專利名稱：用于磁共振成像的工作臺(tái)位置檢測(cè)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
下面的內(nèi)容涉及診斷成像技術(shù)，特別涉及對(duì)磁共振成像(MRI)設(shè)備中所使用的對(duì)象工作臺(tái)或者其它可移動(dòng)的對(duì)象支承裝置的位置的檢測(cè)。不過(guò)，應(yīng)理解的是，本發(fā)明也將在其它類型的診斷成像掃描設(shè)備中獲得應(yīng)用。
背景技術(shù)：
典型地，MRI系統(tǒng)需要位置或者運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，通過(guò)所述控制系統(tǒng)對(duì)象工作臺(tái)上的對(duì)象被傳送進(jìn)入并被定位在成像體積內(nèi)。當(dāng)今的MRI系統(tǒng)為對(duì)象使用支承裝置或者工作臺(tái)。該支承裝置水平穿過(guò)磁體，并由機(jī)動(dòng)化的定位系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)。在圓柱形的磁體中，臺(tái)面以及因此對(duì)象的垂直位置一般是不變的并且相對(duì)于磁體的孔水平地(即軸向地)調(diào)整工作臺(tái)的位置。在垂直場(chǎng)系統(tǒng)中工作臺(tái)/對(duì)象經(jīng)常被垂直和水平地定位。
由于希望控制對(duì)象的位置，一些MRI系統(tǒng)將具有閉環(huán)控制的運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)與連接至除了臺(tái)面之外的部件的反饋設(shè)備結(jié)合。經(jīng)常是與電動(dòng)機(jī)軸、傳動(dòng)小齒輪或者滑輪連接的旋轉(zhuǎn)編碼器控制和推斷工作臺(tái)的位置。其它運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)使用步進(jìn)電機(jī)和開(kāi)環(huán)控制方法。這些運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)通常適于簡(jiǎn)單的對(duì)象定位，并滿足具有固定的床和簡(jiǎn)單的RF線圈的系統(tǒng)產(chǎn)生MRI圖像的需要。
對(duì)于更復(fù)雜的成像應(yīng)用、例如檢測(cè)成像或者是對(duì)象被步進(jìn)或持續(xù)移動(dòng)的應(yīng)用，當(dāng)產(chǎn)生MRI圖像時(shí)機(jī)械和控制系統(tǒng)誤差趨向于導(dǎo)致低級(jí)的位置精度和可重復(fù)性。這些機(jī)械系統(tǒng)誤差可能是由于皮帶伸展、齒輪間隙、零件磨損、機(jī)械連接以及其它使位置精度難以實(shí)現(xiàn)的因素。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明計(jì)劃一種改進(jìn)的克服上述限制以及其它限制的設(shè)備和方法。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的一個(gè)方面，提供一種MRI設(shè)備。該MRI設(shè)備包括用來(lái)在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)的主磁體、多個(gè)用來(lái)在主磁場(chǎng)中產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度的梯度磁體、用來(lái)將射頻信號(hào)發(fā)射到檢查區(qū)域中并在布置于其中的對(duì)象中激發(fā)磁共振的射頻線圈、用來(lái)接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)的射頻線圈、和用來(lái)支承對(duì)象的對(duì)象支承裝置。該MRI設(shè)備還包括用來(lái)控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置的位置控制器和用來(lái)直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置的位置傳感器。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步限定的方面，位置傳感器包括多個(gè)布置在對(duì)象支承裝置和相對(duì)于MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上的刻度尺、和多個(gè)布置在對(duì)象支承裝置和相對(duì)于MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上并且在刻度尺對(duì)面的用來(lái)讀取刻度的讀取頭。