一種流體分離設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及流體處理領域，更具體而言，涉及一種流體分離設備。
【背景技術】
[0002]連續(xù)流體分離設備作為先進的流體分離技術，比傳統(tǒng)固定床、模擬移動床吸附分離裝置有明顯的優(yōu)勢，專利號為ZL200480026164.6的中國專利公開了一種用于進行化學或物理處理的裝置，該裝置包括固定機架、轉(zhuǎn)臺、閥組件、馬達等，閥組件和轉(zhuǎn)臺連接在同一平面，閥組件密封為平面密封，閥組件被直接安裝到轉(zhuǎn)臺上，轉(zhuǎn)臺圓周處布置有齒或鏈，通過馬達直接驅(qū)動轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)。由于轉(zhuǎn)臺直接在圓周處被驅(qū)動，馬達驅(qū)動容易控制，有利于將閥組件驅(qū)動到正確的位置。
[0003]但是上述方案中，閥組件直接安裝在轉(zhuǎn)臺上的方法，使設備設計安裝過于復雜，并且造價昂貴。為解決該技術問題，專利號為ZL201110159726.6的中國發(fā)明專利公開了一種結(jié)構簡單、成本低廉運行平穩(wěn)的流體接觸設備，將旋轉(zhuǎn)密封閥(即閥組件)包括上下閥盤，上閥盤通過浮動連接裝置與旋轉(zhuǎn)托盤(即轉(zhuǎn)臺)相連，并圍繞中心轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)托盤下方設置一圈環(huán)形立面軌道，環(huán)形立面軌道上均布有導向輪，同時在旋轉(zhuǎn)托盤的外周設有圓弧形狀的固定導軌，通過在固定導軌上滑動的滑輪機構驅(qū)動轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)。
[0004]但是由于設備工作環(huán)境較為惡劣，而轉(zhuǎn)臺和閥組件尺寸較大，轉(zhuǎn)臺啟停較為頻繁，閥組件頻繁改變連通關系，而盤狀的閥組件平面度難以保證，密封困難，因此容易受到外部惡劣環(huán)境的影響導致失效。同時，由于采用圓弧形狀的固定導軌，結(jié)構復雜，轉(zhuǎn)臺驅(qū)動容易發(fā)生故障。
[0005]因此，如何提高閥組件的密封性能和簡化轉(zhuǎn)臺驅(qū)動的結(jié)構是本領域技術人員亟需解決的技術問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種流體分離設備，以解決現(xiàn)有技術中閥組件密封困難以及轉(zhuǎn)臺驅(qū)動結(jié)構復雜的問題。
[0007]為了達到上述目的，本實用新型的解決技術方案是:
[0008]一種流體分離設備，包括主軸、設置于所述主軸上的分配閥、連接在所述分配閥外周的環(huán)形中空盤、設置在所述環(huán)形中空盤上的多個吸附柱以及驅(qū)動所述環(huán)形中空盤繞所述主軸轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，所述分配閥包括下閥板和上閥板，所述下閥板與所述主軸固定連接，所述上閥板與所述主軸轉(zhuǎn)動連接，所述上閥板的外周與所述環(huán)形中空盤的內(nèi)周連接，所述下閥板和上閥板上設有對應的且與所述吸附柱的進口、出口數(shù)量相同的流道通孔，所述下閥板和上閥板的其中之一者上設置有圓形的凹槽，另一者上設置有與所述凹槽匹配的凸臺，所述流道通孔經(jīng)過所述凹槽的底面和凸臺的頂面貫穿所述下閥板和上閥板。
