專利名稱：組織模塊的制作方法
背景技術(shù)：
利用可見光和電子顯微技術(shù)進行透射顯微的有機組織樣品和其它材料的制備一般是這樣進行的，讓樣品經(jīng)受一系列化學處理，最終成為一個放置有樣品的固體塊狀制品。
在常規(guī)的組織制備工藝中，首先用福爾馬林、戊二酸醛或其它能夠防治樣品自變質(zhì)(自降解(self-degradation))的物質(zhì)對組織進行化學固定，讓樣品變硬，并提高其的滲透性，這樣就增強了隨后浸出溶液過程中的滲透作用?；瘜W固定后的滲透步驟是用提高溶劑例如乙醇、二甲苯的濃度逐步替換掉水而將所有的水分從樣品中去除的。滲透后用熔化的石蠟進行處理，然后將樣品冷卻至室溫使其固化。另外，也可將組織用塑料聚合物進行滲透，然后通過加熱、紫外線和其它方式使其硬化。硬化的滲透后的組織放置在模具中并用石蠟或塑料包圍之，制成組織塊。
現(xiàn)行的組織制備工藝已被開發(fā)出用在標準光和電子顯微技術(shù)中，在這種技術(shù)中，從塊體上切下一個樣品的薄的斷面并將其放在玻璃載片或其它支承物上。將組織染色以改善其成像效果，然后在顯微鏡下觀察得出二維圖像。有關(guān)組織三維結(jié)構(gòu)的數(shù)據(jù)是通過測試組織的逐次切片而獲得的。
美國專利4960330描述了一種塊體切片和圖像獲取系統(tǒng)，其中，斷面被從塊體上逐次去除，使用顯微鏡或激光掃描儀將暴露出的塊體表面成像。該方法能夠快速地記錄和儲存結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)而不會耗時，也不會有由于組織斷面逐個處理而帶來的錯誤。但至今很少對用這種設(shè)備和方法觀察并記錄暴露塊表面的可視數(shù)據(jù)的組織塊的最佳幾何造型進行研究。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個方面是一種模塊，它用來保持要被切片和檢測的樣品。模塊包括一個整體上向樣品倉逐漸變細的柄部，樣品就放置在樣品倉中。樣品倉具有斷面的幾何形狀，并且其尺寸和形狀基本上與用來使塊體表面成像的成像設(shè)備的成像區(qū)相對應(yīng)。柄部的形狀適于與將模塊固定到切片設(shè)備上的固定裝置相接合。
本發(fā)明的另一方面是一種模具，它用來制備要被切片和檢測的樣品。模具限定了一個長形空腔，它包括位于近端的一個開口，用來將選定的材料從模具外部引入。近端限定了適于與固定裝置相接合的形狀。模具向遠端逐漸變細，遠端限定了多面體，其尺寸和形狀適合于切片。模具遠端也接近于可用來觀察由該模具制備的組織塊的暴露表面的成像設(shè)備的成像區(qū)的尺寸和形狀。
在本發(fā)明的又一個方面，提供一種制備用來切片和檢測的組織樣品的方法。該方法包括將樣品放置在長形塊體的樣品倉中，該塊體包括一個整體上向樣品倉逐漸變細的柄部，樣品倉具有多邊形截面的幾何形狀和接近于用來觀察樣品的成像設(shè)備的成像區(qū)的尺寸和形狀的暴露表面。然后將長形塊體的柄部與固定裝置的相對的表面接合以將長形塊體固定到切片設(shè)備上，其中，樣品倉布置成使其平直表面對著切片設(shè)備的切割裝置，組織塊的一個斷面切片被去除以將用于檢測的表面暴露出來。
“基本上對應(yīng)于或接近成像設(shè)備的成像區(qū)”的意思是，橫截于塊體長度方向的樣品倉的截面，或者樣品倉的暴露表面接近于用來觀察該表面的成像設(shè)備的成像區(qū)，或者其尺寸和形狀與用來觀察該表面的成像設(shè)備的成像區(qū)相類似。成像區(qū)就是成像裝置能記錄與該表面有關(guān)的數(shù)據(jù)的一個區(qū)域。希望的是，要被觀察的塊體的暴露表面既不比成像區(qū)大很多也不比成像區(qū)小很多。成像裝置提供表面的顯微圖像，也就是說，被成像區(qū)域的實際規(guī)格并不由掃描陣列決定而是由放大光學系統(tǒng)決定。因此，成像區(qū)的大小由放大光學系統(tǒng)決定，而成像區(qū)的形狀由該陣列設(shè)計決定。
本發(fā)明的模具和模塊在對放置的組織樣品進行切片和成像時提供了最佳的性能。樣品倉的規(guī)格能使其圖像質(zhì)量最好。通過使樣品倉的暴露表面基本上與可由成像設(shè)備攝取的區(qū)域相對應(yīng)，使樣品不會延伸到觀察區(qū)的外部(導(dǎo)致不完整的圖像)，也不會使塊表面不能填滿成像區(qū)，從而導(dǎo)致空白區(qū)的無效成像。