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步限定的方面，位置傳感器檢測(cè)對(duì)象支承裝置的絕對(duì)位置。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步限定的方面，由位置傳感器所檢測(cè)出的對(duì)象支承裝置的位置被位置控制器用來(lái)控制對(duì)象支承裝置的位置。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步限定的方面，位置傳感器包括布置在MRI裝置的實(shí)驗(yàn)對(duì)象支承裝置和固定部分中的至少一個(gè)上的傳導(dǎo)條，該傳導(dǎo)條具有一定的長(zhǎng)度并沿該條的長(zhǎng)度具有可變電阻，和布置在對(duì)象支承裝置和MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上并在傳導(dǎo)條對(duì)面的接觸元件，該接觸元件用來(lái)與傳導(dǎo)條電接觸，從而形成一個(gè)電路，該電路具有指示對(duì)象支承裝置的位置的相關(guān)電流。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步限定的方面，位置傳感器包括布置在對(duì)象支承裝置上的目標(biāo)，和布置在相對(duì)于MRI設(shè)備的固定位置上的激光源，激光源用來(lái)將激光束對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)并檢測(cè)由該目標(biāo)所反射的信號(hào)以提供對(duì)象支承裝置的位置的指示。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)方面，提供一種MRI設(shè)備，其包括用來(lái)在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)的主場(chǎng)裝置、用來(lái)在主磁場(chǎng)內(nèi)產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度的梯度裝置、用來(lái)將射頻信號(hào)發(fā)射到檢查區(qū)域中并在布置于其中的對(duì)象中激發(fā)磁共振的射頻發(fā)射裝置、用來(lái)接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)的射頻接收裝置、用來(lái)支承對(duì)象的對(duì)象支承裝置、用來(lái)控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置的位置控制裝置、和用來(lái)直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置的位置檢測(cè)裝置。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步限定的方面，位置檢測(cè)裝置測(cè)量對(duì)象支承裝置相對(duì)于固定參考架的絕對(duì)位置。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)方面，提供一種MRI方法，該方法包括在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)的步驟、在主磁場(chǎng)中產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度的步驟、將射頻信號(hào)發(fā)射到檢查區(qū)域中以在布置于其中的對(duì)象中激發(fā)磁共振的步驟、接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)的步驟、控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置的步驟、和直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置的步驟。
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是它促進(jìn)了MR I系統(tǒng)中的工作臺(tái)/對(duì)象的位置精度。
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是它提供反饋設(shè)備來(lái)將對(duì)象支承裝置的位置直接匯報(bào)給位置控制系統(tǒng)。
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是解決了MRI支承運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)內(nèi)的機(jī)械和電磁滯誤差。
