專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)部件的缺陷檢測(cè)方法和缺陷檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法和缺陷檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
圖24是示出第1已有技術(shù)的透明襯底的缺陷檢測(cè)裝置1的立體圖。日本國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)平11-190700號(hào)公報(bào)記述第1已有技術(shù)。激光器2向鏡3出射激光2a。鏡3將來(lái)自激光器2的激光2a引導(dǎo)到匯聚透鏡4。匯聚透鏡4將來(lái)自鏡3的激光引導(dǎo)到透明襯底5。入射到透明襯底的光在透明襯底5的厚度方向的兩個(gè)端面重復(fù)反射。透明襯底5有缺陷時(shí)，缺陷引起光散射、并且散射的光向透明襯底5的外方出射。成像透鏡6將出射到外方的光引導(dǎo)到CCD(電荷耦合器件)7。CCD7根據(jù)接收的光的光量判斷是否有缺陷。作為第2已有技術(shù)，日本國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)2001-305072號(hào)公報(bào)記述與專(zhuān)利公開(kāi)平11-190700號(hào)公報(bào)的技術(shù)相似的技術(shù)。
圖25是示出成為缺陷檢查對(duì)象的光學(xué)部件8的主視圖。如圖25所示，層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件8在第1已有技術(shù)那樣入射激光時(shí)，控制入射位置，使由檢查對(duì)象層8a入射較多激光。檢查對(duì)象層8a的厚度t極薄(例如為10μm～20μm左右)時(shí)，為了在光學(xué)部件8的端面上僅對(duì)檢查對(duì)象層8導(dǎo)入激光，需要用與厚度t大致相同的精度進(jìn)行檢查對(duì)象層8a與激光的定位。如圖25所示，將激光照射區(qū)9定位在檢查對(duì)象層8a內(nèi)，導(dǎo)入較多的光，對(duì)缺陷檢查較佳，但受厚度t限制，需要定位精度高。
第3已有技術(shù)的疊層型偏振光元件缺陷檢測(cè)裝置在厚度方向重疊多個(gè)疊層型偏振光元件，使其偏振方向不同，形成消光狀態(tài)。將光照射到該多個(gè)疊層型偏振光元件，根據(jù)照射的光的泄漏光量判斷疊層型偏振光元件是否有缺陷。
第1已有技術(shù)那樣將光入射到具有多層的光學(xué)部件時(shí)，入射的光在與相鄰的其它層的界面之間受到重復(fù)反射。因此，入射的光以每層分別受到劃分的方式在光學(xué)部件內(nèi)行進(jìn)。劃分的光一面在與相鄰的層的界面反射，一面分別在各層內(nèi)行進(jìn)。具有多層的光學(xué)部件與單層的光學(xué)部件相比，光入射的界面區(qū)較寬。因此，具有多層的光學(xué)部件與單層的光學(xué)部件相比，界面引起的散射光的光量較大。具有多層的光學(xué)部件由于具有散射光光量大的特性，光學(xué)部件無(wú)缺陷時(shí)與光學(xué)部件有缺陷時(shí)從光學(xué)部件出射的光量之差小。
構(gòu)成光學(xué)部件的層數(shù)隨著其功能提高而變多、并且使用薄層。此情況下，導(dǎo)光的層增多，因而光向多層的劃分增強(qiáng)，缺陷造成的散射強(qiáng)度本身降低。這又使對(duì)非缺陷引起的散射的相對(duì)強(qiáng)度下降，檢測(cè)靈敏度也降低與其相當(dāng)?shù)姆蓊~。以多層劃分方式進(jìn)行導(dǎo)光時(shí)，層單體光吸收率高的層也導(dǎo)光，導(dǎo)致整個(gè)導(dǎo)光的光量減小，而且產(chǎn)生層單體擴(kuò)散性引起的衰減造成的光量減小。這些光量本身減小的因素又使檢測(cè)靈敏度降低。因此，用第1已有技術(shù)的缺陷檢測(cè)裝置檢測(cè)缺陷有困難、并且形成層疊的層薄、層數(shù)增多的結(jié)構(gòu)時(shí)，難度進(jìn)一步加大。
疊層型偏振光元件(層疊不同原料并使特定方向的偏振光透射的光元件)有的粘貼具有透射性的保護(hù)片，以保護(hù)表面。如第3已有技術(shù)那樣檢測(cè)缺陷，將這種疊層型偏振光元件在厚度方向重疊，并對(duì)重疊的疊層型偏振光元件照射光時(shí)，從保護(hù)片出射光。因此，無(wú)缺陷時(shí)也從保護(hù)片出射光，所以不能明確判別有缺陷時(shí)和無(wú)缺陷時(shí)的光出射狀態(tài)，不能高精度檢測(cè)疊層型偏振光元件的缺陷。疊層型偏振光元件中也層疊多個(gè)折射率不同的原料，因而第1已有技術(shù)那樣入射光時(shí)，如上文所述，光的散射大，使檢測(cè)缺陷的精度降低。
發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種不高精度定位光學(xué)部件和檢測(cè)用的光的入射處、也能檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法和缺陷檢測(cè)裝置。
本發(fā)明的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，是對(duì)層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件從與疊層方向交叉的方向的端面入射檢測(cè)用的光，并檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，以檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷的方法，使檢測(cè)用的光的入射方式為入射檢測(cè)用的光的端面上的檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸大于檢測(cè)缺陷的層的厚度、并且小于光學(xué)部件在疊層方向的尺寸。
按照本發(fā)明，使檢測(cè)用的光以檢測(cè)用的光的入射區(qū)的疊層方向的尺寸大于檢測(cè)缺陷的層的厚度的方式入射。這樣，即使檢測(cè)用的光的入射處的定位精度低，也能入射到檢測(cè)缺陷的層。又使檢測(cè)用的光以檢測(cè)用的光的入射區(qū)的疊層方向的尺寸小于光學(xué)部件在疊層方向的尺寸的方式入射。這樣，能防止例如灰塵或傷痕等光學(xué)部件的疊層方向兩端面的散射因素使檢測(cè)用的光散射。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷。
本發(fā)明控制檢測(cè)用的光的波長(zhǎng)和匯聚檢測(cè)用的光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑，使檢測(cè)用的光入射。
按照本發(fā)明，控制檢測(cè)用的光的波長(zhǎng)和匯聚檢測(cè)用的光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這樣，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
本發(fā)明控制匯聚檢測(cè)用的光的光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，使檢測(cè)用的光入射。
按照本發(fā)明，控制匯聚檢測(cè)用的光的光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，使檢測(cè)用的光入射。這樣，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。由于控制光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，能對(duì)多個(gè)光學(xué)部件或構(gòu)成光學(xué)部件的各層分別調(diào)節(jié)入射區(qū)。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
本發(fā)明的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，檢測(cè)層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷，包含向與光學(xué)部件疊層方向交叉的方向的端面出射檢測(cè)用的光的光源、入射檢測(cè)用的光，使入射檢測(cè)用的光的端面上的檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸，大于檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷的層的厚度、并且小于光學(xué)部件在疊層方向的尺寸的入射控制裝置、以及檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光的光檢測(cè)裝置。
按照本發(fā)明，入射控制裝置使入射方式形成入射檢測(cè)用的光的端面上的檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸大于檢測(cè)缺陷的層的厚度。這樣，即使檢測(cè)用的光的入射處的定位精度低，也能入射到預(yù)定的層。輸入控制裝置又使檢測(cè)用的光以小于光學(xué)部件的疊層方向的尺寸的方式入射。這樣，能防止光學(xué)部件的疊層方向兩端面的散射因素使檢測(cè)用的光散射。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷。
本發(fā)明還包含設(shè)在光學(xué)部件與光源之間以匯聚檢測(cè)用的光的匯聚光學(xué)系統(tǒng)、并且輸入控制裝置控制檢測(cè)用的光的波長(zhǎng)和匯聚光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。
按照本發(fā)明，輸入控制裝置控制檢測(cè)用的光的波長(zhǎng)和匯聚光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這樣，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
本發(fā)明輸入裝置控制匯聚光學(xué)系統(tǒng)的位置。
按照本發(fā)明，輸入裝置控制匯聚光學(xué)系統(tǒng)的位置。這樣，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。由于控制匯聚光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，能對(duì)多個(gè)光學(xué)部件或構(gòu)成光學(xué)部件的各層分別調(diào)節(jié)入射區(qū)。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光光入射到光學(xué)部件。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種在層疊的層薄且層數(shù)多的情況下也能高精度檢測(cè)層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法和檢測(cè)裝置。
本發(fā)明的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，是對(duì)層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件從與疊層方向交叉的方向的端面入射檢測(cè)用的光，并檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，以檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷的方法，使檢測(cè)用的光入射到具有的折射率大于在疊層方向兩側(cè)相鄰的2個(gè)層的折射率、并且介于所述相鄰的2個(gè)層之間的層。
按照本發(fā)明，使檢測(cè)用的光入射到折射率大于相鄰2個(gè)層的折射率的層(下文有時(shí)稱(chēng)為“導(dǎo)光層”)。由于導(dǎo)光層的折射率大于相鄰的層的折射率，入射到導(dǎo)光層的光一面在與導(dǎo)光層相鄰的其它層的界面(下文有時(shí)稱(chēng)為“相鄰界面”)上反射，一面行進(jìn)(下文有時(shí)將一面反射一面行進(jìn)稱(chēng)為“導(dǎo)光”)。檢測(cè)用的光不入射到光學(xué)部件中相鄰界面除外的剩余界面。這樣，就沒(méi)有相鄰界面除外的剩余界面引起的散射光，因而由缺陷和相鄰界面引起的散射光組成從光學(xué)部件出射的光。該散射光在光學(xué)部件無(wú)缺陷時(shí)和光學(xué)部件有缺陷時(shí)不同，而且由于沒(méi)有來(lái)自相鄰界面除外的剩余界面的散射光，能可靠地甄別來(lái)自缺陷的散射。
