專利名稱:滴汞電極裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種極譜儀中使用的滴汞電極裝置。
滴汞電極裝置是極譜儀中使用的一種電極裝置,主要包括支架、安裝在支架上的電極架、安裝在電極架上的毛細(xì)管電極、貯汞瓶、將貯汞瓶與毛細(xì)管電極連通的軟管、電解池和電解池托盤,毛細(xì)管電極的內(nèi)徑大約為0.05毫米。工作過程中,貯汞瓶中的汞經(jīng)過軟管進(jìn)入毛細(xì)管電極中,再經(jīng)過毛細(xì)管電極按照一定的速度一滴一滴地滴入電解池中。極譜儀中使用滴汞電極裝置進(jìn)行分析,除了可以測量水中的鎘以外,還可以測量鉛、銅、鉬、鋇、砷、鉻等幾十種金屬、非金屬和有機(jī)物,并且成本低、操作簡單、重現(xiàn)性好。由于滴汞電極裝置具有上述優(yōu)點(diǎn),在70年代和80年代曾經(jīng)被廣泛使用。但是,使用滴汞電極裝置分析樣品時(shí),毛細(xì)管電極上的汞滴不斷更新,滴在電解池中,分析完樣品后產(chǎn)生大量廢汞,如果不能有效地收集這些廢汞,就會(huì)造成汞污染。如果長時(shí)間不分析樣品,由于汞被氧化,極易將毛細(xì)管電極堵塞。由于汞的比重很大,更換被堵塞的毛細(xì)管電極時(shí),很容易將汞灑到實(shí)驗(yàn)臺上,濺到實(shí)驗(yàn)室中。這樣,一方面浪費(fèi)大量的汞,另一方面使實(shí)驗(yàn)室造成嚴(yán)重的汞污染。為了防止實(shí)驗(yàn)室中的汞蒸氣對分析人員造成危害,一般實(shí)驗(yàn)室都靠近窗戶的下面安裝排風(fēng)扇。雖然排風(fēng)扇可以將部分汞蒸氣排放到室外,但是排放到室外的汞蒸氣又會(huì)造成環(huán)境污染?;谏鲜鲈?,滴汞電極裝置逐漸已經(jīng)被淘汰,取而代之的是分析成本很高的原子吸收法。
本實(shí)用新型的目的是,提供一種在極譜儀上使用的能夠防止汞造成污染的滴汞電極裝置。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的,滴汞電極裝置,包括支架1、電極架2和毛細(xì)管電極3;它的特殊之處是毛細(xì)管電極3的下方具有汞收集器。
支架1用于安裝和支撐其它裝置,電極架2用于安裝毛細(xì)管電極3。毛細(xì)管電極3通過軟管與貯汞瓶連通。汞收集器用于將分析過程中產(chǎn)生的廢汞和更換毛細(xì)管電極3滴落的汞收集起來,防止汞濺出和揮發(fā)。汞收集器具體可以是一個(gè)容器(例如槽體),也可以是一個(gè)容器加上一個(gè)蓋(例如一個(gè)槽體加上一個(gè)蓋)。
本實(shí)用新型的汞收集器包括收集槽4和位于收集槽4上方的漏斗5。
分析過程中產(chǎn)生的廢汞可以直接倒入漏斗5中,更換毛細(xì)管電極3滴落的汞也直接滴入漏斗5中。漏斗5用于接住倒入的廢汞和更換毛細(xì)管電極3時(shí)滴入的汞,既可以防止汞濺出,又可以將汞導(dǎo)入收集槽4中。漏斗5的上部的形狀可以是圓錐形,也可以是棱錐形。收集槽4用于接住漏斗5導(dǎo)入的汞,它應(yīng)當(dāng)能夠防止汞蒸發(fā)。收集槽4只要能夠接住漏斗5導(dǎo)入的汞并防止汞蒸發(fā),可以是各種形狀。一般情況下,漏斗5的上邊緣可以直接將收集槽4的上邊緣封住,漏斗5的下部伸到收集槽4中。
為了分別收集廢汞和可以再使用的汞,本實(shí)用新型的收集槽4共有左右兩只,兩只收集槽4的上方各有一只對應(yīng)的漏斗5。
兩只漏斗5,一只用于倒入分析過程中產(chǎn)生的廢汞,另一只用于接住在更換毛細(xì)管電極3時(shí)滴落的汞。兩只收集槽4,一只用于收集分析過程中產(chǎn)生的廢汞,另一只用于收集更換毛細(xì)管電極3時(shí)滴落的汞。更換毛細(xì)管電極3滴落的汞可以再次用于分析使用。
上述技術(shù)方案中,不管是采用一只收集槽4,還是采用兩只收集槽4,收集槽4都可以為長方體或正方體,它的側(cè)面6上具有汞排除口7,汞排除口7位于側(cè)面6的最低處。
分析過程中,汞排除口7關(guān)閉,分析結(jié)束后,可以打開汞排除口7將收集槽4中收集的汞經(jīng)汞排除口7排出。