在閱讀了下面對(duì)優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)描述后，許多附加的優(yōu)點(diǎn)和益處對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將變得顯而易見(jiàn)。
本發(fā)明可以具體化為各種部件和部件的各種配置以及各種過(guò)程操作和過(guò)程操作的各種配置。附圖僅用于說(shuō)明優(yōu)選實(shí)施例，并不能被解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。


圖1示出具有可移動(dòng)的對(duì)象支承裝置和用來(lái)直接測(cè)量支承裝置的位置的位置傳感器的磁共振成像設(shè)備的側(cè)視圖；圖2示出位置傳感器的一個(gè)實(shí)施例；圖3示出位置傳感器的刻度尺；圖4示出使用電阻性編碼器的位置傳感器的一個(gè)實(shí)施例；以及圖5示出使用基于激光的編碼器的位置傳感器的一個(gè)實(shí)施例。
具體實(shí)施例方式
參考圖1，MRI設(shè)備10包括圓柱形的主磁體12，其優(yōu)選為超導(dǎo)和冷屏的(cryoshielded)。該主磁體12和殼體13限定了磁體孔14或檢查區(qū)域，其中該主磁體12被布置在該殼體13中，對(duì)象51被放置在該檢查區(qū)域中以便成像。該主磁體12產(chǎn)生沿孔14的縱向(z)軸定向的空間和時(shí)間不變的并且均勻的主磁場(chǎng)。非超導(dǎo)磁體可以用來(lái)代替超導(dǎo)磁體。而且垂直磁體、開(kāi)放磁體或者其它類型的主磁體可以用來(lái)代替所述的水平圓柱形的主磁體12。
MRI設(shè)備還包括磁場(chǎng)梯度線圈，其包括主梯度線圈16和可選地屏蔽梯度線圈18，這些磁場(chǎng)梯度線圈在孔14中協(xié)同產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度，用于空間編碼磁共振信號(hào)、產(chǎn)生擾亂磁化場(chǎng)(magnetication-spoilingfield)梯度等等。優(yōu)選地，磁場(chǎng)梯度線圈包括被配置成在包括橫切X和Y的方向在內(nèi)的三個(gè)正交方向上產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度的線圈。除屏蔽線圈18之外，可選擇的冷屏20為剩余梯度磁場(chǎng)提供高傳導(dǎo)性渦流表面，從而更進(jìn)一步地保護(hù)磁體線圈。
射頻線圈組22、例如整個(gè)體線圈產(chǎn)生用于激發(fā)磁共振的射頻脈沖。射頻線圈組22還可以用于檢測(cè)磁共振信號(hào)。可選擇地，附加的局部射頻線圈或者定相射頻線圈陣列(未示出)可被包括，用來(lái)在孔14中的所定位的區(qū)域上激發(fā)和/或檢測(cè)磁共振。
梯度脈沖放大器30輸送受控電流給磁場(chǎng)梯度線圈16、18以產(chǎn)生所選的磁場(chǎng)梯度。射頻發(fā)射器34、優(yōu)選地?cái)?shù)字射頻發(fā)射器將射頻脈沖或脈沖群施加到射頻線圈組22上以產(chǎn)生所選的磁共振激發(fā)。也與射頻線圈組22耦合的射頻接收器36接收磁共振信號(hào)。如果提供多于一個(gè)的射頻線圈(例如局部線圈或者定相線圈陣列)，那么可以為磁共振激發(fā)和檢測(cè)操作可選地使用不同的線圈。
序列控制器40與梯度放大器30和射頻發(fā)射器34通信以在對(duì)象中產(chǎn)生所選的瞬變或者穩(wěn)態(tài)的磁共振形態(tài)，對(duì)這種磁共振進(jìn)行空間編碼，選擇性地?cái)_亂磁共振或者另外產(chǎn)生表示對(duì)象特征的、選定的磁共振信號(hào)。所產(chǎn)生的磁共振信號(hào)由射頻接收器36檢測(cè)，并存儲(chǔ)在k空間存儲(chǔ)器42中。成像數(shù)據(jù)由重建處理器44重建以產(chǎn)生存儲(chǔ)在圖像存儲(chǔ)器46中的圖像表示。在一個(gè)實(shí)施例中重建處理器44執(zhí)行反傅立葉變換重建。
作為結(jié)果而產(chǎn)生的圖像表示由視頻處理器48處理，然后可以被顯示在用戶界面49上，該用戶界面可以是個(gè)人計(jì)算機(jī)、工作站或者其它類型的計(jì)算機(jī)，并且可以被存儲(chǔ)在其上。用戶界面49還允許操作者與磁共振序列控制器40和位置控制器60通信以選擇磁共振成像序列、修改成像序列、執(zhí)行成像序列和協(xié)議等等?？商鎿Q地，序列控制器與位置控制器通信以使對(duì)象支承裝置的運(yùn)動(dòng)與成像序列一致。
