專利名稱：一種在位式光電分析系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及光電分析系統(tǒng)，特別涉及一種在位式光電分析系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在位式光電分析系統(tǒng)，如應(yīng)用吸收光譜技術(shù)(如半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)、差分光學(xué)吸收光譜技術(shù)、非分光紅外吸收光譜技術(shù)等)的在位式氣體分析系統(tǒng)，可實時在位分析各種過程參數(shù)，無需對被分析過程介質(zhì)進行采樣，在現(xiàn)代工業(yè)、科研、環(huán)保等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。該類分析系統(tǒng)的工作原理是從測量探頭中光發(fā)射部件中的光源(或光源安裝在遠處，光源發(fā)出的光通過光纖引到測量探頭)發(fā)射一束光到被測過程環(huán)境中，與之相對應(yīng)的(另一)測量探頭中的光接收部件中的光電轉(zhuǎn)換器(或光電轉(zhuǎn)換器安裝在遠處，而測量探頭接收到的光通過光纖傳輸?shù)焦怆娹D(zhuǎn)換器)對上述光束的透射光、散射光或反射光進行檢測，通過對檢測到的光信號進行分析來獲得需要測量的過程參數(shù)如工業(yè)過程氣體的濃度。測量結(jié)果通常被用于進行過程控制、工藝過程優(yōu)化以及安全保障等。
一種目前廣泛使用的在位式光電分析系統(tǒng)，如圖1所示，測量探頭2，3分別通過法蘭盤與根部閥4，5連接，而根部閥4，5分別通過法蘭盤與配接體6，7連接，配接體6，7安裝在過程氣流管道1上。在系統(tǒng)安裝時，先把配接體6，7安裝在過程氣流管道1上，再安裝其它部件。由于不能保證兩個配接體之間的同軸，因此還需要安裝諸多法蘭盤，通過調(diào)節(jié)法蘭盤間的螺釘或O型圈來調(diào)節(jié)光路，調(diào)節(jié)過程繁瑣，諸多法蘭盤也提高了成本，系統(tǒng)也變得復(fù)雜。由于部件較多，工程安裝麻煩，同時也不便維護。
實用新型內(nèi)容本實用新型解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供了一種系統(tǒng)簡單、安裝調(diào)節(jié)和維護方便且成本較低的在位式光電分析系統(tǒng)。
本實用新型的目的是通過下述技術(shù)方案得以實現(xiàn)的一種在位式光電分析系統(tǒng)，包括測量探頭、第一和第二配接體，所述的第一和第二配接體安裝在過程氣流管道的兩側(cè)；其特征在于所述分析系統(tǒng)還包括安裝在過程氣流管道內(nèi)的連接體，所述連接體的兩端與第一和第二配接體相連接，使第一和第二配接體保持同軸。
所述連接體在沿過程氣流方向的投影不覆蓋過程氣流管道內(nèi)的測量光束。
所述連接體在沿過程氣流方向的投影至少部分覆蓋過程氣流管道內(nèi)的測量光束。
所述連接件的兩側(cè)開有缺口。
所述連接體的中間部分為“C”形或“ㄈ”形或“ㄧ”形。
所述第一和第二配接體、連接體是一體制成的。
所述分析系統(tǒng)還包括調(diào)節(jié)機構(gòu)，安裝在所述分析系統(tǒng)的一側(cè)。
所述連接體通過法蘭或絲扣或鎖箍或焊接或卡式與配接體連接。
所述的分析系統(tǒng)是利用吸收光譜技術(shù)的在位式氣體分析系統(tǒng)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型通過使用用于保證配接體之間同軸的連接體，節(jié)省掉了諸多法蘭盤，系統(tǒng)簡單，從而降低了成本。另外，由于連接體與配接體是一體的，保證了光路的準直性，從而光路調(diào)節(jié)容易，進而方便了工程安裝，也便于維護。


圖1是一種現(xiàn)有的在位式光電分析系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型第一實施例所揭示的一種在位式光電分析系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖2中的在位式光電分析系統(tǒng)的俯視示意圖；圖4是圖3的A-A局部剖視圖；圖5是本實用新型第二實施例所揭示的一種在位式光電分析系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本實用新型所揭示的另一種連接體的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型作進一步詳盡描述。
第一實施例
請參閱圖2、圖3及圖4所示，一種應(yīng)用吸收光譜技術(shù)的在位式光電分析系統(tǒng)，包括測量探頭2，3、根部閥4，5、配接體6，7、調(diào)節(jié)機構(gòu)8(本實施例為法蘭盤)和連接體10。其中，第一測量探頭2(如光接收和信號分析裝置)與第一根部閥4相連接，第一配接體6焊接在過程氣流管道1上，該第一配接體6的一端與所述第一根部閥4連接。而第二測量探頭3(如光發(fā)射裝置)通過一法蘭盤8與第二根部閥5連接，所述第二根部閥5與焊接在過程氣流管道1上的第二配接體7連接。
所述連接體10安裝在所述過程氣流管道1內(nèi)，兩端分別與所述第一配接體6和第二配接體7連接。所述連接體10的中間部分為“C”形，“C”形部分的兩側(cè)開有缺口11、12、13、14；在沿過程氣流方向上所述連接體10的投影至少部分覆蓋過程氣流管道內(nèi)的測量光束。
