專利名稱：多晶硅還原爐罩清洗平臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種多晶硅還原爐罩清洗平臺。
背景技術(shù)：
多晶硅還原爐罩清洗平臺是用于對煉硅爐的爐體罩蓋的自動清洗設(shè)備核心機(jī)構(gòu)，目前現(xiàn)有的爐罩清洗平臺在清洗的過程中，還原爐罩與清洗平臺的接觸處容易產(chǎn)生漏水現(xiàn)象，影響了清洗平臺的效率，而且現(xiàn)有爐罩清洗平臺的清洗時(shí)間較長，長時(shí)間使用容易腐壞，易變形。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種多晶硅還原爐罩清洗平臺，安全可靠，防腐耐用，清洗效果優(yōu)良。本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):一種多晶硅還原爐罩清洗平臺，包括:清洗平臺，該清洗平臺由四根與地面垂直的厚壁矩形垂直鋼管以及設(shè)置于該垂直鋼管頂部的方型平臺鋼板和八根水平方管拉撐組成，所述清洗平臺的前后左右四個面的上下兩端均焊接一只拉撐；集水箱，該集水箱安裝于清洗平臺上部靠近平臺表面鋼板下方處，集水箱由碳鋼板以及焊接到清洗平臺上端的四根矩形鋼管拉撐組成；集水箱的底部設(shè)有廢氣廢水排放管道;氮?dú)夂娓稍O(shè)備，所述氮?dú)夂娓稍O(shè)備包括氮?dú)馍祵?dǎo)桿、氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^；以及高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)，所述高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)包括螺旋式升降機(jī)以及安裝于螺旋式升降機(jī)中升降機(jī)螺桿旋母上的升降導(dǎo)桿托架，所述螺旋式升降機(jī)的上端連接集水箱的底部，所述升降導(dǎo)桿托架兩端分別連接高壓水升降導(dǎo)桿、氮?dú)馍祵?dǎo)桿和氮?dú)鈬婎^導(dǎo)向桿，高壓水升降導(dǎo)桿和氮?dú)馍祵?dǎo)桿分別連接高壓水升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成，高壓水升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成穿過集水箱分別連接三維旋轉(zhuǎn)噴頭和氮?dú)鈬婎^，所述高壓水升降導(dǎo)桿底部設(shè)有高壓水管道進(jìn)口，氮?dú)馍祵?dǎo)桿底部設(shè)有氮?dú)夤艿肋M(jìn)□。進(jìn)一步地，所述平臺鋼板上設(shè)有鋼制墊片，鋼制墊片上粘接有橡膠板，鋼制墊片下部表面設(shè)有兩條密封溝槽，該密封溝槽內(nèi)鑲嵌有圓柱形橡膠密封圈。進(jìn)一步地，所述高壓水升降導(dǎo)桿與高壓水升降導(dǎo)套總成連接處以及氮?dú)馍祵?dǎo)桿與氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成連接處均設(shè)有密封裝置。本實(shí)用新型的有益效果為:安全可靠，防腐耐用，清洗效果優(yōu)良，同比其他設(shè)備清洗時(shí)間大大縮短，操作簡單，具備超長免維護(hù)時(shí)間；可以使用純水或者清洗劑清洗爐罩，價(jià)格只有進(jìn)口產(chǎn)品的20 %左右，大大降低 了成本。
下面根據(jù)附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例所述的多晶硅還原爐罩清洗平臺的結(jié)構(gòu)圖；圖2是圖1的側(cè)視圖；圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例所述的多晶硅還原爐罩清洗平臺的俯視圖。
具體實(shí)施方式
