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調(diào)節(jié)閥和用于調(diào)節(jié)閥的平衡閥內(nèi)件的制作方法

文檔序號:12763444閱讀:201來源:國知局
調(diào)節(jié)閥和用于調(diào)節(jié)閥的平衡閥內(nèi)件的制作方法與工藝

本申請涉及調(diào)節(jié)閥、平衡閥內(nèi)件、以及使用平衡閥內(nèi)件來改變調(diào)節(jié)閥的方法,其中在某些實例中,可以在過容量操作情形下提供改善的操作特性。



背景技術(shù):

調(diào)節(jié)閥(也被稱為壓力調(diào)節(jié)器)用于各種工業(yè)和住宅應(yīng)用中以便控制流體的下游壓力。例如,在化學(xué)處理工廠或煉油廠中,調(diào)節(jié)閥用于對流動的流體進行操縱以補償需求的增加和減小或者其它負載波動,并因此保持對流體壓力的調(diào)節(jié)。類似地,調(diào)節(jié)閥可以用于衛(wèi)生潔具中以保持預(yù)先確定的流體壓力(其針對需求的變化自動調(diào)節(jié)),例如淋浴頭或水龍頭中的防燙閥。通過控制下游壓力,調(diào)節(jié)閥對下游需求的變化進行補償。例如,隨著下游需求增加,常規(guī)的調(diào)節(jié)閥打開以允許更多的流體流動通過該調(diào)節(jié)閥,從而保持相對恒定的下游壓力。相反,隨著下游需求減小,常規(guī)的調(diào)節(jié)閥關(guān)閉以減少流動通過該調(diào)節(jié)閥的流體的量,從而再次保持相對恒定的下游壓力。

常規(guī)的調(diào)節(jié)閥可以分類為平衡的或非平衡的。常規(guī)的非平衡調(diào)節(jié)閥在閥塞的一側(cè)(即,入口或上游側(cè))上具有高壓入口流體,并且在閥塞的另一側(cè)(即,出口或下游側(cè))上具有較低壓出口流體。在常規(guī)的平衡調(diào)節(jié)閥中,排出上游流體壓力的一部分以作用于閥塞的下游部分,以便至少部分地抵消作用于閥塞的上游壓力和下游壓力。因此,調(diào)節(jié)閥是“平衡的”,具有作用于閥塞的上游部分和下游部分二者的相同流體壓力,或者至少具有閥塞的上游部分與下游部分之間減小的壓力差。

圖1示出了公知的調(diào)節(jié)閥布置,包括壓力調(diào)節(jié)閥10、導(dǎo)閥12、以及先導(dǎo)供給濾波器調(diào)節(jié)器14。導(dǎo)閥12和先導(dǎo)供給濾波器調(diào)節(jié)器14與出口流體流和壓力調(diào)節(jié)閥10操作地連接,以便以本領(lǐng)域中理解的方式在出口流體流中提供期望的流體壓力。在該布置中,如后文中大體上描述的,調(diào)節(jié)閥10包括平衡閥內(nèi)件組件。

圖2示出了調(diào)節(jié)閥10的詳細的示例性布置。調(diào)節(jié)閥10包括閥體16、連接到閥體的致動器18、以及平衡閥內(nèi)件組件20。致動器18控制平衡閥內(nèi)件組件20在閥體16內(nèi)的位置,以便調(diào)節(jié)通過閥體的流體的流動。響應(yīng)于離開調(diào)節(jié)閥10的下游流體壓力,致動器18在完全打開狀態(tài)與完全關(guān)閉狀態(tài)之間移動流動控制構(gòu)件32,在完全打開狀態(tài)中,可能的最大量的流體通過調(diào)節(jié)閥10,在完全關(guān)閉狀態(tài)中,沒有流體通過調(diào)節(jié)閥10。