為了使收集槽4中收集的汞集中到汞排除口7處,上述技術(shù)方案的收集槽4的底面8的上方還可以具有與底面8成夾角α的導(dǎo)流面9,汞排除口7位于導(dǎo)流面9的最低處。
本實(shí)用新型的底面8不是一個(gè)必須的面,上述技術(shù)方案中的底面8只是為了強(qiáng)調(diào)導(dǎo)流面9與水平面成夾角α而引入的,只要具有導(dǎo)流面9,省去底面8的技術(shù)方案仍在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
本實(shí)用新型的收集槽4的側(cè)面6的上部具有排水口10。
排水口10用于將收集槽4中注滿的水排出,使收集槽4中具有一定量的水,當(dāng)汞進(jìn)入收集槽4中后,沉到底部被水覆蓋。這樣既可以防止汞接觸空氣被氧化,又可以防止汞蒸發(fā)到空氣中。
本實(shí)用新型的漏斗5的上面安裝有隔離罩11,隔離罩11的前面透明,前面或兩個(gè)側(cè)面上具有操作口19。
隔離罩11罩在漏斗5的上面,從而將支架、電極架、毛細(xì)管電極、貯汞瓶、軟管、電解池和電解池托盤等罩在其中,它既可以防止內(nèi)部的汞蒸發(fā)到空氣中,又可以防止更換毛細(xì)管電極時(shí)汞滴灑到實(shí)驗(yàn)臺上。操作口19用于分析人員伸進(jìn)手去操作。隔離罩11的前面用透明材料制造,便于分析人員觀察。
本實(shí)用新型的隔離罩11內(nèi)放置有用于盛放升華硫的器皿12。
器皿12中盛放升華硫,升華硫可以吸收隔離罩11內(nèi)的汞蒸氣。
本實(shí)用新型由于具有汞收集器,可以將分析過程中產(chǎn)生的廢汞和更換毛細(xì)管電極3滴落的汞收集起來,防止汞灑到實(shí)驗(yàn)室中,防止汞蒸氣散發(fā)到空氣中,減小汞污染。本實(shí)用新型的由于具有收集槽4和漏斗5,可以方便地將廢汞倒入漏斗5中,更換毛細(xì)管電極3滴灑的汞滴直接灑在漏斗5中,漏斗5將汞導(dǎo)入收集槽4中。這樣既便于分析人員操作,又能防止汞濺出。本實(shí)用新型的收集槽4中可以注入水,用水覆蓋收集的汞,使汞不能與空氣接觸,既防止汞被氧化,又能防止汞蒸發(fā)到空氣中造成污染。本實(shí)用新型的收集槽4中的導(dǎo)流面9可以使經(jīng)漏斗5進(jìn)入收集槽4中的汞集中到汞排除口7處,便于將收集到的汞排出收集槽4。本實(shí)用新型由于具有隔離罩11,可以進(jìn)一步有效地防止汞灑到實(shí)驗(yàn)室中,防止汞蒸氣散發(fā)到空氣中,使本實(shí)用新型防止汞污染的效果更好。本實(shí)用新型的器皿12中用于盛放升華硫,使分析過程中隔離罩11內(nèi)產(chǎn)生的少量汞蒸氣也被升華硫吸收,最大限度地減小了汞污染。
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖1所示,本實(shí)施例是一種在極譜儀中使用的滴汞電極裝置,它包括支架1、安裝在支架1上的電極架2、安裝在電極架2上的毛細(xì)管電極3、安裝在支架1上的貯汞瓶托盤13、放置在貯汞瓶托盤13上的貯汞瓶14、將貯汞瓶14與毛細(xì)管電極3連通的軟管15、安裝在支架1上的電解池托盤16、放置在電解池托盤16上的電解池17、隔離罩11、器皿12和汞收集器。汞收集器由收集槽4和漏斗5組成。收集槽4分為左右兩只,它們連為一體,中間共用一塊隔板18。兩只收集槽4連在一起成正方體,隔板18從該正方體的中間隔開,將該正方體間隔成兩個(gè)大小相等的長方體收集槽4。每一只收集槽4的側(cè)面6的最低處具有一個(gè)汞排除口7。收集槽4內(nèi)具有一個(gè)與底面8成夾角α的導(dǎo)流面9,α為銳角,汞排除口7位于導(dǎo)流面9的最低處。每一個(gè)收集槽4的側(cè)面6的上部具有一個(gè)排水口10。每一個(gè)收集槽4的上邊緣上都安裝一只漏斗5,漏斗5的邊緣將收集槽4的上邊緣封住。支架1的下端安裝在兩只收集槽4的連接處(隔板18的后端)。兩只漏斗5的上邊緣上共同安裝一只長方體的隔離罩11,隔離罩11的前面具有兩個(gè)圓形的操作口19。隔離罩11采用透明的有機(jī)玻璃制造。隔離罩11內(nèi)放置一只器皿12。
