本發(fā)明大體上涉及一種諸如流體或氣體調(diào)節(jié)器的流體調(diào)節(jié)裝置，更具體地，涉及一種用于流體調(diào)節(jié)裝置的控制部件。

背景技術(shù)：

調(diào)節(jié)器通常用在流體或氣體分布系統(tǒng)中來控制調(diào)節(jié)器的系統(tǒng)下游中的壓力。已知地，典型的氣體分布系統(tǒng)供給氣體處的壓力可能根據(jù)施加于系統(tǒng)上的需求、氣候、供給源和/或其它因素而改變。然而，裝配有諸如火爐和烤爐等氣體裝置的大多終端用戶設(shè)備需要?dú)怏w根據(jù)預(yù)定的壓力參數(shù)來傳遞。因此，這些分布系統(tǒng)使用氣體調(diào)節(jié)器來確保傳遞的氣體滿足終端用戶設(shè)備的需求。

直接操作式流體調(diào)節(jié)器主要設(shè)計(jì)用于工業(yè)和商業(yè)應(yīng)用，將諸如天然氣和丙烷等流體供給到火爐、爐子以及其它的裝置，這在本領(lǐng)域是已知的。流體調(diào)節(jié)器典型地用于將流體的壓力調(diào)節(jié)到基本恒定的值。特別地，流體調(diào)節(jié)器具有在較高的壓力下典型地接收供給流體的入口，并且在出口處提供相對(duì)較低并基本恒定的壓力。為了調(diào)節(jié)下游壓力，流體調(diào)節(jié)器通常包括用來感應(yīng)與下游壓力流體連通的出口壓力的感應(yīng)元件或隔膜。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)示例性方面，提供一種用于流體調(diào)節(jié)裝置的控制部件。所述控制部件包括頂側(cè)、底側(cè)和裝置，所述頂側(cè)適于在所述控制部件處于閉合位置時(shí)接合閥座，所述裝置用于減小由在所述控制部件附近流動(dòng)的流體施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的吸力。

根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)示例性方面，提供一種用于流體調(diào)節(jié)裝置的控制部件。所述控制部件包括頂側(cè)、底側(cè)和外緣。所述頂側(cè)適于在所述控制部件處于閉合位置時(shí)接合所述流體調(diào)節(jié)裝置的閥座。所述外緣從所述底側(cè)向外延伸到所述底側(cè)下面的位置。所述外緣被配置成通過引導(dǎo)流動(dòng)通過流體通道的流體遠(yuǎn)離所述控制部件的所述底側(cè)來減小施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的向下力。

根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)示例性方面，提供一種流體調(diào)節(jié)裝置。所述流體調(diào)節(jié)裝置包括閥體、耦接到所述閥體的致動(dòng)器組件、閥座以及閥桿組件。所述閥體具有入口、出口和限定在所述入口和所述出口之間的流體通道。所述致動(dòng)器組件包括上殼體、固定到上殼體的下殼體以及布置在所述上殼體和所述下殼體之間的隔膜組件。所述閥座沿著所述流體通道布置在所述閥體中。所述閥桿組件可操作地連接到所述隔膜組件以隨著所述隔膜組件移動(dòng)。所述閥桿組件包括閥桿和控制部件，所述控制部件可操作地連接到所述閥桿并相對(duì)于所述閥座可移動(dòng)來控制通過所述流體通道的流體流動(dòng)。所述控制部件包括具有頂側(cè)和底側(cè)的本體，所述頂側(cè)被配置成在所述控制部件處于閉合位置時(shí)接合所述閥座。所述控制部件還包括外緣，所述外緣從所述本體向外延伸到所述底側(cè)下面的位置。所述外緣被配置成引導(dǎo)流動(dòng)通過流體通道的流體遠(yuǎn)離所述控制部件的所述底側(cè)。

