專(zhuān)利名稱(chēng)：光照測(cè)試裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光照測(cè)試裝置，特別涉及一種測(cè)試光盤(pán)片對(duì)光照的耐久性的光照測(cè)試裝置。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，使用光盤(pán)片來(lái)儲(chǔ)存資料已經(jīng)是越來(lái)越普及的資料儲(chǔ)存方式，相對(duì)而言，光盤(pán)片的生產(chǎn)量也越來(lái)越大，由此，光盤(pán)片的品質(zhì)便是大量生產(chǎn)的一個(gè)重要指標(biāo)；光盤(pán)片必須經(jīng)過(guò)多項(xiàng)嚴(yán)厲的環(huán)境測(cè)試，才能生產(chǎn)出品質(zhì)優(yōu)良的光盤(pán)片。光盤(pán)片的環(huán)境測(cè)試范圍很廣，例如耐沖擊性、重復(fù)讀寫(xiě)性等，而其中一個(gè)重要的環(huán)境測(cè)試便是光照測(cè)試，其測(cè)試光盤(pán)片對(duì)光照的耐久性(light durability)測(cè)試。
在現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試中，通常僅利用簡(jiǎn)單的光照測(cè)試設(shè)備來(lái)進(jìn)行光盤(pán)片的光照測(cè)試；請(qǐng)參照?qǐng)D1所示，現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試設(shè)備1包括一支撐架11、數(shù)個(gè)光源12以及一承載部13，其中光源12設(shè)置在支撐架11上，并且與承載部13相對(duì)而設(shè)。
承上所述，當(dāng)利用現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試設(shè)備1進(jìn)行光盤(pán)片2的光照測(cè)試時(shí)，光盤(pán)片2設(shè)置于承載部13上，并以光源12發(fā)出的光來(lái)照射光盤(pán)片2。然而，由于支撐架11為一開(kāi)放式的空間，因此在進(jìn)行光照測(cè)試的同時(shí)會(huì)受到光源12以外的環(huán)境光的干擾，例如，放置光照測(cè)試設(shè)備1的測(cè)試房間的燈光、從測(cè)試房間外照射進(jìn)來(lái)的燈光或陽(yáng)光等，均會(huì)影響光照測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。
另外，由于光源12與承載部13相對(duì)而設(shè)，亦即是光源12所發(fā)出的光僅自上方照射承載部13，因此會(huì)造成承載部13上的數(shù)個(gè)光盤(pán)片2接收光照的角度不同，結(jié)果使得各光盤(pán)片2光照的程度不均勻，進(jìn)一步會(huì)影響光照測(cè)試的結(jié)果。
因此，如何提供一種能夠避免環(huán)境光的干擾、以及增加各光盤(pán)片照光的均勻度的光照測(cè)試裝置，實(shí)為目前最需改進(jìn)的課題之一。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述課題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能夠解決環(huán)境光干擾的光照測(cè)試裝置。
本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種能夠提高光盤(pán)片的受光均勻度的光照測(cè)試裝置。
由此，為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型的光照測(cè)試裝置包括一殼體以及數(shù)個(gè)光源。在本實(shí)用新型中，殼體是由數(shù)個(gè)正多邊形的殼面所組成；光源設(shè)置于由殼面所構(gòu)成的密閉空間中，且與待測(cè)試的數(shù)個(gè)光盤(pán)片分別設(shè)置于各殼面上，以用來(lái)進(jìn)行光盤(pán)片的光照測(cè)試。
承上所述，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備具有一密閉空間，可阻擋環(huán)境光，進(jìn)而提升光照測(cè)試的數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性；另外，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備為一正多而體，且于各殼面設(shè)置光源，所以各光盤(pán)片光照程度相同，因而能使光盤(pán)片受到均勻且相等的光照。


圖1為一示意圖，顯示現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試設(shè)備的示意圖；圖2為一示意圖，顯示依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試設(shè)備剖面圖的示意圖；以及圖3為一示意圖，顯示依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試設(shè)備展開(kāi)圖的示意圖。
圖中符號(hào)說(shuō)明1 光照測(cè)試設(shè)備11支撐架12光源13承載部2 光盤(pán)片3 光照測(cè)試裝置31殼面32光源33密閉空間具體實(shí)施方式
以下將參照相關(guān)附圖，說(shuō)明依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試裝置，其中相同的組件將以相同的參照符號(hào)加以說(shuō)明。