使用時(shí),將器皿12中裝上升華硫放入隔離罩11內(nèi)。關(guān)閉汞排除口7,從漏斗5向收集槽4注滿水。分析人員從隔離罩11的前面的操作口19將手伸到隔離罩11內(nèi)進(jìn)行操作。分析過程中在隔離罩11內(nèi)產(chǎn)生的汞蒸氣被器皿12中的升華硫吸收。分析過程中產(chǎn)生的廢汞和廢液倒在左邊的漏斗5中,左邊的收集槽4中多余的液體從排水口10排出。更換毛細(xì)管電極3滴灑的汞滴入右邊的漏斗5中。汞經(jīng)過漏斗5進(jìn)入收集槽4中,導(dǎo)流面9將汞集中到汞排除口7處。收集槽4中的汞被水覆蓋,可以防止被蒸發(fā)和氧化。不進(jìn)行分析時(shí),可以將電極架2在支架1上向下調(diào)節(jié),使毛細(xì)管電極3的下端浸入右邊收集槽4中的水中,同時(shí)將貯汞瓶14降低,減小汞的壓差,汞滴落速度大大降低,這樣可以防止汞堵塞毛細(xì)管電極3。打開汞排除口7,可以將收集槽4中收集到的汞排出,右邊的收集槽4中排出的汞沒有污染,可以再次用于分析使用。
權(quán)利要求1.滴汞電極裝置,包括支架(1)、電極架(2)和毛細(xì)管電極(3);其特征是毛細(xì)管電極(3)的下方具有汞收集器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滴汞電極裝置,其特征是汞收集器包括收集槽(4)和位于收集槽(4)上方的漏斗(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)共有左右兩只,兩只收集槽(4)的上方各有一只對應(yīng)的漏斗(5)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)為長方體或正方體,它的側(cè)面(6)上具有汞排除口(7),汞排除口(7)位于側(cè)面(6)的最低處。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)的底面(8)的上方具有與底面(8)成夾角(α)的導(dǎo)流面(9),汞排除口(7)位于導(dǎo)流面(9)的最低處。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)的側(cè)面(6)的上部具有排水口(10)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)為長方體或正方體,它的側(cè)面(6)上具有汞排除口(7),汞排除口(7)位于側(cè)面(6)的最低處。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)的底面(8)的上方具有與底面(8)成夾角(α)的導(dǎo)流面(9),汞排除口(7)位于導(dǎo)流面(9)的最低處。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的滴汞電極裝置,其特征是收集槽(4)的側(cè)面(6)的上部具有排水口(10)。
10.根據(jù)權(quán)利要求2、3、4、5、6、7、8或9所述的滴汞電極裝置,其特征是漏斗(5)的上面安裝有隔離罩(11),隔離罩(11)的前面透明,前面或兩個(gè)側(cè)面上具有操作口(19)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滴汞電極裝置,其特征是隔離罩(11)內(nèi)放置有用于盛放升華硫的器皿(12)。
專利摘要本實(shí)用新型是一種極譜儀中使用的滴汞電極裝置,為克服現(xiàn)有的滴汞電極裝置容易造成汞污染的缺點(diǎn),本實(shí)用新型包括支架1、電極架2和毛細(xì)管電極3;毛細(xì)管電極3的下方具有汞收集器。本實(shí)用新型主要用于極譜儀,它可以將分析過程中產(chǎn)生的廢汞和更換毛細(xì)管電極3滴落的汞收集起來,防止汞灑到實(shí)驗(yàn)室中,防止汞蒸氣散發(fā)到實(shí)驗(yàn)室的空氣中,減小汞污染。
文檔編號G01N27/30GK2469450SQ01205988
公開日2002年1月2日 申請日期2001年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月31日
發(fā)明者劉文濤 申請人:劉文濤