MRI設(shè)備還包括可移動(dòng)的對(duì)象支承裝置52，用來(lái)在檢查區(qū)域內(nèi)移動(dòng)對(duì)象。在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)象支承裝置是有輪的工作臺(tái)或者其它適于與磁共振成像設(shè)備機(jī)械對(duì)接的可移動(dòng)的支承裝置。在另一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)象支承裝置與MRI系統(tǒng)結(jié)合并在其中可移動(dòng)。不管支承裝置的類型，對(duì)象支承裝置是可移動(dòng)的，以便在檢查區(qū)域內(nèi)定位對(duì)象。
支承裝置52的位置由位置控制器60控制。在一個(gè)實(shí)施例中，位置控制器60包括電機(jī)驅(qū)動(dòng)器和與病人支承裝置的聯(lián)接，該位置控制器如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所公知的那樣控制病人支承裝置的位置。替代地，傳動(dòng)小齒輪、滑輪系統(tǒng)、步進(jìn)電機(jī)等等控制工作臺(tái)的位置。
如下面更全面地描述的那樣，MRI設(shè)備還包括位置傳感器或編碼器53，用來(lái)直接檢測(cè)對(duì)象支承裝置相對(duì)于給定參考架的位置。
轉(zhuǎn)向圖2，更詳細(xì)地示出位置傳感器53。在一個(gè)實(shí)施例中，位置傳感器包括布置在對(duì)象支承裝置上的刻度尺54和布置在MRI殼體13上的第一(或者粗略的)以及第二(或者精細(xì)的)讀取頭55、56。
如圖3中所示，刻度尺包括兩組刻度、即第一(或者粗分辨率)組57和第二(或者精細(xì)的分辨率)組58。如還可以從圖3中所示的實(shí)施例中看出，每個(gè)刻度尺的刻度在從左到右的移動(dòng)中是可變地間隔的。例如，就粗略的刻度尺而言，刻度之間的距離沿刻度尺從左到右減小。就精細(xì)的刻度尺而言，對(duì)于粗略的刻度尺的刻度之間的每組刻度，刻度之間的距離從左到右減小。通過(guò)在刻度之間加入這種可變距離，可以監(jiān)控對(duì)象支承裝置的絕對(duì)位置。
在一個(gè)實(shí)施例中，刻度尺由附著在對(duì)象支承裝置上的聚酯膠片帶制成。還可以考慮玻璃帶。
粗略的55和精細(xì)的56讀取頭包括光學(xué)照相機(jī)，該光學(xué)照相機(jī)分別對(duì)準(zhǔn)粗略的57和精細(xì)的58刻度尺。每個(gè)讀取頭包括光學(xué)掩膜，用來(lái)檢測(cè)其各自的刻度尺的刻度，或者記號(hào)標(biāo)記(tick-mark)。相應(yīng)地，當(dāng)刻度尺相對(duì)于讀取頭移動(dòng)時(shí)，讀取頭跟蹤經(jīng)過(guò)讀取頭的刻度的數(shù)量。若給定粗略的和精確的刻度尺的刻度之間的距離，那么對(duì)象支承裝置的絕對(duì)位置可以根據(jù)讀取頭的信號(hào)來(lái)確定。
應(yīng)理解的是，讀取頭可以被布置在對(duì)象支承裝置上，而刻度尺可以被布置在MRI殼體上，并且對(duì)象支承裝置的位置可以如上所述直接被決定。
在另一個(gè)實(shí)施例中，只使用一組刻度和一個(gè)讀取頭。
在如圖4所示的一個(gè)替代實(shí)施例中，采用電阻性的位置編碼器。在這個(gè)實(shí)施例中，沿傳導(dǎo)帶的長(zhǎng)度具有可變電阻的傳導(dǎo)條80被放置在對(duì)象支承裝置上。在例如傳導(dǎo)帶的一端81上施加電壓V1。接觸元件82被布置在MRI殼體上，并與傳導(dǎo)帶電接觸，從而形成具有相關(guān)電流的電路，該相關(guān)電流由安培表83測(cè)量。因此，當(dāng)對(duì)象支承裝置被移動(dòng)時(shí)，測(cè)量到的電流提供對(duì)象支承裝置的位置的指示。可替代地，給電路施加一電流，當(dāng)對(duì)象支承裝置被移動(dòng)時(shí)測(cè)量電壓。
在如圖5所示的另一個(gè)實(shí)施例中，采用基于激光的位置編碼器。在這個(gè)實(shí)施例中，目標(biāo)90被放置在對(duì)象支承裝置上，激光源92對(duì)準(zhǔn)該目標(biāo)。激光源將信號(hào)指向目標(biāo)，信號(hào)被反射回激光源，并由此被檢測(cè)到。信號(hào)從激光源到目標(biāo)再返回激光源的行進(jìn)時(shí)間提供對(duì)象支承裝置的位置的指示。在一個(gè)替代的實(shí)施例中，激光源指向?qū)ο笾С醒b置本身而不是所放置的目標(biāo)。
應(yīng)理解的是，還可以考慮旋轉(zhuǎn)變換器，而不是如上所述的線性變換器。
在操作中，選擇用于使對(duì)象成像的感興趣的區(qū)域和成像協(xié)議的參數(shù)。對(duì)象被放置在對(duì)象支承裝置52上并將感興趣的區(qū)域移動(dòng)到檢查區(qū)域14中，優(yōu)選地移動(dòng)到主磁場(chǎng)的等角點(diǎn)。對(duì)象支承裝置的移動(dòng)由位置控制器60控制，位置傳感器53直接測(cè)量支承裝置52相對(duì)于給定參考架、例如附著在MRI殼體上的參考架的位置。