閥體16限定了延伸通過孔口或閥喉部26并且從入口22延伸到出口24的流體流動路徑。此外,閥帽25操作地將致動器18耦合到閥體16。

閥內(nèi)件組件20包括座環(huán)28、閥籠30、以及流動控制構(gòu)件32。座環(huán)28被設(shè)置在閥喉部26處并且適于形成閥座。閥籠34例如通過減少氣蝕、改善層流、和/或提供噪聲控制來影響在閥內(nèi)件組件20的下游側(cè)的流體的流動。流動控制構(gòu)件32被布置為在打開位置(其中閥盤組件與座環(huán)28間隔開)和關(guān)閉位置(其中閥盤組件34抵靠座環(huán)28而密封)之間移動,以便控制通過閥喉部26的流體的流動。在該布置中,流動控制構(gòu)件32包括閥盤組件34、套筒適配器36、以及套筒38。閥盤組件34包括密封件,其中當(dāng)流動控制構(gòu)件20處于完全關(guān)閉位置時,該密封件密封地接合座環(huán)28。套筒38形成閥桿,該閥桿操作地將閥盤組件34與致動器18連接。套筒適配器36將閥盤組件34耦合到套筒38。

致動器18包括隔膜組件40,該隔膜組件40操作地設(shè)置在致動器殼體42內(nèi)并且操作地耦合到套筒38。致動器18經(jīng)由導(dǎo)閥12和先導(dǎo)供給濾波器調(diào)節(jié)器14而操作地與出口流體流耦合,以便促使隔膜組件40響應(yīng)于閥體16的出口24處的流體壓力而在致動器殼體42內(nèi)向上和/或向下移動。在該布置中,致動器包括彈簧41,該彈簧41推抵隔膜組件40的一側(cè),而隔膜組件的相對側(cè)暴露于離開調(diào)節(jié)閥10的下游流體壓力。隔膜組件40耦合到套筒38,以使得伴隨隔膜組件40的移動,隔膜組件40向上和/或向下移動套筒38。

套筒38具有從下端延伸到上端的細長中空管的形式,優(yōu)選地,具有圓柱形的形狀。套筒適配器36被設(shè)置并固定于套筒38的下端,并且閥盤組件34固定地耦合到套筒適配器36。在致動器殼體42的頂部中形成的盲孔內(nèi)滑動地接收套筒38的上端。通過致動器殼體的底部中形成的通孔來滑動地接收套筒38的下端,并且套筒38的下端與閥喉部26對齊。套筒38的下端沿著通孔軸向地滑動,并且套筒38的上端沿著盲孔軸向地滑動。此外,套筒38的外表面抵靠通孔和盲孔中的每一個的內(nèi)表面密封地接合(例如,利用密封件43),以便將套筒38的內(nèi)部與致動器殼體42的內(nèi)部的其余部分流體地隔離。閥盤組件34和套筒適配器36中的每一個都具有中央和軸向?qū)R的孔口,這些孔口一起限定通路44,該通路44將閥體16的流體流動路徑流體地耦合到套管38的內(nèi)部。因此,通路44流體地耦合閥盤組件34的上游側(cè)和下游側(cè),這平衡了閥盤組件34的相對側(cè)上的流體壓力,從而提供了平衡的閥內(nèi)件組件。

圖3示出了相隔離的套筒38、套筒適配器36、閥盤組件34、以及座環(huán)28。如箭頭A所示出的,來自入口22的流體通過座環(huán)28(并且因此也通過喉部26)并且通過由套筒適配器36和閥盤組件34定義的通路44進入套筒38的內(nèi)部,從而使閥盤組件34的相對側(cè)上的壓力相等。