如圖1-3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例所述的一種多晶硅還原爐罩清洗平臺，包括:清洗平臺1，清洗平臺I底部安裝清洗平臺地腳20，該清洗平臺I由四根與地面垂直的厚壁矩形垂直鋼管2以及設(shè)置于該垂直鋼管2頂部的方型平臺鋼板3和8根水平方管拉撐組成，所述清洗平臺I的前后左右四個面的上下兩端均焊接一只拉撐；集水箱4，該集水箱4安裝于清洗平臺I上部靠近平臺鋼板3下方處，集水箱4由厚度為8-12mm的碳鋼板以及焊接到清洗平臺I上端的四根矩形鋼管拉撐組成，集水箱4的底部設(shè)有廢氣廢水排放管道5 ;氮?dú)夂娓稍O(shè)備，所述氮?dú)夂娓稍O(shè)備包括氮?dú)馍祵?dǎo)桿6、氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成7和氮?dú)鈬婎^8 ；以及高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)，所述高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)包括螺旋式升降機(jī)9以及安裝于螺旋式升降機(jī)9中升降機(jī)螺桿10的旋母上的升降導(dǎo)桿托架11，其中所述升降導(dǎo)桿托架11兩端分別連接高壓水升降導(dǎo)桿12、氮?dú)馍祵?dǎo)桿6和氮?dú)鈬婎^導(dǎo)向桿21，高壓水升降導(dǎo)桿12和氮?dú)馍祵?dǎo)桿6分別連接高壓水升降導(dǎo)套總成13和氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成7，高壓水升降導(dǎo)套總成13和氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成7穿過集水箱4分別連接三維旋轉(zhuǎn)噴15頭和氮?dú)鈬婎^8，所述高壓水升降導(dǎo)桿12底部設(shè)有高壓水管道進(jìn)口 17，氮?dú)馍祵?dǎo)桿6底部設(shè)有氮?dú)夤艿肋M(jìn)口 14 ;在所述高壓水升降導(dǎo)桿12與高壓水升降導(dǎo)套總成13連接處以及氮?dú)馍祵?dǎo)桿6與氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套，總成14連接處均設(shè)有密封裝置18。本實(shí)用新型選用180X180X8厚壁方鋼管作為垂直支撐的垂直鋼管2與水平拉撐，采用20毫米厚鋼板為平臺正方形上面板即平臺鋼板3，可以承載15000KG的爐罩重量，設(shè)計(jì)承載最大重量50T，可以抵抗還原爐罩19從平臺上方2米的高度自由落下，且平臺不變形。采用10_15t推力螺旋式升降機(jī)9，設(shè)置在清洗平臺I中心，可推動三維旋轉(zhuǎn)噴頭15與氮?dú)馍祵?dǎo)桿6，由PLC控制升降機(jī)運(yùn)行，一方面噴射清洗(或烘干)，同時(shí)進(jìn)行氮?dú)鈬婎^8的升降運(yùn)動，保證無液體滲漏。高壓水升降導(dǎo)桿12和氮?dú)馍祵?dǎo)桿6并列平衡安裝，同時(shí)升降，充分保證了螺桿穩(wěn)定運(yùn)行，清洗完成以后，通過氮?dú)鈬婎^8進(jìn)行熱氮?dú)飧稍?。在清洗平臺上部設(shè)計(jì)660L集水箱4，廢水與廢氣共用一套不銹鋼防腐廢氣廢水排放管道5，依靠重力進(jìn)行氣液分離，潮濕氣體通過安裝在車間上方的防腐管道排放到室外；清洗廢液由大直徑不銹鋼管道下行排放到污水處理系統(tǒng)。本實(shí)用新型采用獨(dú)特的密封:為了有效地防止高壓水射流在清洗的過程中，從還原爐罩19底部與平臺鋼板3接觸部分嚴(yán)重漏水，在平臺鋼板3上表面處設(shè)置一套80mm厚的巨型鋼制墊片16，鋼制墊片16下部設(shè)有2條密封溝槽，密封溝槽內(nèi)部鑲嵌橡膠密封圈，形成雙道密封，以 保證高壓水不泄露；在鋼制墊片16上部表面粘接有橡膠板，橡膠板的厚度為8-12_，還原爐罩19的法蘭盤壓在該橡膠板上。