一種新型螺孔高性能密封墊的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及密封技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種新型螺孔高性能密封墊。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的密封墊多為簡單材料層疊加，普通的材料層疊加在其邊沿和螺孔處造成滲漏等情況，普通結(jié)構(gòu)的密封墊不具有高防漏的功能造成滲漏。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，而提供一種結(jié)構(gòu)簡單、制造成本低、減少滲漏的一種新型螺孔高性能密封墊。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種新型螺孔高性能密封墊，包括有本體、螺孔，所述的本體上設(shè)置有多個螺孔，所述的本體分為內(nèi)側(cè)邊和外側(cè)邊，所述的本體內(nèi)部中間位置設(shè)有紙質(zhì)材料層，所述的中間上表面和下表面為涂膠層，所述的本體最外上下兩層為錫箔層。
[0005]進一步講，所述的本體為圓環(huán)形形體，所述的本體圓環(huán)上設(shè)有六個圓形螺孔。
[0006]進一步講，所述的本體內(nèi)側(cè)邊和外側(cè)邊比其他平整部位高5毫米。
[0007]本發(fā)明所產(chǎn)生的有益效果是:本發(fā)明加強密封墊本體內(nèi)外側(cè)邊沿的厚度，加強螺孔圓環(huán)邊沿的厚度，同等力量的作用下螺孔和內(nèi)外側(cè)邊沿收到的壓力是最大的，第一時間杜絕滲漏的可能性，最外層的錫箔紙也能超強的預防從本體滲漏的情況。
[0008]總的來講本發(fā)明能夠第一時間杜絕高防滲漏的情況，有效減少滲漏率。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明剖面A-A結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為本發(fā)明頂視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖1中，1、本體2、紙質(zhì)材料層3、涂膠層4、錫箔層5、螺孔6、本體內(nèi)側(cè)邊
7、本體外側(cè)邊。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合實施例對本發(fā)明技術(shù)方案進一步說明實施例1
如圖1所示:一種新型螺孔高性能密封墊，包括有本體1、螺孔5，所述的本體I上設(shè)置有多個螺孔5，所述的本體I分為內(nèi)側(cè)邊6和外側(cè)邊7，所述的本體I內(nèi)部中間位置設(shè)有紙質(zhì)材料層2，所述的中間紙質(zhì)材料層2上表面和下表面為涂膠層3，所述的本體I最外上下兩層為錫箔層4。
[0013]進一步講，所述的本體I為圓環(huán)形形體，所述的本體圓環(huán)上設(shè)有六個圓形螺孔5。
[0014]進一步講，所述的本體I內(nèi)側(cè)邊6和外側(cè)邊7比其他平整部位高5毫米。
[0015]本發(fā)明在使用時:本發(fā)明安裝于防滲漏部位，在螺孔處安裝螺釘進行固定，螺孔處和本體內(nèi)側(cè)邊和本體外側(cè)邊受到最強壓力，第一時間杜絕滲漏可能性的發(fā)生。
[0016]總的來說本裝置快捷、方便、防滲漏性能好。
【主權(quán)項】
1.一種新型螺孔高性能密封墊，包括有本體、螺孔，其特征在于:所述的本體上設(shè)置有多個螺孔，所述的本體分為內(nèi)側(cè)邊和外側(cè)邊，所述的本體內(nèi)部中間位置設(shè)有紙質(zhì)材料層，所述的中間上表面和下表面為涂膠層，所述的本體最外上下兩層為錫箔層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型螺孔高性能密封墊，其特征在于:所述的本體為圓環(huán)形形體，所述的本體圓環(huán)上設(shè)有六個圓形螺孔。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型螺孔高性能密封墊，其特征在于:所述的本體內(nèi)側(cè)邊和外側(cè)邊比其他平整部位高5毫米。
【專利摘要】一種新型螺孔高性能密封墊，包括有本體、螺孔，所述的本體上設(shè)置有多個螺孔，所述的本體分為內(nèi)側(cè)邊和外側(cè)邊，所述的本體內(nèi)部中間位置設(shè)有紙質(zhì)材料層，所述的中間上表面和下表面為涂膠層，所述的本體最外上下兩層為錫箔層，所述的本體為圓環(huán)形形體，所述的本體圓環(huán)上設(shè)有六個圓形螺孔，所述的本體內(nèi)側(cè)邊和外側(cè)邊比其他平整部位高5毫米，同等力量下螺孔處和密封墊內(nèi)外邊沿處受到壓力最大，第一時間杜絕滲漏的可能性。
【IPC分類】F16J15/12
【公開號】CN105673853
【申請?zhí)枴緾N201610214555
【發(fā)明人】王根堂
【申請人】長葛市航天密封科技有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2016年4月8日