另外，樣品倉的幾何形狀與柄部的幾何形狀無關(guān)。因此，可以挑選柄部的幾何形狀以確定樣品倉相對于刃具的位置，從而在塊表面上產(chǎn)生高質(zhì)量的暴露表面。


下面參考附圖對本發(fā)明進行描述，附圖僅用于闡述而不對本發(fā)明構(gòu)成限制。其中圖1是本發(fā)明模具的透視圖；圖2A-C是本發(fā)明三種模塊的透視圖；圖3A-C是模塊柄部的截面圖，該模塊具有與切片設(shè)備的固定裝置接合的多種斷面幾何形狀；圖4是本發(fā)明模具的側(cè)視圖，該模具包括一個螺紋帽；以及圖5是本發(fā)明模具的(a)頂視圖以及(b)底視圖。
具體實施例方式
本發(fā)明的模塊將用在切片設(shè)備例如薄片切片器上，它能從塊體上逐次去除斷面。切片設(shè)備通常包括一個支承著組織塊固定架的往復(fù)棒和一個具有刀刃的刀架。往復(fù)棒使組織固定架(模塊就固定在其上)上下運動并將模塊朝著刀刃送進，以便切下塊上的斷面。當模塊結(jié)合US4960330所描述的自動圖像記錄設(shè)備使用時，從塊體上切下的組織斷面被丟棄，并對塊體的暴露表面進行檢測，該文獻US4960330全文為參考文獻)。切片器位于一個基座上，該基座還支承著用來觀察塊體暴露表面的成像設(shè)備。
本發(fā)明的模塊包括一個柄部，它整體上向一個樣品倉逐漸變細，其中的各個特征專用于特定的目的。參考圖1，模塊10包括一個柄部12，其大小和形狀適合與將塊體固定到用來切片和/或測試的切片儀器上的固定裝置(未示出)相接合。柄部12在過渡區(qū)14向樣品倉16逐漸變細。樣品倉的尺寸和規(guī)格適合將組織樣品定位在其中并在切片儀器(未示出)上切片。樣品倉的大小和形狀也基本上與用于塊體表面測試的成像設(shè)備(未示出)的成像區(qū)相對應(yīng)。柄部12的尺寸和規(guī)格使其能被固定裝置緊緊地保持并為塊體提供機械強度和剛度。為防止在樣品倉的切片期間的彎曲和振動，需要一定的機械強度。
能用于本發(fā)明模塊的成像的典型成像設(shè)備包括區(qū)域陣列(areaarray)和線性電荷耦合裝置(linear charge coupled devices)(CCDs)，CCD是一個提供數(shù)字圖像的探測器。數(shù)字模式允許圖像被計算機處理，該計算機能電子化地修改和復(fù)制它們。與普通的照像方法相比，圖像的電子存儲和編輯提供了很大的優(yōu)勢。
區(qū)域陣列掃描儀的觀察區(qū)是一個由二維像素陣列限定的直線性區(qū)域。限定圖像的像素數(shù)目越大，分辨率就越高。低分辨率區(qū)域陣列CCD的規(guī)格可以是300×600像素，而高分辨率CCDs的規(guī)格可到2000×2000的像素量級。線性CCD掃描儀只有一排像素。隨著掃描儀橫掠樣品的寬度，通過線性CCD(或樣品)的逐步推進就可獲得完整的圖像。在這兩種情況中，成像區(qū)都限定一個直線性區(qū)域。很少使用非直線性的CCDs。
樣品倉的尺寸和形狀是根據(jù)用來從塊體暴露面攝取圖像的成像設(shè)備的類型來選擇的。因此，應(yīng)選擇樣品倉的形狀以避免在成像區(qū)出現(xiàn)空白區(qū)或樣品延伸到成像區(qū)外的情況。因為這樣減少了與組織樣品相對應(yīng)的數(shù)字式數(shù)據(jù)(像素)的量，所以要盡量避免出現(xiàn)這種情況。限定樣品的像素量越大(相比空白區(qū))，分辨率越高。因此，通過最小化成像區(qū)的背景，能改善樣品的成像分辨率。
在一個優(yōu)選實施例中，樣品倉為正方形斷面。在另一個優(yōu)選實施例中，樣品倉為矩形或梯形斷面。在切片時其長邊對著刀具的梯形斷面能形成特別高質(zhì)量的表面。
在一個較差的實施例中，樣品倉可以是圓形的或接近圓形的多邊形。這樣的樣品倉適合用于圓形的組織樣品，以使樣品倉在大小和形狀上與組織樣品緊密配合。因此，可適應(yīng)組織以在成像區(qū)內(nèi)成像的任何形狀都在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
