專利名稱：用于放射性物質(zhì)檢測和x光輻射成像的集成系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及物品檢查領(lǐng)域，具體涉及放射性物質(zhì)檢測以及X
光檢查領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備已經(jīng)被廣泛地用于海關(guān)、邊境、機場、核電廠和其它重要場所的出入口放射性檢查，用于阻止放射性物質(zhì)的非法轉(zhuǎn)移?，F(xiàn)有技術(shù)中的放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備主要是利用放射性物質(zhì)/特殊核材料通過設(shè)備時，對其所發(fā)射的伽馬、中子射線進行檢測，根據(jù)所述伽馬、中子射線引起的系統(tǒng)計數(shù)率變化或能譜異常變化，從而判斷通過的被檢物體是否含有放射性物質(zhì)/特殊核材料。
除了放射性物質(zhì)監(jiān)測，通常在重要場所的出入口還要對進出物品進
行X光檢測?，F(xiàn)有技術(shù)中的X光檢測設(shè)備是利用X光機為輻射源，當(dāng)
被檢物體通過檢測設(shè)備時檢測透過物體的x光劑量，根據(jù)測得的透過
劑量變化獲得物體的質(zhì)量厚度和圖象信息，并據(jù)此判斷是否含有危險物品。
上述的放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和x光檢測設(shè)備可以在不同的檢查領(lǐng)
域完成各自的功能，但一個問題在于，不能將上述的放射性物質(zhì)監(jiān)測
設(shè)備和x光檢測設(shè)備相鄰放置對一件被檢物體進行放射性物質(zhì)監(jiān)測和X光檢測。其原因是在對被檢物體進行X光輻射成像檢查時，X光檢測設(shè)備會發(fā)射出大量的X射線，其中有一部分X射線會漏入到相鄰放置的放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備中。由于放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備正是通過對射線的探測來判斷通過的被檢物體是否含有放射性物質(zhì)，所以漏入的X射線會影響放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的檢測精度，使其無法正確判斷所檢
進而，由于不能將上述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和X光4僉測設(shè)備相鄰放置，所以在機場或港口等海關(guān)必須在放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和X光檢測設(shè)備之間不斷運送貨品，導(dǎo)致了大量的人力、物力、空間和時間上的浪費。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于如上所述現(xiàn)有技術(shù)中具有的缺陷，希望提供一種集成系統(tǒng)，可
以在同 一 地點同時探測放射性物質(zhì)和進行X光輻射成像。
本發(fā)明通過合理的屏蔽設(shè)置解決了所述放射性物質(zhì)探測設(shè)備與x 光檢測設(shè)備的集成中出現(xiàn)的各種干擾和相互協(xié)調(diào)的問題。 根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，提供了 一種用于對被檢物體進行放射性
物質(zhì)探測和X光輻射成像的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括X光檢測設(shè)備，用于對 被檢物體進行X光輻射成像檢查；放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備，與所述X光 檢測設(shè)備相鄰放置，用于檢測所述被檢物體發(fā)出的放射性射線；以及 用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置。
通過以上技術(shù)方案，實現(xiàn)了 X光物體檢查設(shè)備與放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè) 備的緊湊集成，可在同一地點進行射線輻射成像檢查和放射性物質(zhì)監(jiān) 測，大大節(jié)約了機場、港口等海關(guān)的空間資源，節(jié)省了時間，進而避 免了由于在放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和X光檢測設(shè)備之間不斷運送貨品導(dǎo) 致的人力、物力上的浪費。


下面通過結(jié)合附圖對各個具體實施方式
進行詳細描述，相同的附圖 標(biāo)記表示相同的組成部件。
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的用于檢測放射性物質(zhì)并對物體進 行X光檢查的系統(tǒng)的側(cè)-見圖2是如圖1所示的用于檢測放射性物質(zhì)并對物體進行X光檢查的 系統(tǒng)的俯^L圖3是放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備在包括環(huán)境本底工作時，多道脈沖幅度 分析器(MCA)獲得的散射能譜；