在這種公知的調(diào)節(jié)閥布置中,優(yōu)選地,將調(diào)節(jié)閥10的大小設(shè)置為使得在靠近閉合件32的行程距離的中間某處的優(yōu)選操作范圍內(nèi)滿足對整個布置的應(yīng)用要求,而無需將調(diào)節(jié)閥10操作為靠近閥內(nèi)件的任一行程極限,即,流動控制構(gòu)件32處于或特別接近完全打開狀態(tài),或者處于或非常接近完全關(guān)閉狀態(tài)。在某些布置中和/或在某些操作情形下,調(diào)節(jié)閥10對于期望的操作情形來說可能太大。例如,如果在已經(jīng)沿著管線安裝了調(diào)節(jié)閥之后改變操作情形,則可能發(fā)生這種情況。這會使得流動控制構(gòu)件32在新的預(yù)期的操作情形下可操作為非常接近于閥座28。如果流動控制構(gòu)件32具有軟閥座(例如,軟閥盤或閥塞),則這種情形可能造成對閥座材料的損壞,在某些情況下,這可以根據(jù)需要防止調(diào)節(jié)閥關(guān)斷。盡管在某些情況下可以通過提供較小的閥來解決這種情形,但是這種解決方案對于其它實際考慮往往是不可行的。

調(diào)節(jié)平衡閥內(nèi)件組件的有效尺寸以解決具有過大調(diào)節(jié)閥的這種情形的一種方式是在閥喉部26處安裝較小的閥座。然而,這種策略的缺點是,在以較高壓力(很顯然由于較小的閥座而造成的不平衡)運行的操作情形下不能有效地使用。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型要解決的技術(shù)問題是:常規(guī)的調(diào)節(jié)閥在以較高壓力運行的操作情形下不能有效地使用。根據(jù)本公開內(nèi)容的某些方面,提供了一種用于壓力調(diào)節(jié)閥的平衡閥內(nèi)件,所述平衡閥內(nèi)件在比初始開發(fā)設(shè)計的用于該調(diào)節(jié)閥的操作情形低的體積流量(volume flow)操作情形下具有有利的操作特性。在一種布置中,一種用于調(diào)節(jié)閥的平衡閥內(nèi)件包括:閥座,所述閥座限定用于流體流動通過閥體的流通孔口;以及流動控制構(gòu)件,所述流動控制構(gòu)件用于控制所述流體通過所述流通孔口的流動。所述流動控制構(gòu)件包括套筒和閥盤組件。所述套筒用于操作地連接到致動器,以便朝向以及遠離所述閥座移動。所述套筒具有沿著所述套筒在第一端與第二端之間延伸的內(nèi)部空間。所述閥盤組件被設(shè)置在所述第二端處并且被布置為接合所述閥座。所述閥盤組件包括用于提供與所述內(nèi)部空間流體連通的通路。在所述內(nèi)部空間的所述第一端處形成第一有效壓力區(qū),并且在所述內(nèi)部空間的所述第二端處限定第二有效壓力區(qū)。所述第二有效壓力區(qū)與所述第一有效壓力區(qū)相對。

根據(jù)本公開內(nèi)容的某些方面,提供了一種調(diào)節(jié)閥,所述調(diào)節(jié)閥在較低的體積流量操作情形下提供有利的操作特性。在一種布置中,所述調(diào)節(jié)閥包括:閥體,所述閥體限定流體流動通道,所述流體流動通道具有設(shè)置在入口與出口之間的閥喉部;致動器,所述致動器操作地耦合到所述閥體;以及平衡閥內(nèi)件。所述平衡閥內(nèi)件包括座環(huán)、流動控制構(gòu)件、以及柱塞。所述座環(huán)耦合到所述閥體,并且限定具有第一截面面積的流通孔口。所述流動控制構(gòu)件包括套筒,所述套筒操作地連接到所述致動器,以便將閥盤組件朝向以及遠離所述座環(huán)移動,從而控制流體通過所述流體流動通道的流動。所述套筒包括:設(shè)置在所述套筒的第一端與所述套筒的第二端之間的內(nèi)部空間,所述閥盤組件設(shè)置在所述套筒的所述第二端處;被設(shè)置為朝向所述套筒的所述第一端并且與所述閥盤組件間隔開以至少部分地限定所述內(nèi)部空間的內(nèi)部環(huán)形肩部;以及延伸通過所述內(nèi)部環(huán)形肩部的通孔,其中,所述閥盤組件包括用于提供所述流體流動通道與所述內(nèi)部空間之間的流體連通的通路。所述柱塞滑動地設(shè)置在所述通孔內(nèi)并且相對于所述閥體固定。