[0009]進一步地，所述凹槽和凸臺之間設置有鑲嵌密封，所述鑲嵌密封位于所述凹槽的底面和所述凸臺的頂面之間。
[0010]進一步地，所述下閥板和上閥板之間設置有轉(zhuǎn)盤軸承，所述上閥板與所述主軸之間設置有滾動軸承，所述上閥板的上方設置有上壓緊裝置，所述下閥板的下方設置有下壓緊裝置。
[0011]進一步地，所述主軸上還設置有圓螺母、止動墊圈、蝶形彈簧，所述止動墊圈、蝶形彈簧位于所述圓螺母與所述上壓緊裝置之間。
[0012]進一步地，所述環(huán)形中空盤的下方設置有支撐滾，所述環(huán)形中空盤包括與所述支撐滾對應的支撐軌道；和/或，所述環(huán)形中空盤的下方設置有導向滾，所述環(huán)形中空盤包括與所述導向滾對應的側(cè)導軌；或，
[0013]所述環(huán)形中空盤的下方設置有支撐軌道，所述環(huán)形中空盤包括與所述支撐軌道對應的支撐滾；和/或，所述環(huán)形中空盤的下方設置有側(cè)導軌，所述環(huán)形中空盤包括與所述側(cè)導軌對應的導向滾。
[0014]進一步地，所述上閥板的外周與所述環(huán)形中空盤的內(nèi)周通過彈性連接裝置連接，所述彈性連接裝置在所述上閥板的圓周方向具有預定變形量；和/或，
[0015]所述流體分離設備還包括支撐所述分配閥的閥座，所述上閥板上的流道通孔通過管道與各吸附柱的進口和出口相連，所述下閥板上的流道通孔通過管道與原始物料進口和出口相連。
[0016]進一步地，所述驅(qū)動裝置通過傳動裝置驅(qū)動所述環(huán)形中空盤轉(zhuǎn)動，所述傳動裝置包括直線導軌及在所述直線導軌上滑動的滑塊，所述驅(qū)動裝置與所述滑塊連接，所述滑塊上連接有活動傳力機構，所述活動傳力機構與所述環(huán)形中空盤配合以驅(qū)動所述環(huán)形中空盤轉(zhuǎn)動。
[0017]進一步地，所述環(huán)形中空盤的外周固定設置有傳動支撐，所述傳動支撐上設置有傳動軸，所述傳動軸上套設有傳動滾筒，所述傳動軸與所述傳動支撐之間可轉(zhuǎn)動連接，和/或，所述傳動軸與所述傳動滾筒之間可轉(zhuǎn)動連接，所述活動傳力機構與所述傳動滾筒配合以驅(qū)動所述環(huán)形中空盤轉(zhuǎn)動。
[0018]進一步地，所述傳動裝置上設置有前限位裝置及后限位裝置，所述活動傳力機構與所述前限位裝置及后限位裝置配合以限定所述活動傳力機構的行程。
[0019]進一步地，所述驅(qū)動裝置為電動推桿、液壓缸、氣缸或曲柄連桿機構。
[0020]根據(jù)本實用新型提出的流體分離設備，包括主軸、設置于主軸上的分配閥、連接在分配閥外周的環(huán)形中空盤、設置在環(huán)形中空盤上的多個吸附柱以及驅(qū)動環(huán)形中空盤繞主軸轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，分配閥包括下閥板和上閥板，下閥板與主軸固定連接，上閥板與主軸轉(zhuǎn)動連接，上閥板的外周與環(huán)形中空盤的內(nèi)周連接，下閥板和上閥板上設有對應的且與吸附柱的進口、出口數(shù)量相同的流道通孔，下閥板和上閥板的其中之一者上設置有圓形的凹槽，另一者上設置有與凹槽匹配的凸臺，流道通孔經(jīng)過凹槽的底面和凸臺的頂面貫穿下閥板和上閥板。通過凹槽與凸臺的配合，一方面，平面密封的面積大幅度減少，環(huán)境中的灰塵等雜物不易進入分配閥，從而提高了分配閥的密封性能，確保密封不變形，密封材料不和外界接觸而不被外界可能惡劣的環(huán)境影響，確保密封的穩(wěn)定性和使用壽命；另一方面，下閥板和上閥板階梯裝配，環(huán)形中空盤作用到上閥板上作用力可以一部分傳遞到下閥板上，從而降低對主軸與上閥板之間的磨損，提高主軸壽命的同時，使分配閥不易失效。