根據(jù)本發(fā)明的第四個(gè)示例性方面，提供一種流體調(diào)節(jié)裝置。所述流體調(diào)節(jié)裝置包括閥體、耦接到所述閥體的致動(dòng)器組件、閥座以及閥桿組件。所述閥體具有入口、出口和限定在所述入口和所述出口之間的流體通道。所述致動(dòng)器組件包括上殼體、固定到上殼體的下殼體以及布置在所述上殼體和所述下殼體之間的隔膜組件。所述閥座沿著所述流體通道布置在所述閥體中。所述閥桿組件可操作地連接到所述隔膜組件以隨著所述隔膜組件移動(dòng)。所述閥桿組件包括閥桿和控制部件，所述控制部件可操作地連接到所述閥桿并相對(duì)于所述閥座可移動(dòng)來控制流體通過所述流體通道的流體流動(dòng)。所述控制部件包括頂側(cè)、底側(cè)和外周邊緣，所述頂側(cè)被配置成在所述控制部件處于閉合位置時(shí)接合所述閥座。所述外周邊緣具有位于所述頂側(cè)和所述底側(cè)之間的第一部分和從所述第一部分向外延伸到所述底側(cè)下面的位置的第二部分。所述第二部分被配置成引導(dǎo)流動(dòng)通過流體通道的流體遠(yuǎn)離所述控制部件的所述底側(cè)。

進(jìn)一步，根據(jù)前述第一、第二、第三或第四示例性方面中的任何一個(gè)或多個(gè)，控制部件和/或流體調(diào)節(jié)裝置可包括下面進(jìn)一步優(yōu)選的形式中的任何一個(gè)或多個(gè)。

在一種優(yōu)選的形式中，用于減小施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的吸力的裝置包括從所述底側(cè)向外延伸到所述底側(cè)下面的位置的外緣。所述外緣被配置成通過引導(dǎo)流動(dòng)通過所述流體通道的流體遠(yuǎn)離所述控制部件的所述底側(cè)來減小施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的向下力。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述外緣與所述控制部件的本體的圓周邊緣徑向?qū)R。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述控制部件包括本體，所述本體包括頂側(cè)和底側(cè)。用于減小施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的吸力的裝置從所述本體向外延伸到所述底側(cè)下面的位置。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述控制部件包括本體，所述本體具有第一環(huán)形部分和第二環(huán)形部分，所述第二環(huán)形部分的直徑大于所述第一環(huán)形部分的直徑，用于減小施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的吸力的裝置包括所述第二環(huán)形部分。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述控制部件包括具有外周邊緣的本體，用于減小施加到所述控制部件的所述底側(cè)上的吸力的裝置包括所述外周邊緣的一部分。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，緊固件將所述控制部件連接到所述閥桿。所述緊固件能夠被凹陷入所述控制部件中。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，通孔穿過所述控制部件形成，將所述控制部件連接到所述閥桿的緊固件設(shè)置在所述控制部件的頂側(cè)和底側(cè)之間的所述通孔中。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，通孔穿過所述控制部件形成。所述通孔被配置成容納用于將所述控制部件連接到所述閥桿的緊固件。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述外緣周向地圍繞所述控制部件的所述底側(cè)。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述外周邊緣的所述第二部分周向地圍繞所述控制部件的所述底側(cè)。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述外周邊緣的第二部分的直徑大于所述外周邊緣的第一部分的直徑。

在另一個(gè)優(yōu)選的形式中，所述外周邊緣的第二部分與所述外周邊緣的第一部分徑向地對(duì)齊。

附圖說明

圖1是具有常規(guī)的控制部件的流體調(diào)節(jié)裝置的橫截面視圖。

圖2a是根據(jù)本發(fā)明的第一公開實(shí)施例的教導(dǎo)所構(gòu)造的控制部件的透視圖。

圖2b是圖2a的控制部件的橫截面視圖，該控制部件連接到圖1中的流體調(diào)節(jié)裝置的閥桿。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的第二公開實(shí)施例的教導(dǎo)所構(gòu)造的控制部件的透視圖。

圖4是裝配有圖1的常規(guī)控制部件的流體調(diào)節(jié)裝置、裝配有圖2a和圖2b的控制部件的流體調(diào)節(jié)裝置以及裝配有圖3的控制部件的流體調(diào)節(jié)裝置根據(jù)流速的下游壓力的圖表。

具體實(shí)施方式

圖1示出了流體調(diào)節(jié)器10，其大體上包括致動(dòng)器組件100和閥體200。致動(dòng)器組件100通過螺柱400和鎖緊螺母405被耦接(例如，固定)到閥體200，然而致動(dòng)器組件100還可通過任何其它已知的裝置耦接到閥體200。

致動(dòng)器組件100具有上殼體110和下殼體120，上殼體110通過螺母410和螺栓415或任何其它已知的裝置耦接到下殼體120，在組裝時(shí)限定腔室140。下面將詳細(xì)描述的隔膜組件150被固定在上殼體110和下殼體120之間，并將腔室140分成位于隔膜組件150上面的上部分142和位于隔膜組件150下面的下部分144。