根據(jù)本公開內(nèi)容的某些方面,提供了一種用于將調(diào)節(jié)閥改變?yōu)樵诒瘸跏奸_發(fā)設(shè)計的用于所述調(diào)節(jié)閥的操作情況要低的體積流量操作狀況下具有不同的操作特性的方法。在一種布置中,提供了一種采用套筒形式的滑動閥桿來改變具有現(xiàn)有平衡閥內(nèi)件的壓力調(diào)節(jié)閥的方法。所述方法包括:移除所述現(xiàn)有閥內(nèi)件;以及使用如本文中所描述的平衡閥內(nèi)件來替代所移除的現(xiàn)有閥內(nèi)件。優(yōu)選地,在不需要改變(例如,通過調(diào)整尺寸、加工和/或更換)所述調(diào)節(jié)閥的致動器或閥體的情況下完成所述替代。

此外,這些方面和布置可以包括以下額外的方面和布置中的任意一項或多項。

在某些布置中,所述通孔的第二截面面積與所述座環(huán)的所述流通孔口的所述第一截面面積相匹配。所述第二截面面積可以與所述第一截面面積相同,或者可以大于或者小于所述第一截面面積。

在某些布置中,來自所述內(nèi)部空間內(nèi)的流體的壓力在所述套筒的一端處形成第一有效力并且在所述套筒的另一端處形成第二有效力,其中,所述第一有效力抵消所述第二有效力。所述第一有效力可以相對于所述第一有效壓力區(qū)。所述第二有效力可以相對于所述第二有效壓力區(qū)。所述第一有效力可以指向與所述第二有效力相對的方向。所述閥盤組件可以限定所述第二有效壓力區(qū)。所述內(nèi)部環(huán)形肩部可以限定所述第一有效壓力區(qū)。

在某些布置中,所述柱塞耦合到所述致動器的殼體。所述柱塞可以與所述通孔的內(nèi)表面構(gòu)成流體緊密密封。優(yōu)選地,所述密封件是滑動或動態(tài)密封件,從而所述套筒能夠相對于所述閥塞自由地滑動。

在某些布置中,所述致動器包括隔膜組件,所述隔膜組件響應(yīng)于壓力變化,并且所述流動控制構(gòu)件耦合到所述隔膜組件。所述套筒可以包括將所述套筒耦合到所述隔膜組件的耦合機構(gòu),例如外部環(huán)形肩部。然而,可以使用將所述隔膜組件的移動傳遞給所述套筒的其它耦合機構(gòu)。

在某些布置中,所述套筒具有在所述第一端與所述第二端之間延伸的實質(zhì)上的圓柱形狀。所述套筒可以具有實質(zhì)上的圓柱形狀。所述套筒可以具有圓柱形側(cè)壁,所述圓柱形側(cè)壁具有內(nèi)表面和外表面。所述內(nèi)表面可以至少部分地限定所述套筒內(nèi)的所述內(nèi)部空間。所述外部圓形肩部可以從所述外表面徑向地向外凸出。所述內(nèi)部環(huán)形肩部可以從所述內(nèi)表面徑向地向內(nèi)凸出。所述內(nèi)部環(huán)形肩部可以被設(shè)置為靠近所述第一端并且與所述第二端間隔開,以至少部分地限定所述內(nèi)部空間。所述內(nèi)部環(huán)形肩部可以在所述套筒的所述第一端處形成端壁。通孔可以延伸通過所述內(nèi)部環(huán)形肩部。柱塞滑動地設(shè)置在所述通孔內(nèi)并且相對于所述閥體被固定。所述柱塞可以與所述通孔的內(nèi)表面構(gòu)成流體緊密密封。所述內(nèi)部環(huán)形肩部可以具有從所述套筒的所述內(nèi)壁向內(nèi)凸出的矩形、圓形、或錐形形狀中的至少一種形狀。來自所述內(nèi)部空間內(nèi)的流體的壓力形成相對于所述第一有效壓力區(qū)的第一有效力以及相對于所述第二有效壓力區(qū)的第二有效力,其中,所述第一有效力抵消所述第二有效力。