本發(fā)明使檢測(cè)用的光入射到構(gòu)成光學(xué)部件的層中檢測(cè)用的光的光吸收率小的層。
按照本發(fā)明，使檢測(cè)用的光入射到構(gòu)成光學(xué)部件的層中檢測(cè)用的光的光吸收率小的層。由于將進(jìn)行導(dǎo)光的層限定在光吸收率小的層，與單純光導(dǎo)入時(shí)相比，能充分確保檢測(cè)缺陷用的光。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷。
本發(fā)明檢測(cè)用的光的偏振狀態(tài)是線偏振、并且使檢測(cè)用的光以其偏振方向?qū)θ肷錂z測(cè)用的光的層的檢測(cè)用的光的擴(kuò)散方向大致垂直的方式入射。
按照本發(fā)明，使檢測(cè)用的光以其偏振方向?qū)θ肷錂z測(cè)用的光的層的檢測(cè)用的光的擴(kuò)散方向大致垂直的方式入射?？蓪U(kuò)散方向當(dāng)作主要影響光在層內(nèi)的不連續(xù)性的方向，因而通過(guò)入射偏振方向與擴(kuò)散方向垂直的光，導(dǎo)光時(shí)光難以感應(yīng)該不連續(xù)性，能防止導(dǎo)光過(guò)程中檢查光量減小。
本發(fā)明檢測(cè)出從光學(xué)部件的疊層方向的一個(gè)表面出射的光。
按照本發(fā)明，通過(guò)檢測(cè)來(lái)自疊層方向的一個(gè)表面的光，能檢測(cè)出與疊層方向交叉的方向所涉及的缺陷的位置。由于能檢測(cè)出缺陷的位置，能將光學(xué)部件加工成剔除該缺陷。因此，可制造無(wú)缺陷的光學(xué)部件。這樣，能提高光學(xué)部件的生產(chǎn)率。
本發(fā)明在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間介入光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大的消雜光濾光片，以檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
按照本發(fā)明，在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間配置消雜光濾光片，因而能利用消雜光濾光片控制入射到光探測(cè)裝置的光。將消雜光濾光片構(gòu)成光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大。因此，能使入射到光探測(cè)裝置的光的光量隨離開(kāi)入射位置的距離加大而變大。檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件時(shí)，隨光學(xué)部件的衰減因素、例如相鄰界面造成的散射和導(dǎo)光層的透射率、引起離開(kāi)入射位置的距離變大而衰減。
光學(xué)部件大的情況下，遍及整個(gè)導(dǎo)光層導(dǎo)入檢測(cè)用的光時(shí)，需要加大入射的檢測(cè)用的光的光量，但加大檢測(cè)光的光量時(shí)，相鄰界面引起的散射使從光學(xué)部件出射的散射光的光量變大。該散射光的光量變大，則散射光的強(qiáng)度分布與缺陷引起的散射光強(qiáng)度分布相似。因此，難以甄別相鄰界面引起的散射光和缺陷引起的散射光，檢測(cè)缺陷的精度降低。本發(fā)明這樣介入消雜光濾光片，能使缺陷以外的部分的散射光消除，明確地檢測(cè)出缺陷引起的散射光。因此，即便是大的光學(xué)部件，也能高精度檢測(cè)出缺陷。
本發(fā)明檢測(cè)出從光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置出射的光。
按照本發(fā)明，從光學(xué)部件中與疊層方向交叉的方向的端面入射檢測(cè)用的光。因此，檢測(cè)用的光一面在相鄰界面反射，一面行進(jìn)。從光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置(下文有時(shí)稱(chēng)為“出射位置”)出射的光由于光學(xué)部件的衰減因素，使檢測(cè)用的光衰減。光學(xué)部件存在缺陷時(shí)，缺陷引起檢測(cè)用的光進(jìn)行散射。這樣由缺陷引起散射，所以從出射位置出射的光除當(dāng)然按光學(xué)部件衰減因素衰減外，缺陷也使其衰減。因此，可通過(guò)檢測(cè)從出射位置出射的光，檢測(cè)出缺陷。
本發(fā)明光學(xué)部件是疊層型偏振光元件。
按照本發(fā)明，光學(xué)部件是疊層型偏振光元件。即便是衰減因素造成的光散射大的疊層型偏振光元件，也能檢測(cè)出缺陷。
本發(fā)明的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷，包含使檢測(cè)用的光從光學(xué)部件的與疊層方向交叉的方向的端面入射、并使檢測(cè)用的光入射到具有的折射率大于在光學(xué)部件疊層方向兩側(cè)相鄰的2個(gè)層的折射率且介于所述相鄰的2個(gè)層之間的層的聚光裝置、以及檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光的光檢測(cè)裝置。
按照本發(fā)明，聚光裝置使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件中折射率大于相鄰2個(gè)層的折射率的層。檢測(cè)用的光一面在相鄰界面反射，一面在導(dǎo)光層內(nèi)行進(jìn)。這樣，沒(méi)有其它界面引起的散射光，因而由缺陷和相鄰界面引起的散射光組成從光學(xué)部件出射的光。該散射光在光學(xué)部件無(wú)缺陷時(shí)和光學(xué)部件由缺陷時(shí)不同，所以能可靠地甄別。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷。
本發(fā)明聚光裝置使檢測(cè)用的光入射到構(gòu)成光學(xué)部件的層中檢測(cè)用的光的光吸收率小的層。
按照本發(fā)明，聚光裝置使檢測(cè)用的光入射到構(gòu)成光學(xué)部件的層中檢測(cè)用的光的光吸收率小的層。將進(jìn)行導(dǎo)光的層限定在光吸收率小的層，所以與單純光導(dǎo)入時(shí)相比，能充分確保檢測(cè)缺陷用的光量。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷。
本發(fā)明聚光裝置使偏振狀態(tài)為線偏振的檢測(cè)用的光以其偏振方向?qū)θ肷錂z測(cè)用的光的層的檢測(cè)用的光的擴(kuò)散方向大致垂直的方式入射。
按照本發(fā)明，聚光裝置使偏振狀態(tài)為線偏振的檢測(cè)用的光以其偏振方向?qū)θ肷錂z測(cè)用的光的層的檢測(cè)用的光的擴(kuò)散方向大致垂直的方式入射?？蓪U(kuò)散方向當(dāng)作主要影響光在層內(nèi)的不連續(xù)性的方向，因而通過(guò)入射偏振方向與擴(kuò)散方向垂直的的檢測(cè)用的光，導(dǎo)光時(shí)光難以感應(yīng)該不連續(xù)性，能防止導(dǎo)光過(guò)程中檢查光量減小。
本發(fā)明檢測(cè)出從光學(xué)部件的疊層方向的一個(gè)表面出射的光。
按照本發(fā)明，通過(guò)檢測(cè)來(lái)自疊層方向的一個(gè)表面的光，能檢測(cè)出與疊層方向交叉的方向所涉及的缺陷的位置。由于能檢測(cè)出缺陷的位置，能將光學(xué)部件加工成剔除該缺陷。因此，可制造無(wú)缺陷的光學(xué)部件。這樣，能提高光學(xué)部件的生產(chǎn)率。
本發(fā)明在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間介入光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大的消雜光濾光片，以檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
按照本發(fā)明，在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間配置消雜光濾光片，因而能利用消雜光濾光片控制入射到光探測(cè)裝置的光。將消雜光濾光片構(gòu)成光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大。光學(xué)部件大的情況下，遍及整個(gè)導(dǎo)光層導(dǎo)入檢測(cè)用的光時(shí)，需要加大入射的檢測(cè)用的光的光量。加大檢測(cè)光的光量時(shí)，相鄰界面引起的散射使從光學(xué)部件出射的散射光的光量變大。該散射光的光量變大，則散射光的強(qiáng)度分布與缺陷引起的散射光強(qiáng)度分布相似。因此，難以甄別相鄰界面引起的散射光和缺陷引起的散射光，檢測(cè)缺陷的精度降低。本發(fā)明這樣介入消雜光濾光片，能使缺陷以外的部分的散射光消除，明確地檢測(cè)出缺陷引起的散射光。因此，即便是大的光學(xué)部件，也能高精度檢測(cè)出缺陷。
本發(fā)明檢測(cè)出從光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置出射的光。
按照本發(fā)明，從光學(xué)部件中與疊層方向交叉的方向的端面入射檢測(cè)用的光。光檢測(cè)裝置檢測(cè)出從出射位置出射的光。光學(xué)部件存在缺陷時(shí)，缺陷引起檢測(cè)用的光進(jìn)行散射。由于缺陷使檢測(cè)用的光散射，缺陷也使檢測(cè)用的光衰減。因此，可通過(guò)檢測(cè)從出射位置出射的光，檢測(cè)出缺陷。光檢測(cè)裝置檢測(cè)出從出射位置出射的光，因而與檢測(cè)出從疊層方向的一個(gè)表面出射的光相比，能減小裝置的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明光學(xué)部件是疊層型偏振光元件。
按照本發(fā)明，光學(xué)部件是疊層型偏振光元件。即便是衰減因素引起的光散射大的疊層型偏振光元件，也能檢測(cè)出缺陷。
根據(jù)本發(fā)明，即使檢測(cè)用的光的入射處的定位精度低，也能入射到檢測(cè)缺陷的層、并且能防止光學(xué)部件的疊層方向兩端面的散射因素使檢測(cè)用的光散射。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷。
根據(jù)本發(fā)明，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
根據(jù)本發(fā)明，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。由于控制光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，能對(duì)多個(gè)光學(xué)部件或構(gòu)成光學(xué)部件的各層分別調(diào)節(jié)入射區(qū)。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
根據(jù)本發(fā)明，即使檢測(cè)用的光的入射處的定位精度低，也能入射到預(yù)定的層、并且能防止光學(xué)部件的疊層方向兩端面的散射因素使檢測(cè)用的光散射。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷。能放寬對(duì)檢測(cè)裝置部件要求的精度，并能降低裝置的制造成本。又由于裝置的維護(hù)和調(diào)整簡(jiǎn)單，能減少裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用。
根據(jù)本發(fā)明，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
根據(jù)本發(fā)明，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸。由于控制匯聚光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，能對(duì)多個(gè)光學(xué)部件或構(gòu)成光學(xué)部件的各層分別調(diào)節(jié)入射區(qū)。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)的疊層方向的尺寸，能使檢測(cè)用的光入射到光學(xué)部件。