具有各種樣品倉尺寸的模塊顯示在圖3A-C中。對于多數(shù)目的而言，正方形截面或稍微為矩形截面的樣品倉是適當?shù)?。根?jù)組織樣品尺寸和最佳的成像幾何形狀來選擇合適的塊體。例如，一個沖擊出的表皮活體(punch biopsy of the skin)能制成一個直徑約4mm的圓形表皮樣品。一個4.5mm×4.5mm的正方形樣品倉能夠輕易地容納該樣品，同時還基本上與CCD掃描儀的成像區(qū)相對應(yīng)。
當樣品為不規(guī)則形狀時，樣品倉的形狀可以根據(jù)情況選擇。例如，一個前列腺針形活體(prostate needle biopsy)制成一個直徑約1mm而長度約17mm的樣品。用于該組織樣品的優(yōu)選樣品倉也應(yīng)能很好地持有該形狀，例如使用具有寬約2mm而長約20mm的尺寸的矩形斷面。在這種情況下，為產(chǎn)生一個矩形成像區(qū)可以使用線性CCD掃描儀。
盡管從這種細長塊的面上切下的斷面的質(zhì)量可能不是最適合用普通顯微技術(shù)測試，但暴露的切面的質(zhì)量并不受影響。因此，當該模塊結(jié)合US4960330中所述的自動圖像記錄設(shè)備使用時，為獲得高質(zhì)量的成像區(qū)，可以使用以前認為不適于組織成像的多種形狀的樣品倉。
在優(yōu)選實施例中，當安裝在切片設(shè)備上時，樣品倉的平直邊平行于刀、刃或其它切割裝置。因此樣品倉的布置應(yīng)避免讓角(兩個表面的匯合處)對著刀刃，因為這樣的幾何形狀和方向不能使平直邊對著刀刃。也可以理解，不希望表面是不規(guī)則或不整齊的，因為在使用模塊時，它們妨礙了平直邊對著刀刃就位。
因此，希望限定樣品倉的多邊形具有一個在切片時可以平行于刀或刀刃的邊。然而需注意的是，限定樣品倉體積的多面體的表面不需具有相對的平行表面。這在圖4所示的用于制備模塊的模具中很清楚地顯示出來。可以選擇這種不平行的錐形表面使塊體可更容易地從所鑄的模具中取出。
樣品倉可以有與所測試樣品相適應(yīng)的任何規(guī)格。樣品倉的規(guī)格范圍可以從毫米量級例如2mm×2mm大到數(shù)十厘米例如60cm×60cm，而最常用的是一個邊為0.5mm-2cm的范圍。限制因素僅僅是，合適的切片和成像設(shè)備應(yīng)能得到以與本發(fā)明的模塊結(jié)合使用。
模塊的柄部用來將塊體牢固地固定在切片設(shè)備上，并將塊體保持在適于樣品切割和成像的方向上。切片設(shè)備的固定裝置通常具有相對表面，它們能運動以接合和離開模塊的柄部。固定裝置是用來固定一個物體到表面上的任何常規(guī)元件，例如虎鉗、夾鉗、卡扣、緊固件、爪夾、卡盤、固定器等。固定裝置的相對的表面可以是平的或槽形的表面，或者以其它方式改進以接合模塊柄部。
在一個實施例中，如圖3A的柄部的斷面圖中所示的，柄部具有平行的平直表面20、20’，它們與固定裝置的相對的平直表面22、22’接合。在另一個實施例中，如圖3B和3C分別所示，柄部設(shè)計成與一個或兩個槽形表面24、24’接合。在這種情況下，柄部的形狀允許與固定裝置相接合以便牢牢地將塊體固定在設(shè)備上。例如，如圖3B所示，槽形表面可與模塊的角26相接合。槽口可以比柄部小一些，使在固定裝置的上下表面之間有一定的間隔或縫隙。柄部可以是任何形狀，只要具有平直的表面以便能牢固地固定在切片設(shè)備上。圖3C顯示了另一個實施例，它使用兩個相對的槽形表面來接合八角形的軸。然而，本發(fā)明不要求所有的表面都是平的。例如，不與固定裝置接合的表面26可以是曲面。
在優(yōu)選實施例中，柄部為八角形斷面的幾何形狀。更有甚者，柄部為非正則八角形斷面的幾何形狀?！胺钦齽t幾何形狀”是指限定塊體斷面的多邊形的邊長度不等。例如，非正則八角形包括具有交替的短和長邊即4個短邊和4個長邊的八角形。通過選擇非正則多邊形作為柄部的斷面幾何形狀，我們能在其它相當?shù)谋砻嬷g進行區(qū)別。其它的非正則幾何形狀，例如非正則六角形或十角形等全都考慮在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
圖2A-C是本發(fā)明三種模塊的透視圖。每個模塊30包括一個非正則八面體柄部32，它在過渡區(qū)34處逐漸變細，之后成為正方形或矩形的樣品倉36。如圖3A-C所示，樣品倉的尺寸可以在大范圍內(nèi)變化，并且最好是選擇該尺寸以基本上與用于觀測樣品的成像區(qū)的尺寸和形狀相對應(yīng)。