在某些布置中,所述內(nèi)部環(huán)形肩部可以至少部分地限定所述第一有效壓力區(qū)。所述閥盤組件可以至少部分地限定所述第二有效壓力區(qū)。

本實用新型能夠達到的技術(shù)效果是在比初始開發(fā)設(shè)計的用于調(diào)節(jié)閥的操作情形低的體積流量(volume flow)的操作情形下具有有利的操作特性。一旦對附圖和下面對附圖的詳細描述進行透徹研究,將可辨別另外的方面和布置。

附圖說明

圖1是公知的調(diào)節(jié)閥布置的圖解視圖;

圖2是圖1中所示出的調(diào)節(jié)閥的放大的橫截面視圖;

圖3是圖2中的平衡閥內(nèi)件組件的放大的等距橫截面視圖;

圖4是根據(jù)本公開內(nèi)容的方面的平衡閥內(nèi)件組件的放大的等距橫截面視圖;以及

圖5是包括圖4中的平衡閥內(nèi)件的調(diào)節(jié)閥的橫截面視圖。

具體實施方式

根據(jù)本公開內(nèi)容的某些方面,可以使用平衡閥內(nèi)件(即,平衡閥組件)來對壓力調(diào)節(jié)器(即,調(diào)節(jié)閥)進行小幅修改,以允許在過容量流動情形中(即,在位于壓力調(diào)節(jié)器的流速容量范圍的下端或者甚至低于該范圍的流速的情況下使用)使用壓力調(diào)節(jié)器,而不會在主閥盤的密封表面處造成破壞力。

根據(jù)本公開內(nèi)容的某些方面,可以減小座環(huán)的孔口大小,以便使得閥盤組件與閥座更遠地間隔開來操作。這種布置可以消除或減少原本會對閥盤或閥座造成最大損壞的極限速度。

根據(jù)本公開內(nèi)容的某些方面,將套筒改變?yōu)榕c座環(huán)的面積相匹配。這種布置會移動閥盤組件更遠離座環(huán),以便提供通過閥體的期望流動,但仍然允許跨廣泛范圍的入口壓力而對施加到閥盤組件的力進行控制。

現(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖4和圖5,提供了根據(jù)本公開內(nèi)容的示例性布置中的新的閥內(nèi)件組件50,以用于代替閥內(nèi)件組件20來與壓力調(diào)節(jié)閥10一起使用。閥內(nèi)件組件50包括:座環(huán)66,由閥體16在閥喉部26處承載所述座環(huán)66;以及滑動閥桿流動控制構(gòu)件51,由致動器18將該滑動閥桿流動控制構(gòu)件51朝向以及遠離座環(huán)66上下移動。流動控制構(gòu)件51包括以套筒52形式的閥桿、套筒適配器58、以及閥盤60。套筒適配器58和閥盤60一起形成閥盤組件61。套筒52具有從下端54延伸到上端56的細長中空管的形式。(使用所有的通用方向修飾語(例如,上、下、左和右)僅是為了方便按照所布置的來參考附圖的目的,而并非旨在以其它方式限制本公開內(nèi)容。)優(yōu)選地,套筒52具有大體上圓柱形細長管的形狀,然而,其它的形狀也是可能的。套筒具有耦合機構(gòu),例如外部環(huán)形肩部57,該外部環(huán)形肩部57將套筒52與隔膜組件40耦合,以使得隔膜組件的移動直接傳遞給套筒52。