根據(jù)本發(fā)明，由缺陷和相鄰界面引起的散射光組成從光學(xué)部件出射的光。該散射光在無(wú)缺陷時(shí)和有缺陷時(shí)不同，而且沒(méi)有來(lái)自相鄰界面以外的界面的散射光，所以能可靠地甄別。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷。
根據(jù)本發(fā)明，能防止將薄的層多層化時(shí)的問(wèn)題，即防止層的光吸收率的影響。
根據(jù)本發(fā)明，能檢測(cè)出與疊層方向交叉的方向所涉及的缺陷的位置。由于能檢測(cè)出缺陷的位置，能將光學(xué)部件加工成剔除該缺陷。因此，可制造無(wú)缺陷的光學(xué)部件。這樣，能提高光學(xué)部件的生產(chǎn)率。
根據(jù)本發(fā)明，可通過(guò)介入消雜光濾光片，消除缺陷以外的部分中的散射光，明確地檢測(cè)出缺陷引起的散射光。因此，即便是大的光學(xué)部件，也能高精度檢測(cè)出缺陷。
根據(jù)本發(fā)明，從出射位置出射的光除當(dāng)然按光學(xué)部件衰減因素衰減外，缺陷也使其衰減。因此，可通過(guò)檢測(cè)從出射位置出射的光，檢測(cè)出缺陷。
根據(jù)本發(fā)明，即便是衰減因素造成的光散射大的疊層型偏振光元件，也能檢測(cè)出缺陷。
根據(jù)基于本發(fā)明的缺陷檢測(cè)裝置，由缺陷和相鄰界面引起的散射光組成從光學(xué)部件出射的光。該散射光在無(wú)缺陷時(shí)和有缺陷時(shí)不同，而且沒(méi)有來(lái)自相鄰界面以外的界面的散射光，所以能可靠地甄別。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷。
根據(jù)基于本發(fā)明缺陷檢測(cè)裝置，能防止將薄的層多層化時(shí)的問(wèn)題，即防止層的光吸收率的影響。
根據(jù)基于本發(fā)明的缺陷檢測(cè)裝置，能使層內(nèi)擴(kuò)散的影響造成的衰減大為減小。因此，能防止導(dǎo)光過(guò)程中檢查光量降低。這樣，能高精度檢測(cè)出缺陷。
根據(jù)基于本發(fā)明缺陷檢測(cè)裝置，能檢測(cè)出與疊層方向交叉的方向所涉及的缺陷的位置。由于能檢測(cè)出缺陷的位置，能將光學(xué)部件加工成剔除該缺陷。因此，可制造無(wú)缺陷的光學(xué)部件。這樣，能提高光學(xué)部件的生產(chǎn)率。
根據(jù)基于本發(fā)明的缺陷檢測(cè)裝置，可通過(guò)介入消雜光濾光片，消除缺陷以外的部分中的散射光，明確地檢測(cè)出缺陷引起的散射光。因此，即便是大的光學(xué)部件，也能高精度檢測(cè)出缺陷。
根據(jù)基于本發(fā)明的缺陷檢測(cè)裝置，可通過(guò)檢測(cè)從出射位置出射的光，檢測(cè)出缺陷。光檢測(cè)裝置檢測(cè)出從出射位置出射的光，因而與檢測(cè)出從疊層方向的一個(gè)表面出射的光相比，能減小裝置的結(jié)構(gòu)。
采用基于本發(fā)明的缺陷檢測(cè)裝置，即便是衰減因素引起的光散射大的疊層型偏振光元件，也能檢測(cè)出缺陷。
附圖簡(jiǎn)述從下面的詳細(xì)說(shuō)明和附圖會(huì)明確本發(fā)明的目的、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)。
圖1是示出一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10的一部分的主視圖。
圖2是示出光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10的側(cè)視圖。
圖3是用表1所示的3種物鏡20的入射部示出檢測(cè)用的光18的光軸位置與導(dǎo)光層22的透射光量的關(guān)系的曲線。
圖4是用偏移量不同的入射部15示出檢測(cè)用的光18的光軸位置與導(dǎo)光層22的透射光量的關(guān)系的曲線。
圖5是示出光學(xué)部件14的缺陷檢測(cè)方法的流程圖。
圖6是示出另一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10a的側(cè)視圖。
圖7A是示出部分光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10a的主視圖，表示使入射區(qū)19對(duì)寬度方向Y匯聚的狀態(tài)。
圖7B是示出部分光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10a的主視圖，表示使入射區(qū)19對(duì)疊層方向Z匯聚的狀態(tài)。
圖8是示出一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置300的主視圖。
圖9是將疊層型偏振光元件214放大后示出的主視圖。
圖10是示出缺陷檢測(cè)裝置300的主視圖，是示出疊層型偏振光元件214存在缺陷25的狀態(tài)的主視圖。
圖11是示出缺陷檢測(cè)裝置300的立體圖，是示出疊層型偏振光元件214存在缺陷225的狀態(tài)的立體圖。
圖12是示出疊層型偏振光元件214的缺陷225的檢測(cè)方法的流程圖。
圖13A～圖13D是示出將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件244時(shí)疊層型偏振光元件244中寬度方向X的位置與散射光強(qiáng)度的關(guān)系的曲線。圖13A是示出對(duì)沒(méi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。圖13B是示出對(duì)第1層222內(nèi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。圖13C是示出對(duì)第2層223內(nèi)或第3層224內(nèi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。圖13D是示出對(duì)第1層222內(nèi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214如已有技術(shù)那樣，從寬度方向X看時(shí)，檢測(cè)用的光218橫截多個(gè)層，同時(shí)入射到疊層型偏振光元件214時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。
圖14是將利用另一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置300a檢測(cè)出缺陷的疊層型偏振光元件244放大后示出的主視圖。
圖15是示出又一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置310的立體圖。
圖16是示出導(dǎo)光時(shí)產(chǎn)生擴(kuò)散的情況下另一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置310的立體圖。
圖17是示出又一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置320的主視圖。
圖18是示出消雜光濾光片271的光透射率與疊層型偏振光元件214的寬度方向X的位置的關(guān)系的曲線。
圖19是示出缺陷檢測(cè)裝置320的立體圖，是示出疊層型偏振光元件214存在缺陷225的狀態(tài)的立體圖。
圖20A和圖20B是示出將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)疊層型偏振光元件214的寬度方向X的位置與散射光強(qiáng)度的關(guān)系的曲線。圖20A是示出對(duì)沒(méi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。圖20B是示出對(duì)第1層222內(nèi)與寬度方向X有關(guān)的位置X 0有缺陷225的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。
圖21是示出又一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置330的主視圖。
圖22是示出缺陷檢測(cè)裝置330的立體圖，是示出疊層型偏振光元件214存在缺陷225的狀態(tài)的立體圖。
圖23是示出將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)疊層型偏振光元件214的寬度方向X的位置與檢測(cè)用的光218的光強(qiáng)度的關(guān)系的曲線。
圖24是示出第1已有技術(shù)的透明襯底缺陷檢測(cè)裝置1的立體圖。
圖25是示出成為缺陷檢查對(duì)象的光學(xué)部件的主視圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參考附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的較佳實(shí)施方式。
圖1是示出一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢查裝置10的一部分的主視圖。圖2是示出光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10的側(cè)視圖。光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置(下文有時(shí)簡(jiǎn)稱(chēng)為“缺陷檢測(cè)裝置”)10的組成包含激光源11、光檢測(cè)部12、判斷部13和入射部15。缺陷檢測(cè)裝置10檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件14的缺陷25。
光學(xué)部件14用多種材料構(gòu)成，本實(shí)施方式中，在厚度方向?qū)盈B多個(gè)厚度尺寸不同的片狀材料，構(gòu)成多層結(jié)構(gòu)。光學(xué)部件14設(shè)置覆蓋疊層方向Z的2個(gè)端面部的保護(hù)膜16。保護(hù)膜16是具有透射性的薄片，保護(hù)光學(xué)部件14免受外力破壞。
激光源11是光源，向與光學(xué)部件14的疊層方向Z交叉的方向的端面14a出射檢測(cè)用的光18。配置激光源11，使檢測(cè)用的光18的光軸大致平行于與光學(xué)部件疊層方向Z大致正交的長(zhǎng)度方向X。將檢測(cè)用的光18照射到光學(xué)部件14的長(zhǎng)度方向X的一個(gè)端面14a。用例如半導(dǎo)體激光器件實(shí)現(xiàn)激光源11。
入射部15是匯聚光學(xué)系統(tǒng)，設(shè)置在光學(xué)部件14與激光源11之間，匯聚檢測(cè)用的光18。入射部15的組成包含準(zhǔn)直透鏡20和物鏡21。準(zhǔn)直透鏡20將來(lái)自激光源11的發(fā)散光變換成平行光。物鏡21將來(lái)自準(zhǔn)直透鏡20的平行光匯聚導(dǎo)光學(xué)部件14的長(zhǎng)度方向X的一個(gè)端面14a，使來(lái)自激光源11的檢測(cè)用的光18入射。
光檢測(cè)部12是光檢測(cè)裝置，檢測(cè)出從光學(xué)部件14出射的光。光檢測(cè)部12檢測(cè)出從光學(xué)部件14的疊層方向Z的一個(gè)表面出射的光。用例如感光元件和電荷耦合元件(Charge Coupled Device，簡(jiǎn)稱(chēng)為CCD)實(shí)現(xiàn)光檢測(cè)部12。光檢測(cè)部12將基于檢測(cè)出的光的信息供給判斷部13。
判斷部13根據(jù)光檢測(cè)部12供給的信息判斷光學(xué)部件14是否有缺陷25。判斷部13將表示判斷結(jié)果的信息供給通知裝置(例如顯示裝置和發(fā)聲裝置)，通知基于有無(wú)缺陷的信息。
判斷部13具有作為輸入控制部的功能，使檢測(cè)用的光18的入射方式形成入射檢測(cè)用的光18的端面14a的檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的疊層方向Z的尺寸L1大于作為光學(xué)部件14的預(yù)定層的導(dǎo)光層22的厚度L2、并且小于光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3。判斷部13控制檢測(cè)用的光18的波長(zhǎng)和物鏡21的數(shù)值孔徑(Numerical Aperture，簡(jiǎn)稱(chēng)為NA)。判斷部13還控制入射部15的位置。
