1.一種密封環(huán)套件，其特征在于，包括相配套的密封環(huán)和密封施壓環(huán)；其中，
所述密封環(huán)整體呈圓環(huán)狀，具有相對(duì)的第一端面和第二端面，在所述第一端面和第二端面向內(nèi)分別形成有凹槽；所述凹槽具有光潔度滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的相對(duì)的外側(cè)壁面和內(nèi)側(cè)壁面，所述凹槽的深度大于所述密封施壓環(huán)能夠潛入的深度；
所述密封施壓環(huán)整體呈圓環(huán)狀，其設(shè)置有與所述密封環(huán)的凹槽相配合的配合部，在所述配合部上形成有與所述外側(cè)壁面配合的第一配合面，及與所述第一配合面相對(duì)的用于和所述內(nèi)側(cè)壁面配合的第二配合面，所述第一配合面與所述外側(cè)壁面配合后能形成至少一道線密封和一道面密封，所述第二配合面與所述內(nèi)側(cè)壁面配合后能形成多道線密封。
2.如權(quán)利要求1所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述凹槽的深度大于所述密封施壓環(huán)能夠潛入的深度的2毫米至4毫米。
3.如權(quán)利要求1所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述密封環(huán)的內(nèi)側(cè)壁面向內(nèi)傾斜，其與垂直于所述密封環(huán)的軸向的縱面之間形成有第一夾角，所述第一夾角的角度為7度至13度。
4.如權(quán)利要求1所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述內(nèi)側(cè)壁面的光潔度為9級(jí)以上，所述外側(cè)壁面的光潔度為7級(jí)以上。
5.如權(quán)利要求3所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述密封施壓環(huán)的配合部的截面積自內(nèi)向外逐漸縮小，所述第一配合面與所述第二配合面相交于所述密封施壓環(huán)的最大外徑處。
6.如權(quán)利要求5所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述第二配合面與所述密封施壓環(huán)的軸向垂直的縱面之間形成有第二夾角，所述第二配合面上形成有多個(gè)直角階梯。
7.如權(quán)利要求6所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述第一夾角為10度時(shí)，所述第二夾角為12度。
8.如權(quán)利要求7所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述直角階梯的個(gè)數(shù)為3個(gè)，所述第二配合面與所述內(nèi)側(cè)壁面配合后能形成3道至5道線密封。
9.如權(quán)利要求1所述的密封環(huán)套件，其特征在于，所述密封環(huán)的材料為雜質(zhì)總質(zhì)量分?jǐn)?shù)小于0.1%的紫銅。
10.一種高溫高壓釜，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至9任一所述的密封環(huán)套件。
11.如權(quán)利要求10所述的高溫高壓釜，其特征在于，還包括樣品腔室，所述樣品腔室整體呈圓環(huán)狀，所述樣品腔室的外圓環(huán)位置設(shè)置有與所述密封環(huán)的凹槽相配合的配合部；
所述密封環(huán)套件包括：第一密封環(huán)和第二密封環(huán)，以及第一密封施壓環(huán)第二密封施壓環(huán)，
在沿著施壓壓力的作用方向上，所述第一密封施壓環(huán)、第一密封環(huán)、樣品腔室、第二密封環(huán)以及第二密封施壓環(huán)依次配合分布。