套筒適配器58被設(shè)置在套筒52的下端54內(nèi)并由下端54來承載。閥盤60由套筒適配器58承載。套筒適配器58和閥盤60中的每一個都具有延伸通過其中的中央孔口,這些中央孔口對齊以便形成通路62,該通路62流體地連接閥體16的流體流動通路和套筒52的內(nèi)部空間64。流體流動通路中的流體可以流入和/或流出內(nèi)部空間64,以便至少部分地平衡在流動控制構(gòu)件51的打開方向上和關(guān)閉方向上作用于閥盤組件61的流體壓力。

座環(huán)66(其形成閥座,閥盤60可以抵靠該閥座而密封地接合)以類似于座環(huán)28的方式由閥體16承載。然而,座環(huán)66具有比座環(huán)28小的流通孔口67,并且因具有比座環(huán)28小的截面面積或孔口面積。在該示例中,座環(huán)66形成圓形流通孔口,其直徑小于座環(huán)28的孔口直徑。在與座環(huán)28的較大孔口面積相比具有更低的體積流速的操作情形時,座環(huán)66的較小的孔口面積可以增加流動通過流通孔口67的流體速度。

套筒52被構(gòu)造為使得來自內(nèi)部空間64內(nèi)的流體的壓力形成流動控制構(gòu)件51上的第一有效力F1以及流動控制構(gòu)件51上的第二有效力F2,其中第一有效力F1抵消第二有效力F2。因此,流體壓力作用于流動控制構(gòu)件51的凈有效向下平衡力相對小于相同的流體壓力(例如將作用于流動控制構(gòu)件32)的凈有效向下平衡力。這允許流動控制構(gòu)件51在通過閥體16的給定流體流速下具有平衡位置,相比于在相同的流動情形下將由流動控制構(gòu)件32所提供的平衡位置,該平衡位置與座環(huán)66稍微更遠地間隔開,由此減小了在通過閥體16的流體的較低流速下閥盤60相對于座環(huán)66的不期望的振顫的可能性。

可以用許多不同的方式來產(chǎn)生第一有效力F1和第二有效力F2。概括地說,使套筒52的內(nèi)部空間64成形為使得在內(nèi)部空間64的第一端處創(chuàng)建第一有效壓力區(qū),并且在內(nèi)部空間的第二端處創(chuàng)建第二有效壓力區(qū),其中,第二有效壓力區(qū)與第一有效壓力區(qū)相對。可以由內(nèi)部空間64中的一個或多個內(nèi)表面來形成第一有效壓力區(qū)和第二有效壓力區(qū)中的每一個。在本示例性布置中,由靠近上端56從套筒52的側(cè)壁的內(nèi)表面向內(nèi)凸出的內(nèi)部環(huán)形肩部70來形成第一有效壓力區(qū)。由閥盤組件61的內(nèi)表面,并且具體而言,由套筒適配器58的背側(cè)來形成第二有效壓力區(qū)。然而,可以由其它表面來形成第一有效壓力區(qū)和第二有效壓力區(qū),并且為了發(fā)揮功能,第一有效壓力區(qū)和第二有效壓力區(qū)無需受限于附圖中所示出的特定形狀或表面。例如,可以由從套筒52的內(nèi)表面向內(nèi)延伸的其它成形的表面(例如,圓形表面或錐形表面)來形成第一有效壓力區(qū)和第二有效壓力區(qū)中的一個或二者。