上殼體110具有從其延伸的圓柱形壁112。圓柱形壁112具有螺紋內(nèi)表面113并在一端限定開口114。調(diào)節(jié)螺釘160被螺接到上殼體110的圓柱形壁112中，封閉蓋170被螺接到圓柱形壁112的開口114中，以保護(hù)調(diào)節(jié)螺釘160并防止雜物進(jìn)入致動(dòng)器組件100。彈簧180布置在腔室140的上部分142中、調(diào)節(jié)螺釘160和隔膜組件150之間，以朝著閥體200偏置隔膜組件150。另一開口116也形成在上殼體110中，以將腔室140的上部分142與大氣流體地連接。在圖示的具體實(shí)施例中，本領(lǐng)域中已知的穩(wěn)定器組件118鄰近開口114布置，以控制流體通過開口116流入和流出腔室140的上部分142。

下殼體120具有從其延伸的壁122。壁122具有圓柱形內(nèi)表面128，其終止于肩部并限定平衡腔室126的一部分。凸緣124從壁122向外延伸并具有容納螺柱400的孔隙。螺紋開口132也形成在下殼體120中，并能夠用來將下殼體120連接到外部控制線路(未圖示)，螺紋開口能夠用來流體地耦接腔室140的下部分144和下游管路，這將在下面詳細(xì)討論。

隔膜組件150大體上包括隔膜152、隔膜板154、彈簧座156、頂部密封墊圈158和底部密封墊圈159。隔膜152在其外邊緣處固定于上殼體110和下殼體120之間，并具有在中心處形成的用于容納閥桿組件240的閥桿242的開口。隔膜板154鄰近隔膜152布置，以向隔膜152的內(nèi)部分提供支撐。彈簧座156鄰近隔膜板154布置來容納彈簧180的一端。頂部密封墊圈158和底部密封墊圈159布置在隔膜152的相對(duì)兩側(cè)上，用以將隔膜152和隔膜板154固定到下面更詳細(xì)討論的閥桿242，并提供密封來阻止流體通過隔膜152中的開口在腔室140的上部分142和下部分144之間流動(dòng)。

本體200限定流體入口122、流體出口214和流體地連接入口212和出口214的流體通道216。開口218形成在本體200中，與入口212流體地連通并與流體通道216對(duì)齊。調(diào)節(jié)器10還包括閥座插入件220、閥籠230和閥桿組件240。閥座插入件220被固定到流體通道216中并提供或限定座表面222。閥籠230布置在開口218中并具有頂壁232、大體圓柱形的側(cè)壁236以及多個(gè)支撐腿238，側(cè)壁236從頂壁232的一側(cè)延伸并限定圓柱形平衡腔室126的第二部分，支撐腿238相對(duì)于側(cè)壁236從頂壁232的另一側(cè)延伸來將閥籠230支撐在本體200上?？紫?34穿過頂壁232的中間部分形成，用來容納閥桿組件240的套筒250。

閥桿組件240大體上包括閥桿242、套筒250、控制部件260和登記盤(registrationdisk)262。閥桿242是大體圓柱形的桿，其延伸穿過下殼體120中的孔隙并具有第一螺紋端244，第一螺紋端244延伸穿過底部密封墊圈159、隔膜152、隔膜板154、彈簧座156和頂部密封墊圈158中的開口。底部密封墊圈159接合形成在閥桿242上的肩部245，螺母270被螺接到第一螺紋端244，以將底部密封墊圈159、隔膜152、隔膜板154、彈簧座156和頂部密封墊圈158壓緊在肩部245和螺母270之間，并將隔膜組件150固定到閥桿組件240。套筒250布置在閥桿242的一部分的上方，以在閥桿242和套筒250之間提供從套筒250的底端到穿過閥桿242形成的孔248附近的區(qū)域的環(huán)形空間252，并延伸穿過閥籠230中的孔隙234?？刂撇考?60，在本實(shí)施例中為閥盤，其布置在套筒250的一端的上方，登記盤262布置在閥桿242的第二螺紋端246的上方，鄰近控制部件260。控制部件260和登記盤262通過螺母280被固定到閥桿242和套筒250。因此，控制部件260被可操作地耦接到閥桿242，使得控制部件260能夠響應(yīng)于閥桿242的移動(dòng)而相對(duì)于座表面222移動(dòng)，以控制通過流體通道216的流體流動(dòng)。更具體地，控制部件260能夠在閉合位置和打開位置之間移動(dòng)，在閉合位置上，控制部件260密封接合座表面222以阻止通過流體通道216的流體流動(dòng)，在打開位置上，控制部件260與座表面222分離，流體能夠流動(dòng)通過流體通道216。

