本實(shí)用新型涉及一種運(yùn)動(dòng)時(shí)穩(wěn)定性能不變的密封圈，屬于機(jī)械工程領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

密封圈是由一個(gè)或幾個(gè)零件組成的環(huán)形罩，固定在軸承的一個(gè)套圈或墊圈上并與另一套圈或墊圈接觸或形成窄的迷宮間隙，防止?jié)櫥吐┏黾巴馕锴秩?。密封圈現(xiàn)在不僅僅用在工業(yè)領(lǐng)域，在其他領(lǐng)域也有廣泛的應(yīng)用，其廣泛的應(yīng)用在兩個(gè)往返運(yùn)動(dòng)或靜止的物體之間的密封過程中。

密封圈在對(duì)物體進(jìn)行密封時(shí)，當(dāng)被密封物體發(fā)生傾斜或運(yùn)動(dòng)等狀況下，其密封性能會(huì)比正常狀態(tài)大大降低甚至失去密封性能，而且一般無法承受高壓狀態(tài)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是針對(duì)以上不足，提供一種運(yùn)動(dòng)時(shí)穩(wěn)定性能不變的密封圈，具有被密封物發(fā)生運(yùn)動(dòng)時(shí)能夠保持良好的密封性、被密封物發(fā)生傾斜等現(xiàn)象時(shí)仍可保持良好的密封性和具有很好的抗壓性能的優(yōu)點(diǎn)。

為解決以上技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種運(yùn)動(dòng)時(shí)穩(wěn)定性能不變的密封圈，包括第一密封環(huán)，所述第一密封環(huán)包括上環(huán)體和下環(huán)體；

所述上環(huán)體上設(shè)有若干條第一溝槽；

所述第一溝槽的槽底呈波狀；

所述第一溝槽的槽底處設(shè)有若干個(gè)凹陷和若干個(gè)凸起；

所述凹陷呈圓弧狀；

所述凸起呈圓弧狀；

所述凹陷的弧形成的圓的半徑小于凸起的弧形成的圓的半徑；

所述相鄰的凹陷和凸起的弧形成的圓相切；

所述下環(huán)體上設(shè)有第二溝槽，第二溝槽呈波形環(huán)狀；

所述第二溝槽的截面形狀為長(zhǎng)方形；

所述第二溝槽上設(shè)有三個(gè)遠(yuǎn)點(diǎn)和三個(gè)近點(diǎn)；

所述遠(yuǎn)點(diǎn)設(shè)在遠(yuǎn)離下環(huán)體軸線的一端；

所述近點(diǎn)設(shè)在靠近下環(huán)體軸線的一端；

所述遠(yuǎn)點(diǎn)和距離最遠(yuǎn)的近點(diǎn)沿下環(huán)體的軸線對(duì)稱分布。

以下是對(duì)上述方案的進(jìn)一步優(yōu)化：

所述若干條第一溝槽均勻分布在上環(huán)體的外表面；

所述第一溝槽為環(huán)形槽；

所述第一溝槽的截面呈長(zhǎng)方形；

所述第一溝槽的軸線與上環(huán)體的軸線重合；

所述上環(huán)體的外部套接有第二密封環(huán)；

所述第二密封環(huán)的外徑與下環(huán)體的外徑相等；

所述第二密封環(huán)的外徑大于上環(huán)體的外徑。

所述第二密封環(huán)的內(nèi)表面上設(shè)有若干組定位裝置；

所述若干組定位裝置與若干條第一溝槽一一對(duì)應(yīng)；

所述定位裝置包括四個(gè)第一定位塊；

所述四個(gè)第一定位塊呈十字狀分布；

所述第一定位塊的形狀為半橢圓球；

所述第一定位塊的短軸長(zhǎng)度與第一溝槽的槽寬相等；

所述第一定位塊的長(zhǎng)度與凹陷處的槽深相等。

所述第二密封環(huán)的下表面上設(shè)有兩個(gè)第二定位塊；

所述兩個(gè)第二定位塊沿第二密封環(huán)的軸線對(duì)稱分布；

所述第二定位塊的形狀為半橢圓形；

所述第二定位塊插入到第二溝槽中；

所述第二定位塊的長(zhǎng)度與第二溝槽的槽深相等。

本實(shí)用新型的創(chuàng)新點(diǎn)及意義為：本實(shí)用新型裝置可用于對(duì)物體的密封，尤其是對(duì)被密封物發(fā)生運(yùn)動(dòng)時(shí)能夠保持良好的密封性，密封性能提高70%以上；在被密封物發(fā)生傾斜等現(xiàn)象時(shí)仍可保持良好的密封性；具有很好的抗壓性能，抗壓性能提高20%以上。