在附圖的示例性布置中,內(nèi)部環(huán)形肩部70被設(shè)置在套筒52的位于或者靠近套筒52的上端56的內(nèi)表面上。內(nèi)部環(huán)形肩部70在套筒52的上端56處形成通孔72。通孔72的截面面積小于內(nèi)部空間64的截面面積。因此,內(nèi)部環(huán)形肩部70在套筒52的內(nèi)表面與通孔72之間形成第一有效壓力區(qū),其中第一有效力F1作用于該第一有效壓力區(qū)。在本布置中,內(nèi)部環(huán)形肩部70具有從套筒52的側(cè)壁的內(nèi)表面向內(nèi)凸出的矩形形狀;然而,內(nèi)部環(huán)形肩部70不限于這種矩形截面形狀,而是還可以具有或者替代地具有其它形狀,例如從套筒52的側(cè)壁的內(nèi)表面向內(nèi)凸出的圓形形狀和/或錐形形狀。主要在于內(nèi)部環(huán)形肩部70形成一個或多個表面,可以相對于這些表面來產(chǎn)生第一有效力F1,以在向上方向(如圖中所示出的)上推動流動控制構(gòu)件51。

通孔72的截面面積以如下方式與座環(huán)66的截面棉結(jié)相匹配:最有效地平衡相對于施加在閥盤組件61的入口側(cè)的力而在套筒52內(nèi)產(chǎn)生的平衡力F1和F2。在某些布置中,通孔72的截面面積等于座環(huán)66的流通孔口67的截面面積;然而在其它布置中,取決于期望的平衡特性以及期望要在流動控制構(gòu)件51上產(chǎn)生的凈有效力,通孔72的截面面積可以大于或小于流通孔口67的截面面積。

柱塞74滑動地設(shè)置在通孔72內(nèi)并且被布置為使得相對于閥體16而被固定。在本布置中,柱塞74耦合到致動器18(例如,通過附接到致動器殼體42的上部),并且延伸到通孔72中。然而,還可以使用其它布置來將柱塞保持在相對于閥體16固定的位置中??梢岳缋糜芍?4承載的密封件76(例如,O形環(huán)),在柱塞74與通孔72的內(nèi)表面之間構(gòu)成流體緊密密封。隨著套筒52響應(yīng)于隔膜組件40的移動而上下行進,通孔72沿著柱塞74軸向地上下滑動。在本布置中,通孔72具有軸向長度,該軸向長度至少與套筒52在完全關(guān)閉位置與完全打開位置之間的最長可能行進距離一樣長,并且優(yōu)選地,比該最長可能行進距離更長,以使得柱塞74沿著套筒52的整個行進長度總是抵靠通孔72的內(nèi)表面而密封地接合。在其它布置中,內(nèi)部環(huán)形肩部70可以例如通過承載O形環(huán)來構(gòu)成抵靠柱塞的密封,并且柱塞可以比通孔72更長。在這種布置中,柱塞74可以具有至少與套筒52的最大行進距離一樣長的長度,從而內(nèi)部環(huán)形肩部70總是抵靠柱塞74而密封地接合。在任何布置中,柱塞74形成另一個有效壓力區(qū),該有效壓力區(qū)不會有效地作用于流動控制構(gòu)件51,因為柱塞74相對于流動控制構(gòu)件51滑動。

利用該布置,由從閥體16的流體流動通路進入套筒52的內(nèi)部空間64的流體產(chǎn)生的一組向上作用力F1在向上方向上作用于內(nèi)部環(huán)形肩部70。因此,這些向上作用力F1向上推動套筒52,由此移動閥盤60更遠離座環(huán)66。向上作用力F1與由抵靠套筒適配器58的上表面接合的內(nèi)部空間64中的流體產(chǎn)生的向下作用力F2相對,并且與該向下作用力F2相抵消。由于柱塞74固定地附接到致動器殼體42的上部,因此作用于柱塞74的區(qū)域(優(yōu)選地,該區(qū)域與通孔72的截面面積相對應(yīng))的流體壓力不會作用為抵消向下作用力F2。因此,與套筒38形成對比,套筒52在通過閥體16的流體流動通路的相同流體流動情形下,提供了流動控制構(gòu)件51組件上的較小的凈有效向下作用力(即,F(xiàn)2-F1)。這轉(zhuǎn)而使得閥盤62具有平衡位置,與如果在相同流動狀況下使用不具有內(nèi)部環(huán)形肩部的套筒38相比,該平衡位置與座環(huán)66更遠地間隔開。通過使得閥盤62與座環(huán)66更遠地間隔開而停留,本公開內(nèi)容的閥內(nèi)件組件50可以減少在較低體積流量情形下座環(huán)66和/或閥盤60的長期磨損而不必改變致動器18和閥體16。