圖4是放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的具體組成框圖。
具體實施例方式
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施例用于檢測放射性物質(zhì)并對物體進行X 光檢查的系統(tǒng)100的側(cè)視圖，其中附圖標(biāo)記101表示放射性物質(zhì)監(jiān)測 設(shè)備，用于檢測被檢物體發(fā)出的伽馬或中子射線。102表示X光檢測設(shè) 備，用于對被檢物體進行X光輻射成像檢查。其中放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備101置于X光4全測設(shè)備102的入口兩側(cè)，但本領(lǐng)域4支術(shù)人員也可以 想到將其置于X光檢測設(shè)備102的出口兩側(cè)，或置于入口或出口的一 側(cè)，及將其置于X光檢測設(shè)備102的上、下方。103表示載物臺，用于 承載被檢物體。104表示履帶，用于傳送被檢物體從接受放射性物質(zhì)監(jiān) 測的位置向前移動通過X光檢測設(shè)備102。 105表示支柱，用于支撐載 物臺103。
圖2是如圖1所示的用于檢測放射性物質(zhì)并對物體進行X光檢查的 系統(tǒng)的俯視圖，總體用附圖標(biāo)記200表示。其中附圖標(biāo)記201表示與 圖1中相同的放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備。202表示與圖1中相同的X光檢測 設(shè)備。203表示在X光檢測設(shè)備202中發(fā)射的、經(jīng)過準(zhǔn)直的X射線。在 以X光檢測設(shè)備102在進行檢查時，該X光檢測設(shè)備連續(xù)發(fā)射X射線， 其中心存在4艮強的扇形初級X射線，該扇形初級X射線在纟皮準(zhǔn)直器準(zhǔn) 直成X射線203。在其被準(zhǔn)直、透射過被檢物體和探測器檢測過程中， 會有大量散射射線形成，這些散射射線在現(xiàn)有技術(shù)中可能會影響附近 放射性物質(zhì)檢測設(shè)備201的檢測精度。204表示鉛簾，用于遮擋部分所 述散射射線。205表示被檢物體，而205，表示正處于接受X光檢測位置 的被檢物體。206表示部分包圍放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201的第一屏蔽 體。207表示至少部分包圍X光檢測設(shè)備202的第二屏蔽體。
在圖2所示的實施例中，X光檢測設(shè)備202的橫截面為矩形，其被 第二屏蔽體207完全包圍。放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201和第一屏蔽體206 被置于X光檢測設(shè)備202的入口處的一側(cè)，所述第一屏蔽體206為馬 蹄形，其圓弧端包圍所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備2 01，開口軸線與被檢物 體的運送方向成例如45度角。并且開口部分的兩臂從圓弧部位向外延 伸，以確保由X光檢測設(shè)備202在所有鉛簾204處于自然垂直狀態(tài)時 發(fā)出的散射射線或被激發(fā)的X熒光射線以及此處泄漏出的散射射線不 能到達放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201。優(yōu)選的，所述第一屏蔽體206還可以 至少部分地屏蔽天然本底射線，以提高系統(tǒng)靈敏度。同時所述開口還 保證了對凈皮檢物體205有足夠的張角，可以正確的4全測凈皮檢物體205 發(fā)出的伽馬和中子射線。該張角，或稱視野，與X光檢測設(shè)備202對 物品的檢查速度相關(guān)，速度快時張角適當(dāng)加大，速度慢時張角可適當(dāng) 縮小。在本實施例中使用45度角作為示例，當(dāng)然本領(lǐng)域的普通技術(shù)人 員也可以容易的想到使用其他角度，例如30 - 60度之間的夾角，達到
6相同的技術(shù)效果。同樣，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以容易的想到將放
射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201和第一屏蔽體206置于X光檢測設(shè)備202入口 或者出口的兩側(cè)或上、下方，不影響并確保被檢貨物的暢行而且不占 用外場地。只要第一屏蔽體206能屏蔽掉鉛簾上的散射，則任何角度 及放置位置都可以實現(xiàn)。多個置于不同位置、角度的放射性物質(zhì)監(jiān)測 設(shè)備201和第一屏蔽體206可以同時使用，只要其能夠屏蔽掉鉛簾上 的散射并且有足夠的張角以用于檢測被檢物體205發(fā)出的伽馬和中子 射線。另外，除了馬蹄形，第一屏蔽體206還可以以C形實現(xiàn)或任何 具有一邊開口的包圍形狀實現(xiàn)，如矩形等多邊形。在另一實施例中， 第一屏蔽體206被實現(xiàn)為單向的遮蔽體，所述單向遮蔽體可被置于所 述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201與X光檢測設(shè)備202之間，用于單向遮擋 所述X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備2 01。在一個優(yōu)選的實施例 中，第一屏蔽體206被實現(xiàn)為一字型的單向遮蔽體。