在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)象支承裝置的位置從位置傳感器53饋送到運(yùn)動(dòng)控制器60以便直接控制由運(yùn)動(dòng)控制器所產(chǎn)生的支承裝置的移動(dòng)。
在另一個(gè)實(shí)施例中，位置傳感器53的輸出與運(yùn)動(dòng)控制器60的目標(biāo)位置進(jìn)行比較，確定兩個(gè)值之間的誤差。然后運(yùn)動(dòng)控制器使用這個(gè)位置誤差信息來(lái)校正誤差。
在另一個(gè)實(shí)施例中，來(lái)自位置編碼器53的位置信息被饋送到重建處理器，用于重建由固定和/或移動(dòng)工作臺(tái)成像協(xié)議產(chǎn)生的圖像。這里，位置數(shù)據(jù)與MRI圖像數(shù)據(jù)配合以便考慮圖像特征的精確測(cè)量。
已參考優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明。明顯地，在閱讀和理解了前面的詳細(xì)描述之后將會(huì)想到許多修改和變換。本發(fā)明應(yīng)被理解為包括所有這些修改和變換，只要它們?cè)谒降臋?quán)利要求或者它的等效物的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種MRI設(shè)備，包括主磁體(12)，用來(lái)在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)；多個(gè)梯度磁體(16)，用來(lái)在主磁場(chǎng)中產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度；射頻線圈(22)，用來(lái)將射頻信號(hào)發(fā)送到檢查區(qū)域中并在布置于其中的對(duì)象中激發(fā)磁共振；射頻線圈，用來(lái)接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)；對(duì)象支承裝置(52)，用來(lái)支承對(duì)象；位置控制器(60)，用來(lái)控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置；以及位置傳感器(53)，用來(lái)直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的MRI設(shè)備，其中位置傳感器包括多個(gè)布置在對(duì)象支承裝置和相對(duì)于MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上的刻度尺(57，58)和多個(gè)布置在對(duì)象支承裝置和相對(duì)于MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上并且在刻度尺對(duì)面用來(lái)讀取刻度尺的讀取頭(55，56)。
3.如權(quán)利要求2所述的MRI設(shè)備，其中位置傳感器檢測(cè)對(duì)象支承裝置的絕對(duì)位置。
4.如權(quán)利要求2所述的MRI設(shè)備，其中由位置傳感器檢測(cè)到的對(duì)象支承裝置的位置被位置控制器用來(lái)控制對(duì)象支承裝置的位置。
5.如權(quán)利要求1所述的MRI設(shè)備，其中位置傳感器包括傳導(dǎo)條，布置在MRI設(shè)備的對(duì)象支承裝置和固定部分中的至少一個(gè)上，所述傳導(dǎo)條具有一定的長(zhǎng)度并沿傳導(dǎo)條的該長(zhǎng)度具有可變電阻；以及接觸元件，布置在MRI設(shè)備的對(duì)象支承裝置和固定部分中的至少一個(gè)上并在傳導(dǎo)條對(duì)面，該接觸元件用來(lái)與傳導(dǎo)條電接觸，從而形成一個(gè)電路，該電路具有指示對(duì)象支承裝置的位置的相關(guān)電流。
6.如權(quán)利要求1所述的MRI設(shè)備，其中位置傳感器包括布置在對(duì)象支承裝置上的目標(biāo)；以及激光源，布置在相對(duì)于MRI設(shè)備的固定位置上，該激光源用來(lái)將激光束對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)并檢測(cè)由該目標(biāo)所反射的信號(hào)以提供對(duì)象支承裝置的位置的指示。
7.一種MRI設(shè)備，包括主場(chǎng)裝置，用來(lái)在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)；梯度裝置，用來(lái)在主磁場(chǎng)中產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度；射頻發(fā)射裝置，用來(lái)將射頻信號(hào)發(fā)送到檢查區(qū)域中并在布置于其中的對(duì)象中激發(fā)磁共振；射頻接收裝置，用來(lái)接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)；對(duì)象支承裝置，用來(lái)支承對(duì)象；位置控制裝置，用來(lái)控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置；以及位置檢測(cè)裝置，用來(lái)直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置。