【附圖說明】
[0021]圖1為本實用新型一種流體分離設備的主視圖；
[0022]圖2為圖1中流體分離設備的俯視圖；
[0023]圖3為圖1中流體分離設備的傳動滾筒示意圖；
[0024]圖4為圖1中流體分離設備的傳動裝置示意圖；
[0025]標號說明:
[0026]I支撐基礎、2導向滾、3側(cè)導軌、4支撐滾、5支撐軌道、6環(huán)形中空盤、7吸附柱、8閥座、9下閥板、10上閥板、11轉(zhuǎn)盤軸承、12連接裝置、13滾動軸承、14圓螺母、15主軸、16管道、17上壓緊裝置、18鑲嵌密封、19下壓緊裝置、20傳動軸、21傳動支撐、22傳動滾筒、23傳動裝置、24驅(qū)動裝置、25直線導軌、26前限位裝置、27后限位裝置、28滑塊、29活動傳力機構、30流道通孔。
【具體實施方式】
[0027]為了能夠更清楚地理解本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本實用新型進行進一步的詳細描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0028]參見圖1-4，本實用新型提出的一種流體分離設備，包括主軸15、設置于主軸15上的分配閥、連接在分配閥外周的環(huán)形中空盤6、設置在環(huán)形中空盤6上的多個吸附柱7以及驅(qū)動環(huán)形中空盤6繞主軸15轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置24，裝配時，主軸15可以直接固定在支撐基礎I上，也可以通過閥座8固定在支撐基礎1，閥座8可以支撐主軸15及分配閥，分配閥包括下閥板9和上閥板10，下閥板9與主軸15固定連接，該固定連接可以是直接固定或間接固定，上閥板10可轉(zhuǎn)動設置在主軸15上，即上閥板10與主軸15轉(zhuǎn)動連接，同時，上閥板10的外周與環(huán)形中空盤6的內(nèi)周連接，可以理解，驅(qū)動裝置24驅(qū)動環(huán)形中空盤6繞主軸15轉(zhuǎn)動的同時，也會帶動上閥板10的轉(zhuǎn)動，下閥板9和上閥板10上設有對應的且與吸附柱7的進口、出口數(shù)量相同的流道通孔30，該流道通孔30沿下閥板9和上閥板10的圓周均勻布置，上閥板10上的流道通孔30通過管道16與各吸附柱7的進口和出口相連，下閥板9上的流道通孔30通過管道16與原始物料的I……N進口和I……M出口相連(M和N為整數(shù))。與現(xiàn)有技術不同的是，該實施例的流體分離設備，其下閥板9和上閥板10的其中之一者上設置有圓形的凹槽，另一者上設置有與凹槽匹配的凸臺，具體地，可以在上閥板10上設置圓形的凹槽，下閥板9上設置圓形的凸臺，凹槽與凸臺匹配，并在分配閥裝配后凹槽與凸臺配合，使下閥板9和上閥板10形成一種鑲嵌或階梯接觸，流道通孔30經(jīng)過凹槽的底面和凸臺的頂面貫穿下閥板9和上閥板10，如圖1所示，流道通孔30自下而上從下閥板9的下平面、凸臺的頂面、凹槽的底面、上閥板10的上平面依次貫穿。通過使下閥板9和上閥板10形成鑲嵌或階梯接觸，一方面，平面密封的面積大幅度減少，環(huán)境中的灰塵等雜物不易進入分配閥，尤其是階梯接觸部分，從而提高了分配閥的密封性能，確保密封不變形，密封材料不和外界接觸而不被外界可能惡劣的環(huán)境影響，確保密封的穩(wěn)定性和使用壽命；另一方面，下閥板9和上閥板階10梯裝配，環(huán)形中空盤6作用到上閥板10上作用力可以一部分傳遞到下閥板9上，從而降低對主軸15與上閥板10之間的磨損，提高主軸15壽命的同時，使分配閥不易