過渡區(qū)中錐體的長度和錐度可以變化，如圖2所示。錐體可以或者朝著使柄部大于樣品倉的方向或者反之?？梢赃x擇錐體使樣品倉和柄部的截面的比值在約4/1-1/20的范圍內(nèi)。在優(yōu)選實施例中，樣品倉與柄部的比值小于1，并且優(yōu)選約1∶10。
在優(yōu)選實施例中，錐體逐漸有利于組織樣品插入樣品倉的尖端。錐角由柄部和過渡區(qū)的表面限定。錐角θ在圖4中顯示。錐角θ最好小于60°并且最好小于45°以及可以小至10°。組織樣品通常是通過重力沉淀或離心作用使該樣品進入模具底部而沉積在模塊的樣品倉中。當錐角較小時，錐體較緩，并且其能減小在放置操作中組織樣品貼在模具的壁上的趨勢。
當使用非正則幾何形狀時，例如是圖2中所示的非正則八面體，當將模塊放置在切片設(shè)備中時應(yīng)保證樣品倉的直邊總是對著刀刃，并保證塊體表面處在用于成像的合適方向。解釋如下，在軸端有八個可能的塊體方向，但是只有樣品倉的四個最佳方向(對于正方形塊體表面)。矩形的塊表面只有兩個最佳方向，并且柄部的幾何形狀可做相應(yīng)的調(diào)整。不希望采用這樣的軸部方向，其使樣品倉成為傾斜方向，其中角對著刀刃，并且塊體表面不與成像區(qū)重合。相反，一個非正則八面體只具有4個與樣品倉的4個方向?qū)?yīng)的相當?shù)姆较颉Ｒ虼?，當將模塊固定在切片設(shè)備中使直邊對著用于切片的刀刃時，可以容易地選定柄部的合適方向。很顯然，非正則多面體的應(yīng)用并不限于圖2所示的八面體模塊。非正則多面體可以用在任何形狀的樣品倉上。例如。非正則十面體軸部可與五面體樣品倉結(jié)合使用。
模塊的長度沒有嚴格限制。一般來說，柄部的長度應(yīng)使得它在夾具或夾鉗中能夠牢固地接合。在優(yōu)選實施例中，柄部沒有從夾具中過多地延伸出來，因為該長度會使模塊在切割時彎曲和斷裂。最好但不是必須的情況是，延伸在夾具之上的柄部的長度不大于樣品倉長度的3-5倍。通常模塊的總長的范圍是2-5厘米。實際長度將取決于模塊的厚度和用來制作模塊的材料。
通過將放置材料引入適當形狀的模具中來制備模塊。模塊可由通常用來制備放置的組織樣品的任何材料制成。例如，石蠟、甘醇甲基丙烯酸脂(glycol methacrylate)、環(huán)氧樹脂。模具可還包括識別裝置，例如標簽或與模具成整體的識別物。
一個示例性的模具顯示在圖4中，圖4是模具40的側(cè)視圖，它包括一個防漏的帽42。盡管帽不是必須的，但如果模具還作為一種運送在固定液體中的樣品的容器時，還是需要的。圖5A和5B分別是模具和帽的頂視圖和底視圖。模具結(jié)合有上面描述的模塊的特征。模具40限定一個長形的空腔44，它包括位于近端46的一個開口，其用來將所選的材料從所述模具外部引入。近端46還限定了尺寸和形狀適于與固定裝置相接合的形狀。模具向遠端48逐漸變細，并且遠端限定了一個大小和形狀適合用于切片的多面體。在優(yōu)選實施例中，模具被攻絲以使帽42能用于蓋住模具。另外，也可使用卡扣式帽或其它防漏的帽。
模具可由任何常規(guī)材料制備，例如聚丙烯、硅酮和聚苯乙烯。材料的選擇部分地受到模具用途的影響。模具可重復(fù)使用或一次性使用。可重復(fù)使用的模具由柔性材料制備，例如硅酮。一次性模具包括在切片時保留在模塊上的模具和從模塊上破壞性地去除的模具。在模具需要去除的情況下，一次性模具最好用容易破裂或撕破的材料制備。適合的材料包括聚丙烯。在切片過程中需要保留模具的情況下，模具最好由剛性的或堅固的適于切割的材料制備。適合的材料包括聚苯乙烯。
使用標準的放置方法將組織樣品放置到模塊中去。因此，例如，首先用標準固定液將組織用化學方法固定以防樣品自變質(zhì)(自降解)，使樣品變硬，并提高其的滲透性，由此增強后來的溶液的滲透作用。然后，通過以提高溶劑例如乙醇和二甲苯的濃度以逐步替換掉水而將水分從樣品中去除。滲透作用之后用融化的石蠟或塑料聚合物進行處理，以制造出硬化的滲透后的組織。前述步驟可在模具或其它適當?shù)娜萜髦羞M行。接著將硬化的滲透后的組織放在模具的樣品倉中并用石蠟或塑料包圍以制成組織塊。