8.如權(quán)利要求8所述的MRI設(shè)備，其中位置檢測(cè)裝置測(cè)量對(duì)象支承裝置相對(duì)于固定的參考架的絕對(duì)位置。
9.如權(quán)利要求8所述的MRI設(shè)備，其中位置檢測(cè)裝置包括多個(gè)布置在對(duì)象支承裝置和相對(duì)于MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上的刻度尺(57，58)，和多個(gè)布置在對(duì)象支承裝置和相對(duì)于MRI設(shè)備的固定部分中的至少一個(gè)上并且在刻度尺對(duì)面用來(lái)讀取刻度尺的讀取頭(55，56)。
10.如權(quán)利要求7所述的MRI設(shè)備，其中由位置檢測(cè)裝置所測(cè)量的對(duì)象支承裝置的位置被位置控制裝置用來(lái)控制對(duì)象支承裝置的位置。
11.如權(quán)利要求7所述的MRI設(shè)備，其中位置檢測(cè)裝置包括傳導(dǎo)條，布置在MRI設(shè)備的對(duì)象支承裝置和固定部分中的至少一個(gè)上，該傳導(dǎo)條具有一定的長(zhǎng)度并沿該傳導(dǎo)條的長(zhǎng)度具有可變電阻；以及接觸元件，布置在MRI設(shè)備的對(duì)象支承裝置和固定部分中的至少一個(gè)上并與傳導(dǎo)條相對(duì)，該接觸元件用來(lái)與傳導(dǎo)條電接觸，從而形成一個(gè)電路，該電路具有指示對(duì)象支承裝置的位置的相關(guān)電流。
12.如權(quán)利要求7所述的MRI設(shè)備，其中位置檢測(cè)裝置包括布置在對(duì)象支承裝置上的目標(biāo)；以及激光源，布置在相對(duì)于MRI設(shè)備的固定位置上，該激光源用來(lái)將激光束對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)并檢測(cè)由該目標(biāo)所反射的信號(hào)以提供對(duì)象支承裝置的位置的指示。
13.一種MRI方法，包括步驟在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)；在主磁場(chǎng)中產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度；將射頻信號(hào)發(fā)送到檢查區(qū)域中，用來(lái)在布置于其中的對(duì)象中激發(fā)磁共振；接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)；控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置；以及直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置。
14.如權(quán)利要求13所述的MRI方法，其中直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置的步驟包括測(cè)量對(duì)象支承裝置相對(duì)于固定的參考架的絕對(duì)位置。
15.如權(quán)利要求13所述的MRI方法，其中控制對(duì)象支承裝置的位置的步驟包括使用對(duì)象支承裝置的位置的直接測(cè)量結(jié)果。
全文摘要
提供一種MRI設(shè)備。該MRI設(shè)備包括用來(lái)在檢查區(qū)域中產(chǎn)生主磁場(chǎng)的主磁體(12)、用來(lái)在主磁場(chǎng)中產(chǎn)生磁場(chǎng)梯度的多個(gè)梯度磁體(16)、用來(lái)將射頻信號(hào)發(fā)送到檢查區(qū)域中并在布置于其中的對(duì)象內(nèi)激發(fā)磁共振的射頻線圈(22)、和用來(lái)接收來(lái)自對(duì)象的磁共振信號(hào)的射頻線圈。該MRI設(shè)備還包括用來(lái)支承對(duì)象的對(duì)象支承裝置(52)、用來(lái)控制對(duì)象支承裝置在檢查區(qū)域內(nèi)的位置的位置控制器(60)和用來(lái)直接測(cè)量對(duì)象支承裝置的位置的位置編碼器(53)。
文檔編號(hào)G01R33/28GK1816753SQ200480018544
公開(kāi)日2006年8月9日 申請(qǐng)日期2004年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月30日
發(fā)明者B·W·佩托特, G·D·德米斯特, W·H·阿莫爾 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司