紋連接所述螺栓，位于所述支架的一側；位于所述支架另一側的螺栓固定連接第一楔塊，所述第一楔塊具有第一傾斜面； 第二楔塊，具有第二傾斜面，所述第二傾斜面與所述第一傾斜面配合； 所述第二楔塊與所述第一楔塊位于支架的同側。
2.根據(jù)權利要求1所述的填補式間隙調(diào)整裝置，其特征在于，所述第一傾斜面的斜率取值范圍為1/3至1/2。
3.根據(jù)權利要求1所述的填補式間隙調(diào)整裝置，其特征在于，所述第二楔塊還具有平面，所述平面與所述第二傾斜面相對。
4.一種采用權利要求1所述的填補式間隙調(diào)整裝置調(diào)整間隙方法，包括 步驟1，從支架中拉供螺栓移動預設長度；步驟2，旋轉推動螺母，使所述螺母抵住所述支架。
5.根據(jù)權利要求4所述的調(diào)整間隙方法，其特征在于，所述預設長度的值等于需要調(diào)整間隙的距離與所述第一楔塊上第一傾斜面斜率的比值。全文摘要
本發(fā)明公開一種填補式間隙調(diào)整裝置及方法，其中，包括支架，所述支架上貫穿有螺栓；螺母，螺紋連接所述螺栓，位于所述支架的一側；位于所述支架另一側的螺栓固定連接第一楔塊，所述第一楔塊具有第一傾斜面；第二楔塊，具有第二傾斜面，所述第二傾斜面與所述第一傾斜面配合；所述第二楔塊與所述第一楔塊位于支架的同側；還公開一種采用上述的填補式間隙調(diào)整裝置調(diào)整間隙方法，包括步驟1,從支架中拉供螺栓移動預設長度；步驟2,旋轉推動螺母，使所述螺母抵住所述支架。本發(fā)明微調(diào)性好，可準確找到最佳位置，適應性好；受力好，可靠性高；還具有構簡單，操作方便、快捷的優(yōu)點。
文檔編號F16B35/00GK102493994SQ201110432350
公開日2012年6月13日 申請日期2011年12月21日 優(yōu)先權日2011年12月21日
發(fā)明者李珍珠, 王策, 胡聯(lián)軍 申請人:上海三一科技有限公司