如圖1所示，物鏡21將檢測(cè)用的光18匯聚成圓形。判斷部13控制檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的疊層方向Z的尺寸L1，使其大于作為預(yù)定層的導(dǎo)光層22的厚度L2。判斷部13還控制入射區(qū)19在疊層方向Z的位置，使導(dǎo)光層22上導(dǎo)入較多檢測(cè)用的光18。導(dǎo)光層22是檢測(cè)缺陷25的層，最好衰減最小地進(jìn)行導(dǎo)光。
導(dǎo)光層22存在缺陷25時(shí)，在缺陷25的附近處，光學(xué)方面產(chǎn)生折射率、透射率和反射率的變動(dòng)。檢測(cè)用的光18穿透缺陷25時(shí)，在缺陷25近旁產(chǎn)生散射。光檢測(cè)部12檢測(cè)出散射光，從而判斷部13根據(jù)檢測(cè)出的散射光，在缺陷25與其周?chē)墓饬坎顬橐?guī)定值以上時(shí)，判斷為缺陷25。這樣，判斷部13能檢測(cè)出缺陷25。
對(duì)由入射部15匯聚成規(guī)定大小的檢測(cè)用的光18調(diào)整位置，使其在光學(xué)部件15的長(zhǎng)度方向X的一個(gè)端面14a上對(duì)導(dǎo)光層22為疊層方向Z的大致中央。由入射部15的設(shè)計(jì)決定檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的直徑(即光束直徑L1)與導(dǎo)光層22的厚度L2的關(guān)系。本實(shí)施方式采用分別具有10μm～80μm厚度的7層結(jié)構(gòu)的光學(xué)部件14，對(duì)20μm厚的導(dǎo)光層22作導(dǎo)光，進(jìn)行缺陷檢測(cè)。
由于入射區(qū)19為圓形，入射區(qū)19的疊層方向Z的尺寸L1等于光束直徑L1。由例如使用的激光波長(zhǎng)和物鏡21的數(shù)值孔徑(Numerical Aperture，簡(jiǎn)稱(chēng)為NA)決定光束直徑L1。表1示出一例光束直徑L1與NA的關(guān)系。將激光源11出射的檢測(cè)用的光18用準(zhǔn)直透鏡10變換成平行光后，用具有表1所示的NA的物鏡21進(jìn)行匯聚。這里將檢測(cè)用的光18的波長(zhǎng)設(shè)定為約650nm。
表1
如表1所示，可判明根據(jù)物鏡20的NA，相對(duì)于導(dǎo)光層22的厚度L2，有3種情況光束直徑L1為6μm，小于厚度L2；光束直徑L1為15μm，與厚度L2大致相同；光束直徑L1為75μm，大于厚度L2。
圖3是用表1所示的3種物鏡20的入射部15示出檢測(cè)用的光18的光軸位置與導(dǎo)光層22的透射光量的關(guān)系的曲線。曲線的橫軸表示從檢測(cè)用的光18的光軸與導(dǎo)光層22的中心一致的位置向疊層方向Z的光軸位移量，曲線的縱軸表示導(dǎo)光層22的透射光量。將光學(xué)部件14中入射端面14a至測(cè)量透射光量的出射端面的距離取為16cm，用光功率計(jì)在出射端面測(cè)量透射光量。
如圖3所示，在入射端面14a的光束直徑L1與導(dǎo)光層22的厚度L2大致相同時(shí)，透射光量最大，但產(chǎn)生檢測(cè)用的光18的光軸與導(dǎo)光層22的中心不一致時(shí)，透射光量急劇減小。光束直徑L1變大、并且檢測(cè)用的光18的光軸與導(dǎo)光層22的中心一致時(shí)的透射光量比光束直徑L1小時(shí)的小，但產(chǎn)生檢測(cè)用的光18的光軸與導(dǎo)光層22的中心不一致時(shí)的透射光量平緩減小。
其結(jié)果，偏移等于或大于5μm的情況下，光束直徑L1大時(shí)，透射光量大。關(guān)于導(dǎo)光層22和檢測(cè)用的光18的光軸的機(jī)械精度，顯然光束直徑L1越大，依賴(lài)性越寬松。還判明進(jìn)一步將檢測(cè)用的光18收縮得小于導(dǎo)光層22的厚度L2時(shí)，透射光量的減小和位置偏移造成的透射光量減小都變大，不適合檢測(cè)缺陷25。
使光束直徑L1進(jìn)一步加大時(shí)，由于在光學(xué)部件14的表面設(shè)置保護(hù)膜16，檢測(cè)用的光18入射到保護(hù)膜16內(nèi)或保護(hù)膜16的表面。這使粘著在保護(hù)膜16的表面的空氣中的灰塵或污點(diǎn)等發(fā)光，妨礙檢測(cè)來(lái)自導(dǎo)光層22的缺陷25的散射光。因此，光束直徑L1的極限尺寸為光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3。
這樣，需要將光束直徑L1取為與導(dǎo)光層22的厚度L2大致相符的附近至不大于光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3。缺陷檢測(cè)裝置10中，最好不進(jìn)行檢測(cè)用的光18的光軸位置和導(dǎo)光層22的中心位置的位置調(diào)整，因而考慮光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3和保護(hù)膜10的厚度尺寸以決定光束直徑L1即可。這樣，能使導(dǎo)光層22和檢測(cè)用的光18的光軸的位置精度設(shè)定寬松。
由例如光學(xué)部件14和物鏡21的位置決定光束直徑L1。入射部15中，使物鏡21與光學(xué)部件14的長(zhǎng)度方向X的一個(gè)端面14a的距離變化。在光學(xué)部件14的長(zhǎng)度方向X的一個(gè)端面14a上對(duì)焦點(diǎn)位置提供偏移時(shí)，換言之，加大物鏡21與光學(xué)部件14的距離時(shí)，與將光學(xué)部件14的長(zhǎng)度方向X的一個(gè)端面14a取為焦點(diǎn)位置時(shí)相比，可加大光束直徑L1的尺寸。表2中示出例如NA為0.25、檢測(cè)用的光18的波長(zhǎng)為650nm時(shí)，偏離焦點(diǎn)位置的量(即偏移量)與光束直徑L1的關(guān)系。
表2
如表2所示，光束直徑L1與偏移量成正比，偏移量為100μm時(shí)，光束直徑L1為50μm。
圖4是用偏移量不同的入射部15示出檢測(cè)用的光18的光軸位置與導(dǎo)光層22的透射光量的關(guān)系的曲線。曲線的橫軸表示從檢測(cè)用的光18的光軸與導(dǎo)光層22的中心一致的位置向疊層方向Z的光軸位移量，曲線的縱軸表示導(dǎo)光層22的透射光量。將光學(xué)部件14中入射端面14a至測(cè)量透射光量的出射端面的距離取為16cm，用光功率計(jì)在出射端面測(cè)量透射光量。
與上述結(jié)合圖3說(shuō)明的改變NA的情況相同，需要將光束直徑L1取為與導(dǎo)光層22的厚度L2大致相符的附近至不大于光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3。缺陷檢測(cè)裝置10中，最好不進(jìn)行檢測(cè)用的光18的光軸位置和導(dǎo)光層22的中心位置的位置調(diào)整，因而考慮光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3和保護(hù)膜10的厚度尺寸以決定光束直徑L1即可。這樣，能使導(dǎo)光層22和檢測(cè)用的光18的光軸的位置精度設(shè)定寬松。
加大光束直徑L1時(shí)，與光束直徑L1小的情況相比，對(duì)導(dǎo)光層22導(dǎo)光的光量變小，所以需要構(gòu)成通過(guò)加大入射光量確保檢查缺陷所需的導(dǎo)光的光量。因此，需要將激光源11的出射光量選擇成能遍及整個(gè)光學(xué)部件14作檢查的光量。
圖5是示出光學(xué)部件14的缺陷檢測(cè)方法的流程圖。步驟a0中，將光學(xué)部件14配置在預(yù)定位置后，進(jìn)至步驟a1。步驟a1中，入射檢測(cè)用的光18，使入射檢測(cè)用的光18的端面的檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的疊層方向Z的尺寸L1大于光學(xué)部件14的導(dǎo)光層22的厚度L2、并且小于光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3。然后，進(jìn)至步驟a2。步驟a2中，光檢測(cè)部12檢測(cè)出光學(xué)部件14出射的散射光后，進(jìn)至步驟a3。步驟a3中，判斷部13根據(jù)光檢測(cè)部12檢測(cè)出的散射光強(qiáng)度判斷是否有缺陷25后，進(jìn)至步驟a4。在步驟a4結(jié)束步驟a1開(kāi)始的一系列檢測(cè)步驟。利用這種檢測(cè)步驟檢測(cè)出缺陷25。
綜上所述，根據(jù)本實(shí)施方式，判斷部13使入射方式形成入射檢測(cè)用的光18的端面的檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的疊層方向Z的尺寸L1大于光學(xué)部件14的導(dǎo)光層22的厚度L2。這樣，即使檢測(cè)用的光18的入射位置的定位精度低，也能入射到導(dǎo)光層22。判斷部13又使檢測(cè)用的光18以小于光學(xué)部件14的疊層方向Z的尺寸L3的方式入射。這樣，能防止例如灰塵、傷痕等光學(xué)部件14的疊層方向Z的兩個(gè)端面的散射因素使檢測(cè)用的光18散射。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件14出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件14的缺陷。
光學(xué)部件14的缺陷檢測(cè)中，通過(guò)使端面14a上的光束形狀最佳，即使在導(dǎo)光層22的厚度L2極薄的光學(xué)部件14中，也能放寬檢測(cè)用的光18的光軸與導(dǎo)光層22的中心的對(duì)位精度。這樣，可放寬對(duì)裝置部件要求的精度，能降低缺陷檢測(cè)裝置10的制作成本。又由于缺陷檢測(cè)裝置10的維護(hù)和調(diào)整簡(jiǎn)單，能減少缺陷檢測(cè)裝置10的運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用。
本實(shí)施方式中，判斷部13控制檢測(cè)用的光18的波長(zhǎng)和物鏡22的數(shù)值孔徑。這樣，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的疊層方向的尺寸L1。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)19的疊層方向的尺寸L1，能使檢測(cè)用的光18入射到光學(xué)部件14。
本實(shí)施方式中，判斷部13控制入射部15的位置。這樣，能調(diào)節(jié)檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的疊層方向的尺寸L1。由于控制入射部15和光學(xué)部件14的位置，能對(duì)多個(gè)光學(xué)部件14或構(gòu)成光學(xué)部件14的各層分別調(diào)節(jié)入射區(qū)19。因此，適當(dāng)調(diào)節(jié)入射區(qū)19的疊層方向的尺寸L1，能使檢測(cè)用的光18入射到光學(xué)部件14。
本實(shí)施方式中，從疊層方向Z的一側(cè)檢測(cè)出散射光，因而能檢測(cè)出缺陷25引起的散射光的位置、數(shù)量和大小。這樣，能加工并生產(chǎn)剔除缺陷25的光學(xué)部件14。因此，可制造無(wú)缺陷25的光學(xué)部件14。即，能提高光學(xué)部件14的生產(chǎn)率。構(gòu)成包含光學(xué)部件14的光裝置時(shí)，能預(yù)先剔除含有缺陷的光學(xué)部件14，因而能提高光裝置成品率，使光裝置的生產(chǎn)率提高。
根據(jù)圖3和圖4，入射區(qū)19的疊層方向Z的尺寸L1最好比導(dǎo)光層22的厚度L2大一些，例如為其1倍～3倍，4倍以上則光量的衰減變大。通過(guò)這樣選擇入射區(qū)19的形狀，能放寬定位精度，而且能使盡可能多的檢測(cè)用的光18在導(dǎo)光層22中導(dǎo)光，可提高檢測(cè)出缺陷25的精度。
光束直徑L1、裝置的檢測(cè)用的光18的光軸定位精度x和電感性22的厚度L2最好具有下面的式(1)的關(guān)系。
L2≤L1≤(L2+x)……(1)如圖3和圖4所示，缺陷檢測(cè)最佳為L(zhǎng)1＝L2時(shí)，但由于基本上存在定位精度x，最好將光束直徑L1設(shè)定成等于和大于L2+x。通過(guò)這樣設(shè)定光束直徑L1，即使檢測(cè)用的光18的光軸由于裝置的機(jī)械結(jié)構(gòu)在疊層方向Z的哪一方移動(dòng)定位精度x的份額，光束的入射區(qū)也能覆蓋整個(gè)導(dǎo)光層22。