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。

附圖說明

附圖1是本實(shí)用新型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖2是附圖1的A-A剖視圖；

附圖3是第一密封環(huán)沿第一溝槽的槽底所在平面為截面的剖視圖；

圖中，

1-第一密封環(huán)，2-第二密封環(huán)，3-下環(huán)體，4-上環(huán)體，5-第一溝槽，6-第一定位塊，7-凹陷，8-凸起，9-第二溝槽，10-遠(yuǎn)點(diǎn)，11-近點(diǎn)，12-第二定位塊。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例，如附圖1、附圖2、附圖3所示，一種運(yùn)動(dòng)時(shí)穩(wěn)定性能不變的密封圈，包括第一密封環(huán)1，第一密封環(huán)1包括下環(huán)體3和上環(huán)體4；

下環(huán)體3的外徑大于上環(huán)體4的外徑；

上環(huán)體4的外部套接有第二密封環(huán)2；

第二密封環(huán)2的外徑與下環(huán)體3的外徑相等。

上環(huán)體4上設(shè)有若干條第一溝槽5；

若干條第一溝槽5均勻分布在上環(huán)體4的外表面；

第一溝槽5為環(huán)形槽；

第一溝槽5的軸線與上環(huán)體4的軸線重合；

第一溝槽5的截面呈長(zhǎng)方形；

第一溝槽5的槽底呈波狀；

第一溝槽5的槽底處設(shè)有若干個(gè)凹陷7和若干個(gè)凸起8；

凹陷7和凸起8的數(shù)量相等；

凹陷7呈圓弧狀；

凸起8呈圓弧狀；

凹陷7的弧形成的圓的半徑小于凸起8的弧形成的圓的半徑；

相鄰的凹陷7和凸起8的弧形成的圓相切。

下環(huán)體3上設(shè)有第二溝槽9，第二溝槽9呈波形環(huán)狀；

第二溝槽9的截面形狀為長(zhǎng)方形；

第二溝槽9上設(shè)有三個(gè)遠(yuǎn)點(diǎn)10和三個(gè)近點(diǎn)11；

遠(yuǎn)點(diǎn)10設(shè)在遠(yuǎn)離下環(huán)體3軸線的一端；

近點(diǎn)11設(shè)在靠近下環(huán)體3軸線的一端；

遠(yuǎn)點(diǎn)10和距離最遠(yuǎn)的近點(diǎn)11沿下環(huán)體3的軸線對(duì)稱分布。

第二密封環(huán)2的內(nèi)表面上設(shè)有若干組定位裝置；

若干組定位裝置與若干條第一溝槽5一一對(duì)應(yīng)；

定位裝置包括四個(gè)第一定位塊6；

四個(gè)第一定位塊6呈十字狀分布；

第一定位塊6的形狀為半橢圓球；

第一定位塊6的短軸長(zhǎng)度與第一溝槽5的槽寬相等；

第一定位塊6的長(zhǎng)度與凹陷7處的槽深相等。

第二密封環(huán)2的下表面上設(shè)有兩個(gè)第二定位塊12；

兩個(gè)第二定位塊12沿第二密封環(huán)2的軸線對(duì)稱分布；

第二定位塊12的形狀為半橢圓形；

第二定位塊12插入到第二溝槽9中；

第二定位塊12的長(zhǎng)度與第二溝槽9的槽深相等。

本實(shí)用新型裝置可用于對(duì)物體的密封，尤其是對(duì)被密封物發(fā)生運(yùn)動(dòng)時(shí)能夠保持良好的密封性，密封性能提高70%以上；在被密封物發(fā)生傾斜等現(xiàn)象時(shí)仍可保持良好的密封性；具有很好的抗壓性能，抗壓性能提高20%以上。

以上所述為本實(shí)用新型最佳實(shí)施方式的舉例，其中未詳細(xì)述及的部分均為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的公知常識(shí)。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，任何基于本實(shí)用新型的技術(shù)啟示而進(jìn)行的等效變換，也在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。