本實(shí)用新型不局限于上述最佳實(shí)施方式，任何人在本實(shí)用新型的啟示下，都可得出其他各種形式的產(chǎn)品，但不論在其形狀或結(jié)構(gòu)上作任何變化，凡是具有與本申請相同或相近似 的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種多晶硅還原爐罩清洗平臺，其特征在于，所述多晶硅還原爐罩清洗平臺包括: 清洗平臺，該清洗平臺由四根與地面垂直的厚壁矩形垂直鋼管以及設(shè)置于該垂直鋼管頂部的方型平臺鋼板和八根水平方管拉撐組成，所述清洗平臺的前后左右四個面的上下兩端均焊接一只拉撐； 集水箱，該集水箱安裝于清洗平臺上部靠近平臺鋼板下方處，集水箱由碳鋼板以及焊接到平臺上端的4根矩形鋼管拉撐組成；集水箱的底部設(shè)有廢氣廢水排放管道； 氮?dú)夂娓稍O(shè)備，所述氮?dú)夂娓稍O(shè)備包括氮?dú)馍祵?dǎo)桿、氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^；以及 高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)，所述高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)包括螺旋式升降機(jī)以及安裝于螺旋式升降機(jī)中升降機(jī)螺桿旋母上的升降導(dǎo)桿托架，所述螺旋式升降機(jī)的上端連接集水箱的底部，所述升降導(dǎo)桿托架兩端分別連接高壓水升降導(dǎo)桿、氮?dú)馍祵?dǎo)桿和氮?dú)鈬婎^導(dǎo)向桿，高壓水升降導(dǎo)桿和氮?dú)馍祵?dǎo)桿分別連接高壓水升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成，高壓水升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成穿過集水箱分別連接三維旋轉(zhuǎn)噴頭和氮?dú)鈬婎^，所述高壓水升降導(dǎo)桿底部設(shè)有高壓水管道進(jìn)口，氮?dú)馍祵?dǎo)桿底部設(shè)有氮?dú)夤艿肋M(jìn)口。
2.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐罩清洗平臺，其特征在于，所述平臺鋼板上設(shè)有鋼制墊片，鋼制墊片上粘接有橡膠板，鋼制墊片下部表面設(shè)有兩條密封溝槽，該密封溝槽內(nèi)鑲嵌有圓柱形橡膠密封圈。
3.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐罩清洗平臺，其特征在于，所述高壓水升降導(dǎo)桿與高壓水升降導(dǎo)套總成連接處以及氮?dú)馍祵?dǎo)桿與氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成連接處均設(shè)有密封裝 置。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種多晶硅還原爐罩清洗平臺，包括清洗平臺，該清洗平臺由四根與地面垂直的厚壁矩形垂直鋼管以及設(shè)置于該垂直鋼管頂部的方型平臺鋼板和八根水平方管拉撐組成；集水箱，該集水箱安裝于清洗平臺上部靠近平臺鋼板下方處，集水箱的底部設(shè)有廢氣廢水排放管道；氮?dú)夂娓稍O(shè)備，所述氮?dú)夂娓稍O(shè)備包括氮?dú)馍祵?dǎo)桿、氮?dú)鈬婎^升降導(dǎo)套總成和氮?dú)鈬婎^；以及高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)，所述高壓水噴頭升降機(jī)構(gòu)包括螺旋式升降機(jī)以及安裝于螺旋式升降機(jī)中升降機(jī)螺桿旋母上的升降導(dǎo)桿托架。本實(shí)用新型的有益效果為安全可靠，防腐耐用，清洗效果優(yōu)良，同比其他設(shè)備清洗時(shí)間大大縮短，操作簡單，具備超長免維護(hù)時(shí)間，大大降低了成本。
文檔編號F16J15/10GK203140340SQ20132000111
公開日2013年8月21日 申請日期2013年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月5日
發(fā)明者劉維永 申請人:北京意美德通科技發(fā)展有限公司