在一個優(yōu)選實施方式中，使用重金屬材料制成第一屏蔽體206和第 二屏蔽體207,由于中子對重金屬具有良好的穿透性，因此用重金屬材 料構(gòu)成第一屏蔽體206和第二屏蔽體207,不但可以對X射線達到良好 的屏蔽效果，而且可以使中子的探測靈敏度不受影響或影響很小。
下面結(jié)合圖3解釋通過提高放大器或多道的檢測低限，減小散射射 線對放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的影響。在放射性物質(zhì)發(fā)射的伽馬和/或中子 射線入射到放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201時，與放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201
經(jīng)線性放大成型、數(shù)據(jù)采集等，可被系統(tǒng)按計數(shù)率記錄下來，也可按 信號幅度大小記錄成能譜。圖3是放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201在包括環(huán) 境本底工作時，多道脈沖幅度分析器(MCA)獲得的散射能譜，其中橫 軸表示道數(shù)，縱軸表示計數(shù)。
圖4具體解釋了放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的具體組成框圖，該放射性物 質(zhì)監(jiān)測設(shè)備在圖4中總體以附圖標(biāo)記400表示。該放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè) 備400主要包括伽馬探測模塊401、中子探測模塊402、占用/速度 探測器403、門控4笨測器404、溫度控制組件405 、聲光報警406、 一見 頻監(jiān)控407、信號傳輸與控制器408、計算機409、 TCP/IP模塊410、 USP電源411。其中信號傳輸與控制器408、計算機409、 TCP/IP模塊 410包括在數(shù)據(jù)獲取與處理分系統(tǒng)412中。伽馬探測組件401由高靈敏的塑料閃爍體/Nal晶體、低噪聲光電倍增管、高壓、放大器等組成， 用于探測伽馬射線并將其信號傳輸給數(shù)據(jù)獲取與處理分系統(tǒng)412。中子 探測組件402由優(yōu)化慢化體結(jié)構(gòu)、He-3正比中子管、高壓、放大器等 組成，用于來探測中子并將其信號傳輸給數(shù)據(jù)獲取與處理分系統(tǒng)412 。 占用/速度探測器403由裝在對立探測柱上的對射式紅外傳感器組成， 用以獲知是否有被檢物通過監(jiān)測區(qū)域。數(shù)據(jù)獲取與處理分系統(tǒng)412以 計數(shù)器或多道分析器與高級精簡指令系統(tǒng)處理器(ARM)嵌入式系統(tǒng)組 成，用以采集和處理數(shù)據(jù)、判斷是否存在射線計數(shù)率或能譜異常并產(chǎn) 生相關(guān)的報警信息。通過軟件對相關(guān)的數(shù)據(jù)處理和計算、條件修正、 邏輯判斷等形成一套報警算法，及用戶界面、信息留存等軟件。門控 探測器404、溫度控制組件405、聲光報警406、視頻監(jiān)控407、信號 傳輸與控制器408、計算機409、 TCP/IP模塊410、 USP電源411屬于 現(xiàn)有技術(shù)中的功能模塊，出于說明書簡明考慮，在此不對其具體組成 ——累述。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員也可以理解，各功能模塊可根據(jù)實際 需求增減。
當(dāng)放射性物質(zhì)通過檢測設(shè)備時，在探測到的射線計數(shù)率或能譜發(fā)生 異常時，可以判斷被檢物體含有放射性物質(zhì)。為了有效的監(jiān)測放射性 物質(zhì)，放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201需根據(jù)系統(tǒng)所處環(huán)境本底水平，確定 計數(shù)率報警閾值和/或射線能譜變化限值，以滿足系統(tǒng)靈敏度、準(zhǔn)確度、 監(jiān)測速度和誤報警率的要求。系統(tǒng)測量的射線計數(shù)率或能語的峰面積 符合物理統(tǒng)計規(guī)律，即在一個相對穩(wěn)定的環(huán)境，和無電子學(xué)噪聲被記 錄(或相對少量)的情況下，已知前一時段的計數(shù)率或峰面積，可預(yù) 知下一時段的計數(shù)率或面積出現(xiàn)值的幾率，通常出現(xiàn)在5個西格瑪之 外的幾率遠小于O. 1%,因而報警閾值基本上設(shè)定在5個西格瑪，符合 幾乎所有標(biāo)準(zhǔn)要求的誤報率水平，該閾值也成為該系統(tǒng)的靈敏度，當(dāng) 下一個計數(shù)率或峰面積等于或大于前一個(或平均或占用前)的計數(shù) 率或峰面積加它的5個西格瑪，即輸出報警。