光束直徑L1太大時(shí)，導(dǎo)入導(dǎo)光層22的光量減小，因而最好將定位精度x設(shè)定成等于或小于2倍導(dǎo)光層22的厚度L2，換言之，最好設(shè)定成光束直徑L1等于或小于3倍導(dǎo)光層厚度L2。通過(guò)這樣設(shè)定，即使為了檢查，替換光元件，使裝置定位精度x在某范圍變動(dòng)，也由于該范圍等于或小于2倍導(dǎo)光層厚度L2，能使檢測(cè)出缺陷所需的光量入射到導(dǎo)光層22。
圖6是示出另一本發(fā)明實(shí)施方式的發(fā)報(bào)機(jī)缺陷檢測(cè)裝置10a的側(cè)視圖。本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置10a與上述圖1～圖5的缺陷檢測(cè)裝置10相似。本實(shí)施方式的組成標(biāo)注與上述缺陷檢測(cè)裝置10中相應(yīng)的組成相同的參考號(hào)，僅說(shuō)明不同的組成，省略對(duì)相同的組成作說(shuō)明。本實(shí)施方式中，入射部15的組成還包含整形棱鏡30。將整形棱鏡30設(shè)在準(zhǔn)直透鏡20與物鏡21之間。通過(guò)這樣設(shè)置整形棱鏡30，能使入射區(qū)19的形狀變化。
本實(shí)施方式中，光學(xué)部件14的端面14a上的檢測(cè)用的光18的入射區(qū)19的形狀不同。如上文所述，入射區(qū)19僅對(duì)疊層方向的尺寸L1有限制，因而不規(guī)定其它形狀。作為入射區(qū)19的形狀，也可以是橢圓形。
圖7A和圖7B是示出部分光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置10a的主視圖。如圖7A所示，用整形棱鏡30使入射區(qū)19對(duì)垂直于疊層方向Z和長(zhǎng)度方向X的寬度方向Y匯聚。圖7B中，用整形棱鏡30使入射區(qū)19對(duì)疊層方向Z匯聚。即便是這種入射區(qū)19，也能與上述實(shí)施方式1同樣地有效。
也可取消準(zhǔn)直透鏡20，使來(lái)自激光源11的檢測(cè)用的光18直接入射到整形棱鏡30，從而實(shí)現(xiàn)入射部15。還可用準(zhǔn)直透鏡20和圓柱透鏡匯聚成橢圓形。
上述各實(shí)施方式中，缺陷檢測(cè)裝置用1個(gè)光源構(gòu)成激光源11，但進(jìn)行整個(gè)光學(xué)部件14的缺陷檢查時(shí)，需要構(gòu)成利用進(jìn)給機(jī)構(gòu)使光學(xué)部件14對(duì)激光源11移位。也可構(gòu)成通過(guò)排列多個(gè)激光源11，一次就檢查整個(gè)光學(xué)部件14。
上述實(shí)施方式不過(guò)示出本發(fā)明的例子，可在本發(fā)明范圍內(nèi)改變組成結(jié)構(gòu)。
圖8是示出一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置300的主視圖。光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置(下文有時(shí)簡(jiǎn)稱(chēng)為“缺陷檢測(cè)裝置”)300的組成包含聚光部211、光檢測(cè)部212和判斷部213。缺陷檢測(cè)裝置300是檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷的裝置。本實(shí)施方式中，光學(xué)部件是疊層型偏振光元件214。由疊層型偏振光元件主體215和夾持疊層型偏振光元件主體215的保護(hù)片216構(gòu)成偏振光元件214。疊層型偏振光元件主體215由多種材料構(gòu)成，本實(shí)施方式中向厚度方向Z層疊片狀材料而構(gòu)成，具有使光通過(guò)疊層方向Z(即厚度方向Z)時(shí)僅透射該光中一個(gè)偏振方向的偏振光的功能。
保護(hù)片216是具有透射性的薄片，保護(hù)疊層型偏振光元件主體215免受外力破壞。將保護(hù)片216設(shè)置成覆蓋疊層型偏振光元件狀態(tài)215的疊層方向Z的兩個(gè)端面部。
聚光部211是聚光裝置，使檢測(cè)用的光218從疊層型偏振光元件214中與疊層方向Z交叉的方向的端面214a入射。聚光部211的組成包含光源219、準(zhǔn)直透鏡220和匯聚透鏡221，光源219出射檢測(cè)用的光218。光源219利用例如半導(dǎo)體激光器件實(shí)現(xiàn)。準(zhǔn)直透鏡220將來(lái)自光源219的發(fā)散光變換成平行光。匯聚透鏡221將來(lái)自準(zhǔn)直透鏡220的平行光匯聚到疊層型偏振光元件214的端面214a，使來(lái)自光源219的檢測(cè)用的光218入射。匯聚透鏡221可將檢測(cè)用的光218匯聚成點(diǎn)狀，也可將其匯聚成線狀。例如光源219使用波長(zhǎng)655nm的激光，作為準(zhǔn)直透鏡220使用光瞳半徑3mm、f＝12mm的透鏡，作為匯聚透鏡221使用f＝12mm的圓柱透鏡時(shí)，匯聚透鏡將光在疊層方向Z匯聚成寬20μm的線狀。
光檢測(cè)部212是光檢測(cè)裝置，檢測(cè)出從疊層型偏振光元件214出射的光。光檢測(cè)部212檢測(cè)出從疊層型偏振光元件214的疊層方向Z的一個(gè)表面出射的光。用例如感光元件和電荷耦合元件(Charge Coupled Device，簡(jiǎn)稱(chēng)為CCD)實(shí)現(xiàn)光檢測(cè)部212。光檢測(cè)部212將基于檢測(cè)出的光的信息供給判斷部213。
判斷部213根據(jù)光檢測(cè)部212供給的信息，判斷疊層型偏振光元件214是否有缺陷。
圖9是將疊層型偏振光元件214放大后示出的主視圖。本實(shí)施方式中，疊層型偏振光元件214的多層結(jié)構(gòu)的1個(gè)層的與疊層方向Z交叉的方向的端面214a是疊層型偏振光元件214的與疊層方向Z大致正交(包括正交)的寬度方向X的一個(gè)端面214a。匯聚透鏡221使來(lái)自光源219的檢測(cè)用的光218匯聚，激勵(lì)使疊層型偏振光元件214的1個(gè)層具有強(qiáng)度峰的導(dǎo)光狀態(tài)(下有時(shí)稱(chēng)為“高相位速度導(dǎo)光狀態(tài)”)。這時(shí)，通過(guò)將導(dǎo)光的層選擇為層單體吸收率低的層，即使在薄的層重疊的結(jié)構(gòu)中，也能抑制導(dǎo)光的期間的光衰減變大。
檢測(cè)用的光218例如入射到疊層型偏振光元件主體215的1個(gè)導(dǎo)光層(即第1層222)。有時(shí)將構(gòu)成疊層型偏振光元件主體215的第1層除外的2個(gè)剩余層223和224分別稱(chēng)為“第2個(gè)層”和“第3層”。
為了激勵(lì)高相位速度導(dǎo)光狀態(tài)，聚光部211進(jìn)行例如調(diào)整匯聚透鏡221的數(shù)值孔徑(Numerical Aperture，簡(jiǎn)稱(chēng)為NA)等，使檢測(cè)用的光218匯聚在疊層型偏振光元件214的寬度方向X的一個(gè)端面214a附近不大于第1層222的厚度的匯聚直徑內(nèi)進(jìn)行入射。高相位速度導(dǎo)光狀態(tài)是行進(jìn)角小的傳播模式。行進(jìn)角是第1層222與其它層的界面(下文有時(shí)稱(chēng)為“第1界面”)222a和導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光58的光軸形成的角中小的一方的角，是導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光58在第1界面222a上全反射的角。這里將構(gòu)成疊層型偏振光元件主體215的第1層～第3層的折射率分別取為n1～n3。將各層的折射率n1～n3設(shè)定成滿(mǎn)足下面的式(2)。
n2＜n1，n3＜n1……(2)
將各層的折射率滿(mǎn)足式(2)并且在疊層方向Z具有小于第1層222的厚度的匯聚直徑的檢測(cè)用的光218入射到第1層222。換言之，聚光部211使檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214中折射率n1大于相鄰2個(gè)層的折射率n2、n3的層。這樣，導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光58變成在第1層222具有光強(qiáng)度中心的狀態(tài)，一面取在第1界面222a全反射的反射路徑，一面得到導(dǎo)光。
圖10是示出缺陷檢測(cè)裝置300的主視圖，示出疊層型偏振光元件214具有缺陷225的狀態(tài)。圖11是示出缺陷檢測(cè)裝置300的立體圖，示出疊層型偏振光元件214具有缺陷225的狀態(tài)。圖11中，為了容易理解，省略示出判斷部213，設(shè)想地示出光檢測(cè)部212。第1層222內(nèi)存在缺陷225(例如異物、氣泡、樹(shù)脂漬)時(shí)，檢測(cè)用的光218產(chǎn)生的導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光(未示出)因第1層222內(nèi)的光路被缺陷225直接切斷，最敏感地發(fā)生散射。第2層223和第3層224存在缺陷225時(shí)和邊界部222a存在缺陷225時(shí)，這些缺陷225引起在疊層方向Z產(chǎn)生大的形變(未示出)。檢測(cè)用的光218產(chǎn)生的導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光(未示出)的波長(zhǎng)遠(yuǎn)小于形變的大小，因而檢測(cè)用的光218產(chǎn)生的導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光因形變而敏感地引起散射。
保護(hù)片216與疊層型偏振光元件主體215之間存在作為缺陷225的異物時(shí)，異物使疊層型偏振光元件主體215的界面結(jié)構(gòu)形變。因此，即使在隔開(kāi)第1層222的位置存在異物，檢測(cè)用的光222產(chǎn)生的導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)光也散射。
圖12是示出疊層型偏振光元件214的缺陷225的檢測(cè)方法的流程圖。步驟b0中，將疊層型偏振光元件214配置在預(yù)定位置后，進(jìn)至步驟b1。步驟b1中，檢測(cè)用的光218僅在疊層型偏振光元件214寬度方向X的一個(gè)端面的第1層得到導(dǎo)光后，進(jìn)至步驟b2。步驟b2中光檢測(cè)部212檢測(cè)出從疊層型偏振光元件214出射的散射光后，進(jìn)至步驟b3。步驟b3中，判斷部213根據(jù)光檢測(cè)部212檢測(cè)出的散射光強(qiáng)度，判斷是否存在缺陷225，并進(jìn)至步驟b4。在步驟b4結(jié)束從步驟b1開(kāi)始的一系列檢測(cè)步驟。
圖13A～圖13D是示出將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)，疊層型偏振光元件214的寬度方向X的位置與散射光強(qiáng)度的關(guān)系的曲線。曲線的橫軸表示疊層型偏振光元件214寬度方向X的位置，曲線的縱軸表示散射光強(qiáng)度。如圖13所示，光檢測(cè)部215將檢測(cè)出的散射光的光強(qiáng)度變化畫(huà)成曲線。
圖13A是示出對(duì)沒(méi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214在第1層222入射檢測(cè)用的光228時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。沒(méi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214由疊層型偏振光元件224原來(lái)的散射因素使檢測(cè)用的光218散射。隨著聚光部211的離開(kāi)檢測(cè)用的光218入射位置的距離變大，檢測(cè)用的光218由疊層型偏振光元件214原來(lái)的散射因素引起衰減。因此，隨著離開(kāi)檢測(cè)用的光218的入射位置的距離變大，散射光強(qiáng)度變小。判斷部213通過(guò)與圖13A所示沒(méi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214的散射光強(qiáng)度進(jìn)行比較，判斷疊層型偏振光元件214內(nèi)是否有缺陷225。這樣，最好根據(jù)多個(gè)無(wú)缺陷225的疊層型偏振光元件214中的散射光強(qiáng)度測(cè)量平均值決定成為是否有缺陷225的判斷基準(zhǔn)的散射光強(qiáng)度。
