專利名稱：還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種調(diào)節(jié)閥，尤其是涉及一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥。
背景技術(shù)：
多晶硅，是單質(zhì)硅的一種形態(tài)。熔融的單質(zhì)硅在過冷條件下凝固時，硅原子以金剛石晶格形態(tài)排列成許多晶核，如這些晶核長成晶面取向不同的晶粒，則這些晶粒結(jié)合起來，就結(jié)晶成多晶硅。由于多晶硅在太陽電池領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用前景，因而近些年得到了廣泛的應(yīng)用。目前，多晶硅的制備通過多晶硅還原爐進行，在多晶硅還原爐的進料工藝中，由于原料為易燃易爆介質(zhì)，通常采用氣動調(diào)節(jié)閥來對進料流量進行控制調(diào)節(jié)；但是由于其并非是為還原爐進料專門設(shè)計的，在使用中發(fā)現(xiàn)由于常規(guī)的氣動控制閥閥體采用管形結(jié)構(gòu)，閥座垂直安裝于閥體對其進行開閉操作，其有效流通面積受閥座孔、閥門全開時閥芯與閥座孔構(gòu)成的側(cè)面(圓柱面或是圓錐面，我們稱他為面I)面積的限制。另外，閥座將閥腔分為兩大部分，其閥腔上部另一方向與管道過渡孔(我們稱他為面2)有效面積也限制著閥門的有效流通面積。后兩個限制是主要的。要增大面I的面積，閥芯必須遠離閥座孔，即增大其行程，這樣閥的垂直高度就大了。因而當(dāng)需要獲得較大的閥腔流通截面時，需要使用更大尺寸的閥體，從而導(dǎo)致整個控制閥體型較大，加上執(zhí)行機構(gòu)，體型就更大了，導(dǎo)致控制閥在還原爐上安裝受限。普通切斷閥體型相對小，用其開關(guān)來控制流量，精度低，且流量不穩(wěn)定，閥門頻繁啟閉，閥門壽命減少。同時，多晶硅還原爐所使用的原料多具有極強的腐蝕性，且有毒，一般閥門密封性能較差，在使用過程中容易造成原料的泄露，造成嚴重后果。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述不足，閥的開啟方向與管道成小于90度的角度的Y形，其垂直行程就小了，而且面2也相應(yīng)得到增大，體型就相應(yīng)縮小。0形圈、波紋管、填料多道密封，密封性能好。閥芯等百分比設(shè)計，調(diào)節(jié)精度高。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，所述調(diào)節(jié)閥包含有閥體和氣缸，所述閥體呈一 “Y”形結(jié)構(gòu)，所述氣缸安裝于“Y”形閥體的頂部開口處，所述閥體上設(shè)置有閥蓋，且閥蓋設(shè)置于氣缸內(nèi)，所述氣缸內(nèi)套裝有一活塞組件，所述活塞組件斜向下連接有一閥桿，該閥桿穿過閥蓋的一端上通過小法蘭連接有一閥座，所述閥座上連接有一閥芯，所述閥芯流線的形狀為等百分比曲線，所述閥桿上套裝有波紋管組件，且波紋管組件一端與閥蓋相連，另一端與小法蘭相連，所述閥蓋和活塞組件之間設(shè)置有彈簧，所述氣缸的頂部設(shè)置有一支架，該支架上安裝有閥門定位器，所述活塞組件上斜向上連接有一指示桿，所述指示桿與閥門定位器的反饋裝置相連。本實用新型還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，所述閥桿與閥蓋之間通過0形圈和填料進行密封。本實用新型還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，所述閥蓋設(shè)置有一彈簧座，套裝于閥桿上的彈簧一端與閥蓋相連，另一端與活塞組件相連。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是本實用新型采用閥門定位器后使得調(diào)節(jié)更為智能和方便，同時設(shè)置為等百分比的閥芯使得調(diào)節(jié)更為精確；同時“Y”形閥體的設(shè)計使得整個閥門體積更為小巧，波紋管的使用也使得密封性能更好，有利于提高閥門的使用壽命。

圖I為本實用新型還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為等百分比閥芯和常規(guī)線性閥芯的流量比較示意圖。其中閥體I、閥芯2、閥座3、小法蘭4、波紋管組件5、閥桿6、閥蓋7、0形圈8、填料9、彈簧座10、彈簧11、活塞組件12、氣缸13、指示桿14、支架15、閥門定位器16。
具體實施方式