在操作中，當(dāng)控制部件260處于打開位置(即，與座表面222分離)時(shí)，過程流體在入口壓力下經(jīng)由入口212進(jìn)入本體200，并流動(dòng)通過閥座插入件220、穿過控制部件260，并在下游壓力下經(jīng)由出口214流出本體200。在下游壓力p2下流體的一部分流動(dòng)通過外部控制線路(未圖示)并通過下殼體120中的開口132傳遞到腔室140的下部分144中。在出口214處對(duì)于操作流體的增加需求將導(dǎo)致下游壓力減小，這將減小腔室140的下部分144中的壓力，并進(jìn)而減小施加到隔膜152上的向上壓力，由此允許彈簧180向下移動(dòng)隔膜152和閥桿組件240。這進(jìn)而打開了控制部件260(即，進(jìn)一步遠(yuǎn)離座表面222移動(dòng)控制部件260)，并供給更多的操作流體到系統(tǒng)來滿足增加的需求。相反地，在出口214處對(duì)于操作流體的減小的需求將導(dǎo)致下游壓力增加，這將增加腔室140的下部分144中的壓力，并進(jìn)而增加施加到隔膜152上的向上壓力，由此向上移動(dòng)隔膜152和閥桿組件240。這進(jìn)而進(jìn)一步封閉控制部件260(即，移動(dòng)控制部件260更靠近座表面222)來減小操作流體到系統(tǒng)的供給以滿足減小的需求。

當(dāng)調(diào)節(jié)器10在穩(wěn)態(tài)條件下運(yùn)行時(shí)，穩(wěn)定器組件118的穩(wěn)定器封閉，僅小孔打開來穩(wěn)定正常的操作。當(dāng)調(diào)節(jié)器10響應(yīng)于下游壓力的增加時(shí)，腔室140的下部分144中的壓力增加并且隔膜152向上移動(dòng)。當(dāng)隔膜152向上移動(dòng)時(shí)，腔室140的上部分142中的空氣的運(yùn)動(dòng)迫使穩(wěn)定器組件118的下部出口穩(wěn)定器向上，這允許腔室140的上部分142中的空氣迅速地排放到大氣并最小化隔膜152的運(yùn)動(dòng)中的任何延遲。當(dāng)調(diào)節(jié)器10響應(yīng)于下游壓力的減小時(shí)，下部分144中的壓力減小并且隔膜152向下移動(dòng)。當(dāng)隔膜152向下移動(dòng)時(shí)，空氣快速通過穩(wěn)定器組件118來填充在腔室140的上部分142中形成的部分真空，這迫使穩(wěn)定器組件118的上部出口穩(wěn)定器封閉。然后，流動(dòng)通過上部出口穩(wěn)定器的網(wǎng)的空氣能夠打開下部出口穩(wěn)定器，以允許空氣從大氣流入腔室140的上部分142中。

當(dāng)控制部件260打開時(shí)，過程流體從入口212流入，穿過閥座插入件220(并因此穿過流體通道218)，并在控制部件260的邊緣上方流動(dòng)到達(dá)出口214。當(dāng)過程流體通過閥座插入件220并在控制部件260的邊緣上方流動(dòng)時(shí)，過程流體可施加向上力或向下力到控制部件260，這因而能夠通過抵消或增加由隔膜152上的出口壓力施加的向上力來干涉調(diào)節(jié)器10的操作。這在高流動(dòng)狀態(tài)下是特別有問題的，其中在控制部件260的平坦的底側(cè)上以高速度流動(dòng)或行進(jìn)的過程流體產(chǎn)生吸力(即，向下力)，其移動(dòng)控制部件260進(jìn)一步遠(yuǎn)離座表面222超出預(yù)期，由此打開調(diào)節(jié)器10超出預(yù)期。這在調(diào)節(jié)器10在低出口壓力下運(yùn)行時(shí)也是特別有問題的，其中由在控制部件260的平坦的底側(cè)上流動(dòng)或行進(jìn)的過程流體所產(chǎn)生的即使小的吸力也能用來移動(dòng)控制部件260進(jìn)一步遠(yuǎn)離座表面222超出預(yù)期。在這兩個(gè)情形下，下游出口壓力可能升高超出精確度，由此限制了調(diào)節(jié)器10的能力。