圖13B是示出對(duì)第1層222內(nèi)有缺陷的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。對(duì)寬度方向X在位置X 0具有缺陷。如上文所述，第1層222內(nèi)的缺陷225使檢測(cè)用的光218切斷，產(chǎn)生散射。因此，從缺陷225的位置附近出射散射光。判斷部213根據(jù)該散射光判斷為疊層型偏振光元件214內(nèi)有缺陷225。
圖13C是示出對(duì)第2層223內(nèi)或第3層224內(nèi)存在缺陷225的疊層型偏振光元件224使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。如上文所述，疊層型偏振光元件214根據(jù)第2層223內(nèi)和第3層224內(nèi)的缺陷225產(chǎn)生形變，因而在第1層222內(nèi)從缺陷225的位置附近出射散射光。形變引起的散射光強(qiáng)度并非第1層222內(nèi)存在缺陷225的情況越嚴(yán)重就越大，但該散射光強(qiáng)度遠(yuǎn)大于疊層型偏振光元件主體215原來(lái)各層間邊界上的散射等。因此，能區(qū)別疊層型偏振光元件主體215原有的散射因素引起的散射光和缺陷225引起的散射光。判斷部213根據(jù)該散射光判定為疊層型偏振光元件214內(nèi)存在缺陷225。
圖13D是示出第1層222內(nèi)有缺陷225的疊層型偏振光元件214，像已有技術(shù)那樣使檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。在已有技術(shù)那樣使檢測(cè)用的光218一面貫穿多個(gè)層一面受到導(dǎo)光的導(dǎo)光狀態(tài)下，散射加大。該散射是保護(hù)片216中的散射和檢測(cè)用的光218通過(guò)各層間的邊界的散射。這些散射是缺陷225以外的散射的主要因素。
已有技術(shù)那樣遍及疊層方向Z的整個(gè)區(qū)域入射檢測(cè)用的光218時(shí)，由于各層間邊界面的散射因素，即使在沒(méi)有缺陷225的狀態(tài)下，散射光強(qiáng)度也大。如上文所述，第1層222內(nèi)有缺陷225時(shí)，缺陷225導(dǎo)致疊層方向Z產(chǎn)生形變，所以第2層223、第3層224和保護(hù)片216內(nèi)的檢測(cè)用的光218因形變而產(chǎn)生散射。因此，如圖13D所示，第1層222內(nèi)的缺陷225引起的散射光變大，但非缺陷225引起的散射光也大，因而不能明確判斷是否有缺陷225。
本實(shí)施方式那樣用第1層222的高相位速度導(dǎo)光大幅度抑制缺陷225以外的散射。因此，檢測(cè)用的光218的散射通過(guò)強(qiáng)化缺陷225引起的散射光的光量，使缺陷225和缺陷225以外的部分中散射光強(qiáng)度差變大。
高相位速度導(dǎo)光狀態(tài)下，具有抑制檢測(cè)用的光218在橫穿的層間邊界上滲出光的影響的效果。因此，多層結(jié)構(gòu)的邊界狀態(tài)下引起散射的散射光少，所以散射光強(qiáng)度妨礙檢測(cè)缺陷225的程度不大。這樣，疊層型偏振光元件214那樣使光偏振的結(jié)構(gòu)上，雖然對(duì)容易散射而且因多層結(jié)構(gòu)而散射率高的光學(xué)部件進(jìn)行導(dǎo)光，也容易探測(cè)多層結(jié)構(gòu)的各邊界的缺陷225引起的散射光。
如上所述，按照本實(shí)施方式，使檢測(cè)用的光218入射到構(gòu)成疊層型偏振光元件214的各層中折射率大于相鄰的2個(gè)層的折射率的第1層222。入射到第1層222的光由于第1層222的折射率大于相鄰的第2層223和第2層224的折射率，一面在第1界面反射，一面行進(jìn)。檢測(cè)用的光218不入射到疊層型偏振光元件214的第1界面222a除外的剩余界面。這樣，沒(méi)有剩余界面引起的散射光，因而由缺陷225和第1界面222a引起的散射光組成從疊層型偏振光元件214產(chǎn)生的光。該散射光在疊層型偏振光元件214沒(méi)有缺陷225時(shí)和有缺陷225時(shí)差異明確。因此，可通過(guò)檢測(cè)從疊層型偏振光元件214出射的光，高精度檢測(cè)出疊層型偏振光元件的缺陷225。
本實(shí)施方式中，使檢測(cè)用的光218從疊層型偏振光元件214中與疊層方向Z交叉的方向的端面214a入射。因此，檢測(cè)用的光210一面在第1界面222a上反射，一面在第1層222中行進(jìn)。疊層型偏振光元件214有缺陷225時(shí)，檢測(cè)用的光218因缺陷225而發(fā)生散射。使散射的光出射到疊層型偏振光元件214的外方。因此，可通過(guò)檢測(cè)從疊層型偏振光元件214的疊層方向Z的一個(gè)表面出射的光，檢測(cè)出缺陷225。
缺陷225引起的散射光從缺陷225附近出射，因而可通過(guò)檢測(cè)來(lái)自疊層方向Z的一個(gè)表面的散射光的出射位置，檢測(cè)出與疊層方向Z交叉的方向所涉及的缺陷225的位置。由于能檢測(cè)出缺陷225的位置，能將疊層型偏振光元件214加工成剔除缺陷225。因此，可制作無(wú)缺陷225的疊層型偏振光元件214。這樣，能提高疊層型偏振光元件214的生產(chǎn)率。
疊層型偏振光元件214設(shè)置具有的折射率大于相鄰2個(gè)層的折射率的層。這樣，通過(guò)使光入射到第1層222，疊層型偏振光元件214檢測(cè)出缺陷。因此，能實(shí)現(xiàn)能可靠判斷是否有缺陷的疊層型偏振光元件214。
上述實(shí)施方式中，聚光部211的組成包含匯聚透鏡221，但不限于附圖的方式。匯聚透鏡221也可以是棒形透鏡。還可組合多個(gè)光源219、準(zhǔn)直透鏡220和匯聚透鏡221構(gòu)成聚光部211。又可構(gòu)成聚光部211，而去除準(zhǔn)直透鏡220。
圖14是將另一本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置300a檢測(cè)出缺陷的疊層型偏振光元件244放大后示出的主視圖。本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置300a與上述圖6～圖13的缺陷檢測(cè)裝置300相似，本實(shí)施方式的組成標(biāo)注與上述缺陷檢測(cè)裝置300的相應(yīng)組成相同的參考號(hào)，僅說(shuō)明不同的組成，對(duì)相同的組成省略說(shuō)明。本實(shí)施方式中，缺陷檢測(cè)裝置300a使檢測(cè)用的光218入射到多個(gè)層。
在厚度方向Z層疊多個(gè)疊層型偏振光元件主體245、本實(shí)施方式中為7種層230～236，將疊層型偏振光元件主體245構(gòu)成多層結(jié)構(gòu)。將疊層型偏振光元件主體245構(gòu)成層單體光吸收率低的層相鄰。
如圖14所示，疊層方向Z的匯聚直徑大于多個(gè)層厚度的合計(jì)值時(shí)，構(gòu)成疊層型偏振光元件244的多個(gè)層在本實(shí)施方式中，將檢測(cè)用的光218入射到5個(gè)層231～234。第1層232的折射率n1和相鄰的第2層231的折射率n2、第3層233的折射率n3滿(mǎn)足上述式(2)。又設(shè)定成從第1層232向疊層方向Z的一方的第2層234(即第4層234)的折射率n4、相鄰的第3層233的折射率n3和第5層的折射率n5的大小關(guān)系滿(mǎn)足下面的式(3)。
n3＜n4，n5＜n4 ……(3)換言之，聚光部211使檢測(cè)用的光218的大部分入射到疊層型偏振光元件244中折射率大于相鄰2個(gè)層的折射率n的第1層232和第4層234。這樣，導(dǎo)光時(shí)的檢測(cè)用的光218形成第1層232和第4層234具有光強(qiáng)度中心的狀態(tài)，一面取進(jìn)行全反射的路徑，一面受到導(dǎo)光。
由此，第1層232和第4層234中導(dǎo)光的光同時(shí)進(jìn)行高相位速度導(dǎo)光。檢測(cè)用的光218也入射到第2層231、第3層233和第5層235(下文有時(shí)將這些層統(tǒng)稱(chēng)為“剩余層”)，但通過(guò)將剩余層的厚度設(shè)定成非亞微米(例如等于或大于1μm)，使光在剩余層內(nèi)不受到導(dǎo)光，從而不發(fā)生吸收。同樣，剩余層內(nèi)也幾乎沒(méi)有檢測(cè)用的光218的散射，不妨礙檢測(cè)缺陷。
雖然是這樣在導(dǎo)光層中進(jìn)行導(dǎo)光的狀態(tài)，但與僅1個(gè)層中導(dǎo)光時(shí)相同，也能防止妨礙檢測(cè)的非所需散射光增多。而且，是這種狀態(tài)，則第1層232與第4層234之間存在缺陷等情況下，與僅第1層中導(dǎo)光時(shí)相比，缺陷上的散射強(qiáng)度升高，因而缺陷發(fā)現(xiàn)率提高。
圖15是示出又一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置310的主視圖。本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置310與上述圖8～圖13的缺陷檢測(cè)裝置300相似，本實(shí)施方式的組成標(biāo)注與上述缺陷檢測(cè)裝置300的相應(yīng)組成相同的參考號(hào)，僅說(shuō)明不同的組成，對(duì)相同的組成省略說(shuō)明。本實(shí)施方式中，聚光部61的組成包含光源219、準(zhǔn)直透鏡220和圓柱透鏡267，檢測(cè)用的光218處在疊層型偏振光元件214的端面214a上被匯聚成線狀的狀態(tài)。
圓柱透鏡267使入射到疊層型偏振光元件214的光只在疊層方向Z匯聚，因而長(zhǎng)度方向Y上準(zhǔn)直的光(平行光)在疊層型偏振光元件214內(nèi)受到導(dǎo)光。導(dǎo)光269在長(zhǎng)度方向Y仍保持平行不變時(shí)，意味著長(zhǎng)度方向Y未出現(xiàn)光擴(kuò)散。構(gòu)成疊層型偏振光元件214的各層如圖9和圖10那樣薄的情況下，在第1層222傳播相同距離時(shí)，存在因厚度薄而容易受界面狀態(tài)影響的趨勢(shì)。
可以說(shuō)檢測(cè)用的光218具有在疊層型偏振光元件214的疊層方向Z擴(kuò)展的趨勢(shì)(下文有時(shí)將該擴(kuò)展稱(chēng)為“導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散”)，因而可認(rèn)為此導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散在圖15的例子中主要發(fā)生在疊層型偏振光元件264的疊層方向Z(下文有時(shí)將此擴(kuò)展趨勢(shì)的主方向稱(chēng)為“導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散主方向”)。為了不容易受該界面的影響，使檢測(cè)用的光218為偏振方向A固定的線偏振光，減小影響其導(dǎo)光時(shí)光超越界面滲出的量(グ—スヘンシエンシフト)的程度，因而通過(guò)使該偏振方向A為長(zhǎng)度方向Y，能減少散射。
圖16是示出光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置310的主視圖，示出圖15的疊層型偏振光元件214的導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散主方向不同的情況。除上述界面引起的導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散外，有時(shí)也會(huì)發(fā)生導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散。如圖16所示，由于從聚光部261向長(zhǎng)度方向Y入射準(zhǔn)直的檢測(cè)用的光218，有時(shí)導(dǎo)光270為發(fā)散光。出現(xiàn)此發(fā)散現(xiàn)象的主要原因是由于光受到導(dǎo)光的層內(nèi)對(duì)折射率存在島狀等不均勻性(折射率局部變化，未示出)，該不均勻性引起光的行進(jìn)方向變化。出現(xiàn)此發(fā)散現(xiàn)象時(shí)，導(dǎo)光270除受到來(lái)自界面的影響外，還大量受到該不均勻性的影響。即，可以說(shuō)出現(xiàn)導(dǎo)光270那樣的導(dǎo)光狀態(tài)時(shí)，光越擴(kuò)散，長(zhǎng)度方向Y產(chǎn)生導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散越大，導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散的主方向成為長(zhǎng)度方向Y。因此，通過(guò)使檢測(cè)用的光218為線偏振光，使其偏振方向A為疊層方向Z，能減小導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散的影響。