請(qǐng)參照?qǐng)D2所示，依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試裝置3包括數(shù)個(gè)正方形殼面31以及數(shù)個(gè)光源32。在本實(shí)施例中，六個(gè)正方形殼面31組成一密閉空間33，且六個(gè)光源32分別設(shè)置于密閉空間33中的六個(gè)正方形殼面31上。需注意者，本實(shí)施例所示的光照測(cè)試裝置3為一正立方體，除此之外，光照測(cè)試裝置3亦可以是其它類(lèi)型的正多面體，例如為正四面體(圖中未顯示)；另外，若光照測(cè)試裝置3為正N面體，且N趨近于無(wú)限大，則光照測(cè)試裝置3為一圓球體。
本實(shí)施例的正方形殼面31可以為一反射面，使光盤(pán)片2不僅接收到光源32的光，更另外吸收到由殼面31所反射的光，以縮短光盤(pán)片2測(cè)試的時(shí)間。此外，正方形殼面31亦可以是吸光面，其能夠吸收光源32所發(fā)出的光，以避免光在密閉空間33中反射，因此能夠使測(cè)試更加穩(wěn)定。
本實(shí)施例的光源32可以是點(diǎn)光源，其能夠縮小光照測(cè)試裝置3的體積，或增加待測(cè)試光盤(pán)片2的數(shù)目。此外，光源32可為日光燈，可仿真日常的環(huán)境光對(duì)光盤(pán)片2的影響；光源32亦可為高能量的紫外光，以便加快光盤(pán)片2的測(cè)試時(shí)間。
為使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易理解，以下將參照?qǐng)D3說(shuō)明依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試設(shè)備3的展開(kāi)圖。
如圖3所示，光照測(cè)試設(shè)備3由六個(gè)正方形殼面31所組成，而各光源32對(duì)稱(chēng)地設(shè)置于各殼面31上，亦即是分別于殼面31中心點(diǎn)上裝置光源32，在本實(shí)施例中其為相等亮度、相同大小的點(diǎn)光源，且將光盤(pán)片2分別放置于和光源32距離相等，且于正方形殼面31的對(duì)角線上(如圖所示)的位置。由于光照測(cè)試設(shè)備3為一正立方體，故各光盤(pán)片2與各光源32的相對(duì)應(yīng)位置與角度皆相同，請(qǐng)參照?qǐng)D2，因此各光盤(pán)片2所接收到來(lái)自各光源32的總光線照射量相同。
綜上所述，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備為一密閉空間，可將環(huán)境光阻擋在殼面外，進(jìn)而能夠提高光照測(cè)試的數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性；另外，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備為一正多面體，且將等亮度的光源設(shè)置于各殼面的中心點(diǎn)上，所以能使光盤(pán)片受到均勻且相等的光照，以便改善光照測(cè)試的準(zhǔn)確性。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本實(shí)用新型的精神與范疇，而對(duì)其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于所述的申請(qǐng)專(zhuān)利范圍中。
權(quán)利要求1.一種光照測(cè)試裝置，其用以測(cè)試數(shù)個(gè)光盤(pán)片，其特征在于，包含一殼體，其由數(shù)個(gè)正多邊形的殼面所構(gòu)成，且具有一密閉空間；以及數(shù)個(gè)光源，其設(shè)置于該密閉空間中，且分別設(shè)置于該等殼面，并面向該密閉空間的一側(cè)面上，而該等光盤(pán)片設(shè)置于該殼面的該側(cè)面上以進(jìn)行光照測(cè)試。
2.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該等光源分別對(duì)稱(chēng)地設(shè)置于該等殼面上。
3.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該等光源具有相等亮度。
4.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各光源為一點(diǎn)光源。
5.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各光源為一日光燈。
6.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各光源為一紫外光源。
7.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各殼面的該側(cè)面為一反射面。
8.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各殼面的該側(cè)面為一吸光面。
9.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該殼體為正多面體。
10.如權(quán)利要求9所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該殼體為正立方體、或圓球體。
專(zhuān)利摘要一種光照測(cè)試裝置，其用以測(cè)試數(shù)個(gè)光盤(pán)片，且包括一殼體及數(shù)個(gè)光源。其中，該殼體是由數(shù)個(gè)正多邊形的殼面所構(gòu)成，且形成一密閉空間；該等光源設(shè)置于密閉空間中，且分別設(shè)置于各殼面，并面向密閉空間的一側(cè)面上，而光盤(pán)片放置于各殼面的側(cè)面上，以便進(jìn)行光盤(pán)片的光照測(cè)試。該實(shí)用新型能夠避免環(huán)境光的干擾、以及增加各光盤(pán)片照光的均勻度的光照測(cè)試裝置，
文檔編號(hào)G01N17/00GK2639878SQ03204819
公開(kāi)日2004年9月8日 申請(qǐng)日期2003年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月28日
發(fā)明者賴(lài)昭平 申請(qǐng)人:精碟科技股份有限公司