本發(fā)明的組織塊可與任何現(xiàn)行的顯微組織制備技術(shù)結(jié)合使用。例如，本發(fā)明可與名為“組織和其它物質(zhì)的有機組織工藝”的共同待決申請U.S.S.N.09/154430中所述的染色劑和放置聚合物結(jié)合使用，該文獻的全文結(jié)合在此作為參考。
為使模塊成像，將塊體固定到切片設(shè)備上，例如薄片切片器上，并將塊體進行逐次切片。切片設(shè)備通常包括一個支承著組織塊固定架的往復(fù)棒和一個具有刀刃的刀架。往復(fù)棒使組織固定架(模塊就固定在其上)上下運動并將模塊朝著刀刃送進，以便切下塊上的斷面。當模塊結(jié)合US4960330所描述的自動圖像記錄設(shè)備使用時，從塊體上切下的組織斷面被丟棄，并對塊體的暴露表面進行檢測，該文獻US4960330全文均為參考文獻?？筛鶕?jù)常規(guī)裝置獲得圖像，例如使用數(shù)字陣列照相機或其中有線型傳感器掠過塊表面進行掃描的線性CCD。
權(quán)利要求
1.一種模塊，用來保持要被切片和檢測的樣品，其包括一個柄部，該柄部整體上向一個樣品倉逐漸變細，所述樣品就放置在該樣品倉中；樣品倉具有斷面的幾何形狀，并且其尺寸和形狀基本上與成像設(shè)備的成像區(qū)相對應(yīng)，而該柄部具有適合與用于將模塊固定到切片設(shè)備上的固定裝置相接合的形狀，并使得樣品倉處于適合成像的方向。
2.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉為多邊形截面的幾何形狀，并且其尺寸和形狀適于切片。
3.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉的尺寸和形狀與區(qū)域陣列掃描儀的成像區(qū)相對應(yīng)。
4.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉的尺寸和形狀與線性電荷耦合裝置(CCD)掃描儀的成像區(qū)相對應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉和柄部的形狀不同。
6.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉的截面的幾何形狀是矩形。
7.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉的截面的幾何形狀是正方形。
8.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，柄部的形狀能與相對的平行表面接合。
9.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，柄部的形狀能與一平直表面和一相對的槽形表面接合。
10.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，柄部的形狀能與相對的槽形表面接合。
11.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，柄部具有八角形截面的幾何形狀。
12.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，樣品倉直徑與柄部直徑的比值在約4∶1到約1∶20之間的范圍內(nèi)。
13.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，八角形截面的八角形為非正則八角形。
14.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，選擇樣品倉和柄部的相對方向，使得柄部固定在切片設(shè)備上時，樣品倉將平直邊對著刀刃。
15.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，模塊具有小于約60度的錐角。
16.如權(quán)利要求1所述的模塊，其特征在于，模塊具有小于約45度的錐角。
17.一種模具，用來制備要被切片和檢測的樣品，其包括限定了長形空腔的模具，其包括位于近端的一個開口，用來將選定的材料從所述模具外部引入，其中，近端限定了適合與固定裝置相接合的形狀，其中，模具向遠端逐漸變細，該遠端限定一多邊形，其尺寸和形狀基本上與成像設(shè)備的成像區(qū)相對應(yīng)，空腔與多邊形布置成使得遠端處于適合成像的方向。