可以調(diào)節(jié)套筒適配器58的截面面積(向下作用力F2所相對的)和/或通孔72的截面面積和/或內(nèi)部環(huán)形肩部70的截面面積,以滿足各種力平衡條件。

為了改變壓力調(diào)節(jié)閥10以更好地適應(yīng)通過閥體16的較低的體積流速,一種改變調(diào)節(jié)閥10的方法可以包括:從閥體16中移除閥內(nèi)件組件20,以及采用閥內(nèi)件組件50來替代所移除的閥內(nèi)件組件20。由于套筒52的外表面與套筒38的外表面大體上相同,因此閥內(nèi)件組件50可以容易地被改造為操作地與致動器18和閥體16適配。因此,當(dāng)壓力調(diào)節(jié)閥10安裝在其中的特定管線的操作情形改變?yōu)槭沟镁哂休^低的體積流速時,可以將壓力調(diào)節(jié)閥10改變?yōu)楦玫剡m應(yīng)新的操作情形而不必改變閥體16和/或致動器18的尺寸或者以其它方式大幅改變閥體16和/或致動器18。

用于移除閥內(nèi)件組件20的一組示例性步驟可以包括:從閥體16中移除致動器18和流動控制設(shè)備32。隨后可以從閥體16中移除閥籠30,例如通過將閥籠向上滑動通過在喉部26上方向上延伸的垂直孔。隨后可以從閥體16中移除閥座28,例如也通過將閥座向上滑動通過相同的垂直孔??梢詫⒘鲃涌刂圃O(shè)備32與隔膜組件40去耦合(decouple),例如通過將隔膜板從套筒38上的外部環(huán)形肩部松開。

用于采用閥內(nèi)件組件50來替代所移除的閥內(nèi)件組件20的一組示例性步驟可以包括:將座環(huán)66操作地放置在閥體16中,例如在喉部26處。閥籠30可以操作地放置在座環(huán)66上。流動控制構(gòu)件51可以操作地耦合到隔膜組件40,例如通過將隔膜板夾緊到套筒52上的外部環(huán)形肩部57以及重新裝配致動器18。流動控制構(gòu)件51和致動器可以操作地重新附接到閥體16,例如通過將流動控制構(gòu)件51和致動器殼體42的下部插入到在喉部26上方向上延伸的垂直孔中,從而閥盤組件61將操作地與座環(huán)66接合,并且將致動器殼體42耦合到閥蓋25。

以上移除和替換閥內(nèi)件組件20和50的詳細步驟僅是示例性的并且其方法并不限于以上詳細步驟。可以采用步驟的許多其它布置來從調(diào)節(jié)閥10中移除閥內(nèi)件組件20并且采用閥內(nèi)件組件50來替代閥內(nèi)件組件20以便可適當(dāng)?shù)夭僮鳌?/p>

附圖中所示出的以及在本文中詳細描述的示例性布置并非旨在限制本實用新型,而僅被提供為許多可能布置中的一個示例,以使得普通技術(shù)人員能夠制造和使用本實用新型。在本文所附的權(quán)利要求的范圍內(nèi),預(yù)期了本實用新型的另外的布置、特征的組合、和/或優(yōu)勢。

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