一種可阻隔x射線泄露的真空法蘭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于一種法蘭連接結(jié)構(gòu)，具體涉及一種可阻隔X射線泄露的真空法.~*.0
【背景技術(shù)】
[0002]大部分電子束加工設(shè)備，都是在真空密閉的環(huán)境下，利用高速運(yùn)動(dòng)的電子的能量作為熱源加熱或者融化金屬的，在工藝過程中，具有很高能量的電子束流轟擊到物質(zhì)表面，由于電子束和金屬作用有X射線產(chǎn)生，當(dāng)電子束功率大于1kW時(shí)，產(chǎn)生的X射線就相當(dāng)可觀，這些X射線很容易從各個(gè)法蘭連接接口處泄露，理論計(jì)算和實(shí)際測量都表明X射線的輻射強(qiáng)度人體的危害相當(dāng)嚴(yán)重。因此，必須采取必要的措施，減低X射線的泄露，我國國標(biāo)規(guī)定的每人每天的安全劑量小于0.05倫琴。當(dāng)前冶金工業(yè)中所使用的電子槍功率已高達(dá)數(shù)百千瓦，甚至幾千千瓦。目前，用于防護(hù)X射線的技術(shù)措施主要為某些最能吸收X射線的物質(zhì)，例如鉛等，將其做成一定厚度的隔板，使X射線通過隔板后的劑量低于容許值，即達(dá)到防護(hù)的目的。再者就是使操作者遠(yuǎn)離X射線源，但這樣就需要有工業(yè)監(jiān)控設(shè)備和遙控裝置等。所以當(dāng)前使用最廣泛的X射線防護(hù)還是鉛板屏蔽。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)而提出的，其目的是提供一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:
[0005]一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，包括通過螺栓連接的左法蘭和右法蘭，左法蘭和右法蘭中心均形成通孔，且左法蘭通孔左側(cè)和右法蘭通孔右側(cè)均連接有管道，所述左法蘭相對右法蘭的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成凸臺和左法蘭散射槽，所述右法蘭相對左法蘭的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成密封圈槽、凹臺和右法蘭散射槽，其中凹臺與凸臺相對應(yīng)，右法蘭散射槽與左法蘭散射槽相對應(yīng)；密封圈置于密封圈槽內(nèi)，且與密封圈槽緊配合。
[0006]所述左法蘭和右法蘭之間的間隙S為l~5mm。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0008]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、成本低廉、容易加工，法蘭接口處X射線的劑量可以達(dá)到安全水平。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]其中:
[0011]I左法蘭2右法蘭
[0012]3密封圈4管道
[0013]5螺栓6凸臺
[0014]7凹臺8左法蘭散射槽
[0015]9右法蘭散射槽10密封圈槽。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合說明書附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭進(jìn)行詳細(xì)說明:
[0017]如圖1所示，一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，包括通過螺栓5連接的左法蘭I和右法蘭2，左法蘭I和右法蘭2中心均形成通孔，且左法蘭I通孔左側(cè)和右法蘭2通孔右側(cè)均連接有管道4，所述左法蘭I相對右法蘭2的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成凸臺6和左法蘭散射槽8，所述右法蘭2相對左法蘭I的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成密封圈槽10、凹臺7和右法蘭散射槽9，其中凹臺7與凸臺6相對應(yīng)，右法蘭散射槽9與左法蘭散射槽8相對應(yīng)；密封圈3置于密封圈槽10內(nèi)，且與密封圈槽10緊配合。
[0018]所述左法蘭I和右法蘭2之間的間隙S為l~5mm。
[0019]左法蘭I通孔左側(cè)和右法蘭2通孔右側(cè)連接的管道4還可替換為真空室作為連接件。
[0020]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、成本低廉、容易加工，法蘭接口處X射線的劑量可以達(dá)到安全水平。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，包括通過螺栓(5)連接的左法蘭(I)和右法蘭(2)，左法蘭(I)和右法蘭(2)中心均形成通孔，且左法蘭(I)通孔左側(cè)和右法蘭(2)通孔右側(cè)均連接有管道(4)，其特征在于:所述左法蘭(I)相對右法蘭(2)的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成凸臺(6 )和左法蘭散射槽(8 )，所述右法蘭(2相對左法蘭(I)的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成密封圈槽(10)、凹臺(7)和右法蘭散射槽(9)，其中凹臺(7)與凸臺(6)相對應(yīng)，右法蘭散射槽(9 )與左法蘭散射槽(8 )相對應(yīng)；密封圈(3 )置于密封圈槽(10 )內(nèi)，且與密封圈槽(10 )緊配合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，其特征在于:所述左法蘭(I)和右法蘭(2)之間的間隙S為l~5mm0
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，包括通過螺栓連接的左法蘭和右法蘭，左法蘭和右法蘭中心均形成通孔，且左法蘭通孔左側(cè)和右法蘭通孔右側(cè)均可連接有管道或真空室，所述左法蘭相對右法蘭的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成凸臺和左法蘭散射槽，所述右法蘭相對左法蘭的一側(cè)自內(nèi)向外分別形成密封圈槽、凹臺和右法蘭散射槽，其中凹臺與凸臺相對應(yīng)，右法蘭散射槽與左法蘭散射槽相對應(yīng)；密封圈置于密封圈槽內(nèi)，且與密封圈槽緊配合。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、成本低廉、容易加工，法蘭接口處X射線的劑量可以達(dá)到安全水平。
【IPC分類】F16B7-18
【公開號】CN204327684
【申請?zhí)枴緾N201420671898
【發(fā)明人】張黎源, 張曉衛(wèi)
【申請人】核工業(yè)理化工程研究院
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2014年11月12日