18.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具是一次性的。
19.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具是可重復(fù)使用的。
20.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具還包括一個位于近端的帽。
21.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的近端和帽加工有螺紋。
22.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，由模具的遠端和近端限定的形狀不同。
23.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具還包括識別裝置。
24.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的遠端限定了矩形的多面體。
25.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的遠端限定了立方體。
26.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的近端限定了能與相對的平行表面相接合的形狀。
27.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的近端限定了能與一平直表面和一相對的槽形表面相接合的形狀。
28.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的近端限定了能與相對的槽形表面相接合的形狀。
29.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具的近端具有八角形截面的幾何形狀。
30.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，八角形截面的八角形為非正則八角形。
31.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具具有小于約60度的錐角。
32.如權(quán)利要求17所述的模具，其特征在于，模具具有小于約45度的錐角。
33.一種制備用于切片和檢測的組織樣品的方法，其包括將樣品放置在長形塊體的樣品倉中，所述塊體包括一個柄部，其整體上向該樣品倉逐漸變細，樣品倉具有多邊形截面的幾何形狀，并且其尺寸和形狀基本上與成像設(shè)備的成像區(qū)相對應(yīng)；使長形塊體的柄部與固定裝置的相對的表面接合以將長形塊體固定到切片設(shè)備上，其中，樣品倉布置成使平直表面對著切片設(shè)備的切割裝置，并使其方向適合成像；以及去掉組織塊的切片，以將表面暴露用來檢測。
34.如權(quán)利要求33所述的方法，其特征在于，組織塊被包在一個模具中。
35.如權(quán)利要求33所述的方法，其特征在于，組織塊作為一個模具包圍的塊被切片。
36.如權(quán)利要求33所述的方法，其還包括使組織塊的暴露表面成像。
全文摘要
一種模塊(10),用來保持要被切片和檢測的樣品,其包括一個柄部(12),它整體上向樣品倉(16)逐漸變細(14),樣品就放置在樣品倉中。樣品倉(16)基本上與成像設(shè)備的成像區(qū)的截面的尺寸和形狀相對應(yīng),并且可以是一個多邊形,例如直線性截面區(qū)域。柄部(12)的形狀適于與將模塊固定到切片設(shè)備上的固定裝置相接合,并使塊體表面處于最佳的成像方向。提供一種用于制備模塊的模具。該模具限定了一個長形的空腔,它包括位于近端的一個開口,用來將選定的材料從模具外部引入。近端限定了尺寸和形狀適于與固定裝置相接合的形狀,而模具向遠端逐漸變細,遠端限定了多面體,其尺寸和形狀適合于切片。
文檔編號G01N21/03GK1346437SQ00805975
公開日2002年4月24日 申請日期2000年4月3日 優(yōu)先權(quán)日1999年4月6日
發(fā)明者R·L·凱施曼 申請人:分析科學公司