因此，本公開提供了一種控制部件500，當(dāng)在調(diào)節(jié)器10中實(shí)施時(shí)，能夠最小化由在高流動(dòng)狀態(tài)和低出口壓力下的過程流體所產(chǎn)生的吸力，由此減小(如果沒有消除)不理想的“升高”，并改進(jìn)調(diào)節(jié)器10的精確度。為此，控制部件500大體上被設(shè)置成使得高速流體流動(dòng)被基本上踢開(kickoff)或者引導(dǎo)遠(yuǎn)離控制部件500的底側(cè)。這能夠通過下面詳細(xì)描述的多種不同的方式來實(shí)現(xiàn)。

圖2a和圖2b示出了采取閥墊600的形式的控制部件500的一個(gè)實(shí)施例。閥墊600具有由頂側(cè)或頂表面604、底側(cè)或底表面608以及在頂側(cè)604和底側(cè)608之間的圓周邊緣612所形成的本體602。閥墊600還包括向下延伸的外緣或唇部616，其可以與本體602一體地形成或者分開制造然后耦接到本體602。外緣或唇部616從本體602的一部分(例如，圓周邊緣612)延伸到底側(cè)608下面的位置。圓周邊緣612和外緣616可以但不是必須具有大于閥墊600的直徑d的組合長度l。在圖示的實(shí)施例中，外緣或唇部616與圓周邊緣612徑向地對(duì)齊，使得圓周邊緣612和外緣616具有相同的直徑。然而，在其它的實(shí)施例中，外緣或唇部616可以相對(duì)于圓周邊緣612徑向向內(nèi)或者徑向向外布置。

如圖2b中最佳地所示，閥墊600具有沿著閥墊600的中心縱向軸線624從其貫穿形成的通孔620。通孔620的尺寸適于容納閥桿242的末端628。在本實(shí)施例中，閥桿242的末端628是螺紋的，使得具有螺紋內(nèi)表面的緊固件632(例如，固定螺母)能夠螺接到閥桿242上，以將閥桿242耦接(例如，固定連接)到閥墊600，如圖2b中所示。應(yīng)該理解的是由于閥墊600的結(jié)構(gòu)，緊固件632凹陷入閥墊600中。

當(dāng)閥墊600如此耦接到閥桿242并且調(diào)節(jié)器10運(yùn)行時(shí)，閥墊600使得可能由于在高流動(dòng)狀態(tài)和低出口壓力下的過程流體所產(chǎn)生的吸力最小化。當(dāng)閥墊600打開使得過程流體從入口212流經(jīng)閥座插入件220(并因此經(jīng)過流體通道218)時(shí)，過程流體將沿著圓周邊緣612和外緣或唇部616流動(dòng)到出口214。盡管一些過程流體可能在過程中到達(dá)閥墊600的底表面608，但是外緣或唇部616將保持或者引導(dǎo)大多過程流體遠(yuǎn)離閥墊600的底表面(即，閥墊600的底側(cè))608流動(dòng)。因此，僅最小量的吸力將由過程流體產(chǎn)生并施加到閥墊600的底表面608，即使在高流動(dòng)狀態(tài)和低出口壓力下。接著，閥墊600幫助減小不需要并且不理想的“升高”，促進(jìn)更精確的壓力調(diào)節(jié)器10。而且，通過將緊固件632(即，閥桿242和閥墊600之間的連接件)凹陷入閥墊600內(nèi)，緊固件632基本上沒有暴露于流動(dòng)通過調(diào)節(jié)器10的流體。這還有助于特別是在過程流體以高速流動(dòng)時(shí)減小可能由穿過緊固件632的底部流動(dòng)的過程流體所產(chǎn)生的吸力。

應(yīng)該理解的是控制部件500可以變化并且如所期望的仍促進(jìn)更精確的調(diào)節(jié)器10。在一些實(shí)施例中，控制部件500可以為閥塞、閥盤或其它類型的控制部件。控制部件500可以在形狀、尺寸和/或結(jié)構(gòu)上變化。如圖3中所示，例如，控制部件500采用階梯狀閥墊700的形式，其具有多個(gè)(在該實(shí)施例中為2個(gè))不同尺寸的環(huán)形部分704、708。第一環(huán)形部分704限定頂側(cè)或頂表面712，第二環(huán)形部分708限定底側(cè)或底表面716。第二環(huán)形部分708具有大于第一環(huán)形部分704的直徑，使得通過調(diào)節(jié)器10流動(dòng)的過程流體大部分被保持或引導(dǎo)遠(yuǎn)離底表面716，由此將由過程流體所產(chǎn)生并施加于底表面716的吸力的大小最小化。而且，代替于外緣或唇部616，控制部件500可通過利用凹形的底表面608、底表面608的不同形狀或利用能夠?qū)崿F(xiàn)相同功能的其它特征來將過程流體從底表面608踢開。此外，在一些實(shí)施例中，如所期望地，基于給定的應(yīng)用，通過調(diào)節(jié)外緣616的高度、控制部件500的直徑、外緣616的位置(castling)或者其它的方式，控制部件500所提供的“升高”的量可以增加或減小。