如圖15和圖16所示，導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散使檢查時(shí)的檢查光量減小，因而通過(guò)入射具有的偏振方向A垂直于作為導(dǎo)光時(shí)擴(kuò)散的主方向的擴(kuò)散方向的線偏振光，如上文所述，能防止檢查光量減小。
圖17是示出另一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置320的主視圖。本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置320與上述圖8～圖12和圖13A～圖13D的缺陷檢測(cè)裝置300相似，本實(shí)施方式的組成標(biāo)注與上述缺陷檢測(cè)裝置300的相應(yīng)組成相同的參考號(hào)，僅說(shuō)明不同的組成，對(duì)相同的組成省略說(shuō)明。本實(shí)施方式中，缺陷檢測(cè)裝置320的組成還包含消雜光濾光片271。將消雜光濾光片27設(shè)在疊層型偏振光元件214與光檢測(cè)部212之間。
疊層型偏振光元件214由比玻璃等光吸收率高的材料組成，因而檢測(cè)用的光218相對(duì)于疊層型偏振光元件214中離開(kāi)光入射位置的距離，按指數(shù)函數(shù)衰減。換言之，檢測(cè)用的光218在入射位置的光強(qiáng)度，大于在寬度方向X離開(kāi)入射位置的位置的光強(qiáng)度。即，設(shè)某距離X的位置上，強(qiáng)度為I(X)，入射位置上的強(qiáng)度為I0，則作為衰減率α(正數(shù))，可用下面的式(4)表示I(X)。
I(X)＝I0exp(-αX) ……(4)從式(4)可知，檢測(cè)大(X值大)疊層型偏振光元件214的缺陷225時(shí)，為了遍及疊層型偏振光元件214在寬度方向X的整個(gè)區(qū)域?qū)霗z測(cè)用的光218，需要加大入射位置上的光強(qiáng)度I0。加大入射位置的光強(qiáng)度I0時(shí)，在入射位置附近，缺陷225以外處的散射光強(qiáng)度也變大，所以難以檢測(cè)缺陷225。因此，本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置320為了大的疊層型偏振光裝置214也檢測(cè)出缺陷225，使用消雜光濾光片271。
圖18是示出消雜光濾光片271的光透射率與疊層型偏振光元件214的寬度方向X的位置的關(guān)系的曲線。曲線的縱軸表示消雜光濾光片271的光透射率，曲線的橫軸表示疊層型偏振光元件214在寬度方向X的位置。將消雜光濾光片271構(gòu)成隨著離開(kāi)聚光部211的檢測(cè)用的光218的入射位置的距離變大，光透射率加大。最好將消雜光濾光片271的透射率變化構(gòu)成預(yù)先測(cè)量疊層型偏振光元件214的檢測(cè)用的光214的傳播損耗，使入射到光檢測(cè)部212的光對(duì)寬度方向X相等。
例如，設(shè)消雜光濾光片271的寬度方向X的透射率為T(mén)(X)，消雜光范圍為0＜X＜Xm，則衰減率當(dāng)作α，T(Xm)為98％時(shí)，可由下面的式(5)表示T(X)。
T(X)＝{0.98/exp(αXm)}exp(-αX)……(5)這樣，在疊層型偏振光元件214無(wú)缺陷225的情況下，將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)，光檢測(cè)部212檢測(cè)出在寬度方向X具有大致相同的光強(qiáng)度的光。
圖19是示出缺陷檢測(cè)裝置320的立體圖，示出疊層型偏振光元件214有缺陷225的狀態(tài)。圖19中，為了容易理解，省略示出判斷部213，設(shè)想地示出消雜光濾光片271和光檢測(cè)部212。如上文所述，疊層型偏振光元件214內(nèi)有缺陷225時(shí)，使檢測(cè)用的光218入射，則從疊層型偏振光元件214出射缺陷225引起的散射光。出射的散射光通過(guò)消雜光濾光片271入射到光檢測(cè)部212。光檢測(cè)部212檢測(cè)出入射的光，將檢測(cè)出的信息供給判斷部213。判斷部213根據(jù)光檢測(cè)部212供給的信息判斷是否有缺陷225。
圖20A和圖20B是示出將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)疊層型偏振光元件214在寬度方向X的位置與散射光強(qiáng)度的關(guān)系的曲線。曲線的橫軸表示疊層型偏振光元件214的寬度方向X的位置，曲線縱軸表示散射光強(qiáng)度。圖20A是示出對(duì)無(wú)缺陷225的疊層型偏振光元件214將檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。無(wú)缺陷225的疊層型偏振光元件214由疊層型偏振光元件214原來(lái)的散射因素使檢測(cè)用的光218發(fā)生散射。檢測(cè)用的光218進(jìn)入疊層型偏振光元件214時(shí)，隨著離開(kāi)聚光部211的檢測(cè)用的光218的入射位置的距離加大，疊層型偏振光元件214原來(lái)的散射因素引起衰減。因此，散射光強(qiáng)度隨著離開(kāi)檢測(cè)用的光218的入射位置的距離加大而變小，但本實(shí)施方式中，散射光通過(guò)消雜光濾光片271入射到光檢測(cè)部212，因而入射到光檢測(cè)部212的散射光強(qiáng)度大致相同。
圖20B是示出對(duì)第1層222內(nèi)的寬度方向X所涉及的位置X0有缺陷225的疊層型偏振光元件214使檢測(cè)用的光218入射到第1層222時(shí)的散射光強(qiáng)度的曲線。如上文所述，第1層222內(nèi)的缺陷225切斷檢測(cè)用的光218，使其散射。因此，如圖20B所示，位置X0從缺陷225的位置附近出射基于缺陷225的散射光。所以，判斷部213進(jìn)行與無(wú)缺陷225的情況的比較，判斷是否有缺陷225。
如上所述，按照本實(shí)施方式，將消雜光濾光片271配置在疊層型偏振光元件214與光檢測(cè)部212之間。因此，能利用消雜光濾光片271控制入射到光檢測(cè)部212的光。將消雜光濾光片271構(gòu)成光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光218的入射位置的距離加大而變大。因此，能使入射到光檢測(cè)部212的光的光量隨離開(kāi)檢測(cè)用的光218的入射位置的距離加大而變大。檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)，隨著疊層型偏振光元件214的衰減因素(例如第1層222與其它層的界面引起的散射和第1層222的透射率)引起離開(kāi)入射位置的距離變大，產(chǎn)生衰減。通過(guò)介入消雜光濾光片271，能消除缺陷225以外的部分上的散射光，明確檢測(cè)出缺陷225引起的散射光。因此，即便是大的疊層型偏振光元件214，也能高精度檢測(cè)出缺陷225，從而能達(dá)到與上述實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置300相同的效果。
上述實(shí)施方式中，檢測(cè)用的光218的入射位置固定，但不限于此。通過(guò)使聚光部211對(duì)疊層型偏振光元件214在長(zhǎng)度方向Y相對(duì)移位，能遍及疊層型偏振光元件214內(nèi)的全部區(qū)域詳細(xì)檢測(cè)是否有缺陷225。
也可將聚光部211構(gòu)成遍及疊層型偏振光元件214的長(zhǎng)度方向Y的全部區(qū)域入射檢測(cè)用的光218。通過(guò)這樣構(gòu)成聚光部211，遍及疊層型偏振光元件214內(nèi)全部區(qū)域一次入射檢測(cè)用的光218，就能檢測(cè)出是否有缺陷225和缺陷225的位置。由于能這樣檢測(cè)出缺陷225的位置，可避開(kāi)缺陷225，重新加工成規(guī)模較小的疊層型偏振光元件214。因此，能有效地重新利用有缺陷的疊層型偏振光元件214。
圖21是示出又一本發(fā)明實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置330的主視圖。圖22是示出缺陷檢測(cè)裝置330的立體圖，示出疊層型偏振光元件214有缺陷225的狀態(tài)。本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置330與上述圖8～圖12、圖13A～圖13D、圖14～圖19以及圖20A和圖20B所示的缺陷檢測(cè)裝置300、320相似，本實(shí)施方式的組成標(biāo)注與上述缺陷檢測(cè)裝置300、320的相應(yīng)組成相同的參考號(hào)，僅說(shuō)明不同的組成，對(duì)相同的組成省略說(shuō)明。本實(shí)施方式在光檢測(cè)部212檢測(cè)出光的位置方面具有特征。
光檢測(cè)部212檢測(cè)出從疊層型偏振光元件214中與疊層方向Z交叉的方向的端面214b的、與聚光部211的檢測(cè)用的光218的入射位置不同的位置出射的光。將光檢測(cè)部212配置在對(duì)疊層型偏振光元件214的疊層方向Z與聚光部211相反的一側(cè)。
聚光部211的組成包含光源219、準(zhǔn)直透鏡220和圓柱透鏡267。檢測(cè)用的光218被匯聚成線狀，因而在疊層型偏振光元件214內(nèi)的第1層222中垂直于寬度方向X的長(zhǎng)度方向Y上不擴(kuò)展，以圖15所示導(dǎo)光269的形狀在第1層222內(nèi)向?qū)挾确较騒行進(jìn)。
圖23是示出將檢測(cè)用的光218入射到疊層型偏振光元件214時(shí)疊層型偏振光元件214在寬度方向X的位置與導(dǎo)光時(shí)的光269的光強(qiáng)度的關(guān)系的曲線。如上文所述，疊層型偏振光元件214無(wú)缺陷225時(shí)，如圖23的第1曲線282那樣，疊層型偏振光元件214的散射因素引起導(dǎo)光時(shí)的光269衰減。因此，入射位置和出射位置上，入射位置的光量大。對(duì)疊層型偏振光元件214的寬度方向X在位置X 0有缺陷225時(shí)，如圖23的第2曲線283那樣，導(dǎo)光時(shí)的光269因缺陷225而發(fā)生散射，所以第1層222導(dǎo)光時(shí)的光在位置X0進(jìn)一步衰減。
這樣，由于疊層型偏振光元件214內(nèi)是否有缺陷225，出射位置的光量存在差異。光檢測(cè)部212檢測(cè)出從寬度方向X的另一端面214b出射的光，將基于檢測(cè)出的光量的信息供給判斷部213。判斷部213對(duì)光檢測(cè)部212供給的信息和預(yù)定的圖23所示的判斷光量值284進(jìn)行比較，判斷是否有缺陷225。將判斷光量值284設(shè)定成例如疊層型偏振光元件214無(wú)缺陷時(shí)在出射位置出射的光量的程度。
如上所述，按照本實(shí)施方式，使檢測(cè)用的光218從疊層型偏振光元件214的與疊層方向Z交叉的方向的端面214a入射。因此，導(dǎo)光時(shí)的光269一面在連接第1層222的界面上反射，一面行進(jìn)。從出射位置出射的光具有導(dǎo)光時(shí)的光269由于疊層型偏振光元件214的衰減因素而衰減后的光量。疊層型偏振光元件214有缺陷225時(shí)，導(dǎo)光時(shí)的光269因缺陷225而引起散射。缺陷225這樣造成散射，所以從出射位置出射的光除當(dāng)然由于疊層型偏振光元件214的衰減因素而衰減外，缺陷225也造成其衰減。因此，可通過(guò)檢測(cè)從出射位置出射的光，檢測(cè)出缺陷225。
本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置330，檢測(cè)出不是從疊層型偏振光元件214疊層方向Z的整個(gè)表面而是僅從端面214b出射的光，因而能有效地檢測(cè)出缺陷225。本實(shí)施方式還能將裝置構(gòu)成得較小。因此，能達(dá)到與上述實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置相同的效果。
本實(shí)施方式的缺陷檢測(cè)裝置330中，對(duì)疊層型偏振光元件214的寬度方向X設(shè)置聚光部271和光檢測(cè)部212，但還可構(gòu)成對(duì)疊層型偏振光元件214的長(zhǎng)度方向Y設(shè)置聚光部271和光檢測(cè)部212。這樣構(gòu)成缺陷檢測(cè)裝置330，將從各聚光部271出射的光入射得遍及疊層型偏振光元件214的寬度方向X和長(zhǎng)度方向Y的全部區(qū)域。因此，不僅是否有缺陷225，而且缺陷225的位置，都能得到高精度檢測(cè)。