參見圖f 2，本實用新型涉及的一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，所述調(diào)節(jié)閥包含有閥體I和氣缸13，所述閥體I呈一 “Y”形結(jié)構(gòu)，所述氣缸13安裝于“Y”形閥體I的頂部開口處，所述閥體I上設(shè)置有閥蓋7，且閥蓋7設(shè)置于氣缸13內(nèi)，所述氣缸13內(nèi)套裝有一活塞組件12，所述活塞組件12斜向下連接有一閥桿6，該閥桿6穿過閥蓋7的一端上通過小法蘭4連接有一閥座3，所述閥座3上連接有一閥芯2，所述閥芯2與閥體I配合實現(xiàn)對進料的通斷控制，所述閥芯2流線的形狀為等百分比曲線(即閥芯2橫截面的構(gòu)成曲線為等百分比曲線)，所述閥桿6上套裝有波紋管組件5，且波紋管組件5 —端與閥蓋7相連，另一端與小法蘭4相連，所述閥桿6與閥蓋7之間通過0形圈8和填料9進行密封，由于波紋管組件5的存在，具有腐蝕性的原料不會與0形圈8和填料9相接觸對其進行腐蝕，從而保證了調(diào)節(jié)閥的密封性能；所述閥蓋7和活塞組件12之間設(shè)置有彈簧11，具體的，所述閥蓋7設(shè)置有一彈簧座10，套裝于閥桿6上的彈簧11 一端與閥蓋7相連，另一端與活塞組件12相連；所述氣缸13的頂部設(shè)置有一支架15，該支架15上安裝有閥門定位器16，所述閥門定位器16的出氣口與氣缸13的進氣口相連通，所述活塞組件12上斜向上連接有一指示桿14，所述指示桿14穿過氣缸13和支架15后與閥門定位器16的反饋裝置(或檢測裝置)相連。使用時，可對閥門定位器16輸入一指定量(410mA)的電流信號，從而調(diào)節(jié)閥門定位器16對氣缸13的控制氣體的氣壓，并通過指示桿14實時反饋得到閥門的開啟量，從而使得閥門的開啟量能夠穩(wěn)定在一恒定值。
權(quán)利要求1.一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，其特征在于所述調(diào)節(jié)閥包含有閥體(I)和氣缸(13)，所述閥體(I)呈一“Y”形結(jié)構(gòu)，所述氣缸(13)安裝于“Y”形閥體(I)的頂部開口處，所述閥體(I)上設(shè)置有閥蓋(7)，且閥蓋(7)設(shè)置于氣缸(13)內(nèi)，所述氣缸(13)內(nèi)套裝有一活塞組件(12)，所述活塞組件(12 )斜向下連接有一閥桿(6 )，該閥桿(6 )穿過閥蓋(7 )的一端上通過小法蘭(4 )連接有一閥座(3 )，所述閥座(3 )上連接有一閥芯(2 )，所述閥芯(2 )流線的形狀為等百分比曲線，所述閥桿(6)上套裝有波紋管組件(5)，且波紋管組件(5)—端與閥蓋(7)相連，另一端與小法蘭(4)相連，所述閥蓋(7)和活塞組件(12)之間設(shè)置有彈簧(11)，所述氣缸(13)的頂部設(shè)置有一支架(15)，該支架(15)上安裝有閥門定位器(16)，所述活塞組件(12)上 斜向上連接有一指示桿(14)，所述指示桿(14)與閥門定位器(16)的反饋裝置相連。
2.如權(quán)利要求I所述一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，其特征在于所述閥桿(6)與閥蓋(7)之間通過O形圈(8)和填料(9)進行密封。
3.如權(quán)利要求I或2所述一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，其特征在于所述閥蓋(7)設(shè)置有一彈簧座(10)，套裝于閥桿(6)上的彈簧(11)一端與閥蓋(7)相連，另一端與活塞組件(12)相連。
專利摘要本實用新型涉及一種還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，所述調(diào)節(jié)閥包含有閥體(1)和氣缸(13)，所述閥體(1)上設(shè)置有閥蓋(7)，所述氣缸(13)內(nèi)套裝有一活塞組件(12)，所述活塞組件(12)斜向下連接有一閥桿(6)，該閥桿(6)穿過閥蓋(7)的一端上通過小法蘭(4)連接有一閥座(3)，所述閥座(3)上連接有一閥芯(2)，所述閥芯(2)流線的形狀為等百分比曲線，所述氣缸(13)的頂部設(shè)置有一支架(15)，該支架(15)上安裝有閥門定位器(16)，所述活塞組件(12)上斜向上連接有一指示桿(14)，所述指示桿(14)與閥門定位器(16)的反饋裝置相連。本實用新型還原爐進料小流量調(diào)節(jié)閥，結(jié)構(gòu)小巧、密封性能好且調(diào)節(jié)方便。
文檔編號F16K31/122GK202360850SQ201120527768
公開日2012年8月1日 申請日期2011年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月16日
發(fā)明者劉義平, 朱志雄, 李志兵 申請人:江陰市普泰隆閥業(yè)有限公司