現(xiàn)在轉(zhuǎn)向圖4，裝備有常規(guī)控制部件諸如控制部件260的流體調(diào)節(jié)裝置的性能將與裝備有根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)所構(gòu)造的控制部件諸如閥墊600或閥墊700的流體調(diào)節(jié)裝置的性能進(jìn)行對(duì)比。

圖4示出了具有常規(guī)控制部件諸如控制部件260的流體調(diào)節(jié)裝置的兩條流動(dòng)曲線(1)和(2)，具有根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)所構(gòu)造的控制部件諸如閥墊600的調(diào)節(jié)器的兩條流動(dòng)曲線(3)和(4)，以及具有根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)所構(gòu)造的控制部件諸如閥墊700的流體調(diào)節(jié)裝置的兩條流動(dòng)曲線(5)和(6)。在由圖4提供的圖表中所示的數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的每個(gè)測(cè)試中，流體調(diào)節(jié)裝置被設(shè)定為具有87磅/平方英寸(psig)的入口壓力以及根據(jù)流速進(jìn)行測(cè)量的出口壓力p2。圖4中所示的圖表的y軸對(duì)應(yīng)于測(cè)量的出口壓力p2，以psig測(cè)量，圖4中所示的圖表的x軸對(duì)應(yīng)于流速，標(biāo)準(zhǔn)立方英尺/小時(shí)(scfh)。從圖4的圖表可以看出，在低流速(0～50000scfh)下每個(gè)流體調(diào)節(jié)裝置的出口壓力p2相似，但是具有常規(guī)的控制部件的流體調(diào)節(jié)裝置在高流速(50000～250000scfh)下飆升或急劇增加。該飆升是沿著控制部件260的底側(cè)在高速度下流動(dòng)的流體所產(chǎn)生的吸力的結(jié)果。同時(shí)，對(duì)于具有根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)所構(gòu)造的控制部件的流體調(diào)節(jié)裝置，出口壓力p2即使在高流速下也相對(duì)穩(wěn)定。這種增加的穩(wěn)定性，其提供了更精確的流體調(diào)節(jié)裝置，是將流體從控制部件的底側(cè)踢走以及將連接閥桿和控制部件的緊固件凹陷入控制部件內(nèi)的意外結(jié)果。

從前述內(nèi)容可以看出本公開有利地提供了一種用于流體調(diào)節(jié)裝置的改進(jìn)的控制部件，其有效地減小了由流動(dòng)通過流體調(diào)節(jié)裝置的過程流體所產(chǎn)生的吸力。該減小有利地增加了流體控制裝置的出口壓力的穩(wěn)定性，由此改進(jìn)了流體調(diào)節(jié)裝置的精確度。

這里描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，包括發(fā)明人已知的實(shí)施本發(fā)明的最佳模式。盡管這里圖示并描述了多個(gè)實(shí)施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解不同實(shí)施例的細(xì)節(jié)不需要是相互排斥的。相反地，本領(lǐng)域技術(shù)人員通過閱讀這里的教導(dǎo)應(yīng)該能夠?qū)⒁粋€(gè)實(shí)施例的一個(gè)或多個(gè)特征與其它實(shí)施例的一個(gè)或多個(gè)特征相組合。此外，還應(yīng)理解的是圖示的實(shí)施例僅僅是示例性的，不應(yīng)該用來限制本發(fā)明的范圍。除非這里表明或者上下文明顯矛盾，這里描述的所有方法能夠以任何適當(dāng)?shù)拇涡蜻M(jìn)行。這里提供的任何和所有實(shí)施例或示例性的語言(例如，“諸如”)僅用來更好地說明本發(fā)明的示例性實(shí)施例的方面，并非限制本發(fā)明的范圍。說明書中的任何一句話都不能被解釋為未被權(quán)利要求所保護(hù)的元素對(duì)于實(shí)施本發(fā)明是必不可少的。