本發(fā)明的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷，其特征在于，使檢測(cè)用的光僅入射到構(gòu)成光學(xué)部件的各層中的1個(gè)層，并檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
使檢測(cè)用的光僅入射到構(gòu)成光學(xué)部件的各層中的1個(gè)層。檢測(cè)用的光只能入射到僅1個(gè)層，因而在入射檢測(cè)用的光的層(下文有時(shí)稱(chēng)為“第1層”)中，一面在與第1層相鄰的其它層的界面(下文有時(shí)稱(chēng)為“第1界面”)上反射，一面行進(jìn)。因此，檢測(cè)用的光不入射到光學(xué)部件中第1界面除外的剩余界面(下文有時(shí)稱(chēng)為“第2界面”)。這樣，沒(méi)有第2界面引起的散射光，因而由缺陷和第1界面引起的散射光組成從光學(xué)部件出射的光。該散射光在光學(xué)部件無(wú)缺陷時(shí)和光學(xué)部件有缺陷時(shí)不同，而且沒(méi)有來(lái)自第2界面的散射光，所以能可靠地甄別。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷。
由缺陷和第1界面引起的散射光組成從光學(xué)部件出射的光。該散射光在光學(xué)部件無(wú)缺陷時(shí)和光學(xué)部件有缺陷時(shí)不同，而且沒(méi)有來(lái)自第2界面的散射光，所以能可靠地甄別。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷。
本發(fā)明能以其它各種方式實(shí)施，而不脫離其精神或主要特征，因此上述實(shí)施方式所有的方面只不過(guò)示出例子，本發(fā)明的范圍為權(quán)利要求書(shū)所示的范圍，不受說(shuō)明書(shū)本文任何約束。屬于權(quán)利要求書(shū)范圍的改變或變換都在本發(fā)明范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，是從與疊層方向交叉的方向的端面向?qū)盈B多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件入射檢測(cè)用的光，并檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光以檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷的方法，使檢測(cè)用的光的入射方式為入射檢測(cè)用的光的端面上的檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸，大于檢測(cè)缺陷的層的厚度、并且小于光學(xué)部件在疊層方向的尺寸。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，控制檢測(cè)用的光的波長(zhǎng)和匯聚檢測(cè)用的光的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑，使檢測(cè)用的光入射。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，控制匯聚檢測(cè)用的光的光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)部件的位置，使檢測(cè)用的光入射。
4.一種光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，檢測(cè)層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷，其特征在于，包含向與光學(xué)部件疊層方向交叉的方向的端面出射檢測(cè)用的光的光源、入射檢測(cè)用的光，使入射檢測(cè)用的光的端面上的檢測(cè)用的光的入射區(qū)在疊層方向的尺寸，大于檢測(cè)光學(xué)部件的缺陷的層的厚度、并且小于光學(xué)部件在疊層方向的尺寸的入射控制裝置、以及檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光的光檢測(cè)裝置。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，還包含設(shè)在光學(xué)部件與光源之間以匯聚檢測(cè)用的光的匯聚光學(xué)系統(tǒng)、并且輸入控制裝置控制檢測(cè)用的光的波長(zhǎng)和匯聚光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，輸入控制裝置控制匯聚光學(xué)系統(tǒng)的位置。
7.一種光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，是從與疊層方向交叉的方向的端面向?qū)盈B多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件入射檢測(cè)用的光，并檢測(cè)從光學(xué)部件出射的光，以檢測(cè)出光學(xué)部件的缺陷的方法，使檢測(cè)用的光入射到具有的折射率大于在疊層方向兩側(cè)相鄰的2個(gè)層的折射率、并且介于所述相鄰的2個(gè)層之間的層。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，使檢測(cè)用的光入射到構(gòu)成光學(xué)部件的層中檢測(cè)用的光的光吸收率小的層。
9.如權(quán)利要求7或8所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，檢測(cè)用的光的偏振狀態(tài)是線偏振、并且使檢測(cè)用的光，以其偏振方向?qū)θ肷錂z測(cè)用的光的層的檢測(cè)用的光的擴(kuò)散方向大致垂直的方式入射。
10.如權(quán)利要求7或8所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件的疊層方向的一個(gè)表面出射的光。
11.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件的疊層方向的一個(gè)表面出射的光。
12.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間介入光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大的消雜光濾光片，以檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
13.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間介入光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大的消雜光濾光片，以檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
14.如權(quán)利要求7或8所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的、不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置出射的光。
15.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的、不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置出射的光。
16.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，光學(xué)部件是疊層型偏振光元件。
17.一種光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，檢測(cè)出層疊多個(gè)具有透射性的層而構(gòu)成的光學(xué)部件的缺陷，其特征在于，包含使檢測(cè)用的光從與光學(xué)部件疊層方向交叉的方向的端面入射，并使檢測(cè)用的光入射到具有的折射率大于在光學(xué)部件疊層方向兩側(cè)相鄰的2個(gè)層的折射率且介于所述相鄰的2個(gè)層之間的層的聚光裝置、以及檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光的光檢測(cè)裝置。
18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，聚光裝置使檢測(cè)用的光入射到構(gòu)成光學(xué)部件的層中檢測(cè)用的光的光吸收率小的層。
19.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，聚光裝置使偏振狀態(tài)為線偏振的檢測(cè)用的光以其偏振方向?qū)θ肷錂z測(cè)用的光的層的檢測(cè)用的光的擴(kuò)散方向大致垂直的方式入射。
20.如權(quán)利要求17或18所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件的疊層方向的一個(gè)表面出射的光。
21.如權(quán)利要求19所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件的疊層方向的一個(gè)表面出射的光。
22.如權(quán)利要求20所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間介入光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大的消雜光濾光片，以檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
23.如權(quán)利要求21所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，在光學(xué)部件與光探測(cè)裝置之間介入光透射率隨離開(kāi)檢測(cè)用的光的入射位置的距離加大而變大的消雜光濾光片，以檢測(cè)出從光學(xué)部件出射的光。
24.如權(quán)利要求17或18所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，從檢測(cè)出光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的、不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置出射的光。
25.如權(quán)利要求19所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，檢測(cè)出從光學(xué)部件上與疊層方向交叉的方向的端面的、不同于檢測(cè)用的光的入射位置的位置出射的光。
26.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)部件缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，光學(xué)部件是疊層型偏振光元件。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種光學(xué)部件的缺陷檢測(cè)方法和缺陷檢測(cè)裝置，判斷部(13)使入射區(qū)(19)的疊層方向的尺寸L1大于光學(xué)部件(14)的導(dǎo)光層(22)的厚度L2的方式入射。即使檢測(cè)用的光(18)的入射位置的定位精度低也能入射到導(dǎo)光層(22)。判斷部(13)又使檢測(cè)用的光(18)以小于光學(xué)部件(14)的疊層方向的尺寸L3的方式入射。能防止例如灰塵、傷痕等光學(xué)部件(14)中疊層方向Z的兩個(gè)端面的散射因素使檢測(cè)用的光(18)散射。因此，可通過(guò)檢測(cè)從光學(xué)部件(14)出射的光，高精度檢測(cè)出光學(xué)部件(14)的缺陷(25)。
文檔編號(hào)G01N21/88GK1769854SQ200510119378
公開(kāi)日2006年5月10日 申請(qǐng)日期2005年11月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月2日
發(fā)明者三宅知之, 南功治, 平野兼史, 中田泰男, 倉(cāng)田幸夫 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社