所述分析系統(tǒng)的安裝過程為將所述連接體10的兩端分別插入到所述第一配接體6和所述第二配接體7中，從而使所述第一和第二配接體6、7保持同軸(因為在本領(lǐng)域內(nèi)絕對的同軸是不存在的，因此所述同軸只是相對的，也就是說只要分析系統(tǒng)的光發(fā)射裝置發(fā)出的光能夠被光接收裝置接收即可，第一和第二配接體之間存在一個小的角度是允許的)，之后把連接體10、第一配接體6和第二配接體7插入過程氣流管道1內(nèi)，把第一配接體6和第二配接體7安裝(如焊接)在所述過程氣流管道1上；之后再分別安裝上所述第一、第二根部閥4、5、法蘭盤8、第一、第二測量探頭2、3。通過調(diào)節(jié)所述法蘭盤8之間的螺釘和O型圈(未示出)就能保證第二測量探頭3發(fā)出的光束被第一測量探頭2中的光接收裝置接收。整個工程安裝和光路調(diào)節(jié)過程簡單方便。所述連接體10與第一和第二配接體6、7也可以采用法蘭或絲扣或鎖箍連接。
分析系統(tǒng)工作時，第二測量探頭3發(fā)出光如激光、紫外光，光束穿過分析系統(tǒng)內(nèi)部的測量通道、被測過程氣體后，再次穿過分析系統(tǒng)的測量通道后被第一測量探頭2內(nèi)的光接收裝置接收并送分析裝置處理得到被測氣體的濃度。過程氣流管道1內(nèi)的粉塵含量高，因此需要吹掃裝置吹掃分析系統(tǒng)的測量通道，避免粉塵等雜物的沉積造成堵塞等事故的發(fā)生，吹掃氣體最后從缺口12，14處排入過程氣流管道1內(nèi)。而連接體10的“C”形設(shè)計阻擋了粉塵等雜物對測量光束的影響，提高了透光率，同時氣體得以正常進入“C”形區(qū)域內(nèi)，保證了測量的準確性。
上述連接體的中間部分采用“C”形，當(dāng)然還可以采用其他形狀，如“ㄈ”形、“ㄧ”形等。
第二實施例請參閱圖5所示，一種應(yīng)用吸收光譜技術(shù)的在位式光電分析系統(tǒng)，一連接體15安裝在過程氣流管道1內(nèi)，在沿過程氣流方向上所述連接體15的投影不覆蓋過程氣流管道內(nèi)的測量光束。連接體15兩端分別焊接在第一和第二配接體6、7上，從而使第一和第二配接體6、7保持同軸。所述連接體15可以是金屬棒。不再安裝法蘭8。至于其他連接結(jié)構(gòu)以及連接方式與第一實施例中相同，在此不再贅述。
所述分析系統(tǒng)的安裝過程為將第一配接體6和第二配接體7通過連接體15連接，使第一和第二配接體6、7保持同軸(同軸的意義和第一實施例相同)；之后插入到過程氣流管道1內(nèi)，把第一和第二配接體6、7安裝如焊接在被測氣體管道1上；之后再分別安裝上所述第一、第二根部閥4、5、第一、第二測量探頭2、3。至于光路調(diào)節(jié)方式與第一實施例相同，在此也不再贅述。
需要指出的是，上述實施方式不應(yīng)理解為對本實用新型保護范圍的限制。比如說，上述的連接體還可以采用其他結(jié)構(gòu)形式，如圖6中所示的連接體16，所述連接體16是弧狀結(jié)構(gòu)。還有，上述第一和第二配接體、連接體不是一體的，所述三者當(dāng)然還可以是一體制成的。本實用新型的關(guān)鍵是，通過在第一和第二配接體間安裝連接體，使第一和第二配接體間保持同軸，從而使分析系統(tǒng)的光路調(diào)節(jié)變得簡單方便，系統(tǒng)也變得簡單。在不脫離本實用新型精神的情況下，對本實用新型作出的任何形式的改變(包括變劣技術(shù))均應(yīng)落入本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種在位式光電分析系統(tǒng)，包括測量探頭、第一和第二配接體，所述的第一和第二配接體安裝在過程氣流管道的兩側(cè)；其特征在于所述分析系統(tǒng)還包括安裝在過程氣流管道內(nèi)的連接體，所述連接體的兩端與第一和第二配接體相連接，使第一和第二配接體保持同軸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述連接體在沿過程氣流方向的投影不覆蓋過程氣流管道內(nèi)的測量光束。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述連接體在沿過程氣流方向的投影至少部分覆蓋過程氣流管道內(nèi)的測量光束。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述連接體的兩側(cè)開有缺口。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述連接體的中間部分為“C”形或“ㄈ”形或“丨”形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述第一和第二配接體、連接體是一體制成的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述分析系統(tǒng)還包括調(diào)節(jié)機構(gòu)，安裝在所述分析系統(tǒng)的一側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述連接體通過法蘭或絲扣或鎖箍或焊接或卡式與配接體連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的在位式光電分析系統(tǒng)，其特征在于所述的分析系統(tǒng)是利用吸收光譜技術(shù)的在位式氣體分析系統(tǒng)。
專利摘要本實用新型公開了一種在位式光電分析系統(tǒng)，包括測量探頭、第一和第二配接體，所述的第一和第二配接體安裝在被測氣體管道的兩側(cè)；所述分析系統(tǒng)還包括安裝在被測氣體管道內(nèi)的連接體，所述連接體的兩端與第一和第二配接體相連接，使第一和第二配接體保持同軸。通過使用用于保證配接體之間同軸的連接體，節(jié)省掉了諸多法蘭盤，系統(tǒng)簡單，從而降低了成本。另外，由于連接體與配接體是一體的，保證了光路的準直性，從而光路調(diào)節(jié)容易，進而方便了工程安裝和維護。
文檔編號G01N21/01GK2929707SQ20062010510
公開日2007年8月1日 申請日期2006年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月25日
發(fā)明者熊志才, 鐘安平, 王健 申請人:王健