同樣，如杲有一放射源， 其射線被探測到的計數(shù)率或其峰面積的真值為此時本底計數(shù)率或峰面 積(對應(yīng)區(qū))的5個西格瑪，且系統(tǒng)閾值設(shè)置在5個西格瑪，則按統(tǒng) 計規(guī)律，該源被探測的準(zhǔn)確率為50%,也為一般標(biāo)準(zhǔn)所要求；同理因 統(tǒng)計規(guī)律，靈敏度等指標(biāo)與探測的時間和物體移動速度等因素相關(guān)。 當(dāng)被檢測物體通過放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201時，如果測量到的射線計數(shù)率或能譜變化程度高于設(shè)定值，放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201輸出報警 信息。根據(jù)系統(tǒng)探測到的射線能量特征(能譜)，可以判別放射性物 質(zhì)的類別以及具體的核素。具體而言，能譜即按探測到的射線能量的 大小記錄的二維譜，如譜儀事先經(jīng)過能量刻度，如用241Am(特征能量 59KeV…)、137Cs(特征能量661. 6KeV…)、60Co(特征能量1173. 2KeV、 1 332. 5KeV)，其全能峰對應(yīng)的能量都是已知的；對未知源的探測，如 能譜中出現(xiàn)峰或通過數(shù)學(xué)解謙得到峰位，經(jīng)刻度系數(shù)轉(zhuǎn)換為能量，即 可知該峰的來源核素，當(dāng)然很多核素有多個特征峰，且其分之比固定， 但因自吸收、探測效率、屏蔽、千擾、多核素重疊等因素，探測到的 峰面積比差異會很大。
回到圖3，圖中下方的灰色譜線是環(huán)境本底的能譜，主要由宇宙射 線和環(huán)境中的天然放射性物質(zhì)構(gòu)成。位于灰色譜線之上的黑色譜線是 包含環(huán)境本底和X光檢測設(shè)備202無鉛簾屏蔽及工作時，放射性物質(zhì) 監(jiān)測設(shè)備201檢測到的能譜。在黑色能譜中，在低道數(shù)，即低能量區(qū) 顯示出很高的計數(shù)率。這是因為所述的散射射線在X光檢測設(shè)備202 中經(jīng)過一次或多次散射后損失了大量能量，所以其能量主要集中在低 能區(qū)。而被檢物體如含有放射性物質(zhì)時，其射線能量通常會高于圖中 所示的低能區(qū)。也就是說，被檢物體發(fā)出的射線能量與X光散射射線 處于不同的能量區(qū)中。
根據(jù)本發(fā)明的 一 個實施例，在黑色能譜曲線從高計數(shù)率到平穩(wěn)低計 數(shù)率的拐點處設(shè)置了檢測低限(LLD)。檢測低限通過數(shù)字電路依據(jù)具 體探測器射線能量范圍的要求及靈敏度指標(biāo)進行靈活的動態(tài)設(shè)置。根
據(jù)確定的能量限，即可確定檢測低限。具體而言，經(jīng)刻度的能譜，能 量與道數(shù)相對應(yīng)，有確定的能量限即有確定檢測低限。在一般標(biāo)準(zhǔn)中， 對不同源的檢測靈敏度要求不同，而靈敏度與本底的計數(shù)率或?qū)?yīng)區(qū) 間面積相關(guān)，因而為滿足相應(yīng)源的靈敏度要求，可以有針對性地調(diào)整 ;險測^f氐限，如60Co的特4正峰在1MeV以上，因而對計數(shù)系統(tǒng)而言，通 過提高檢測低限，降低本底計數(shù)，即可提高探測60Co源的靈敏度。同 時可確定探測能區(qū)內(nèi)本底和包含X光檢測設(shè)備工作時的系統(tǒng)的計數(shù)率 及能譜，并計算出系統(tǒng)探測該能區(qū)的靈敏度及與X光檢測設(shè)備不工作 時的靈敏度差異量。通過設(shè)定這個檢測低限，放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備201 不記錄低于該檢測低限的低能散射射線，只記錄高能放射性射線，從
9而減少了散射射線對放射性物質(zhì)監(jiān)測的影響。
在X光檢測設(shè)備工作時，因鉛簾的開啟、貨物進出及大小、質(zhì)量 的不同，可能造成散射射線往高能區(qū)堆積，造成計數(shù)率和譜型的奇變，
從而給檢測低限的設(shè)定帶來困難。從圖3可見，在上述低能區(qū)的表示 散射射線能量的部分黑色能譜是連續(xù)的、無明顯特征峰的、呈指數(shù)下 降型的光滑能譜。相反，所有放射性物質(zhì)的射線能譜均應(yīng)呈現(xiàn)有特征 峰和有結(jié)構(gòu)的能譜。因此，對通過使用多道脈沖幅度分析器來檢測所 述被檢物體發(fā)出的放射性射線能譜的放射性物質(zhì)檢測系統(tǒng)，通過對黑 色能譜進行數(shù)字濾波技術(shù)和光滑處理、能量標(biāo)定、解譜等技術(shù)處理， 可以將包含散射射線的連續(xù)光滑的本底譜濾掉，從而減小散射射線對 放射性物質(zhì)監(jiān)測的影響。所述的數(shù)字濾波技術(shù)包括多種形式，如設(shè)計 一個高通低阻濾波器F0用來轉(zhuǎn)換能譜，如Bj-F(Ai) i = 1， 2, 3， ...1 024，此處Ai為原始獲取能譜，Bj為經(jīng)濾波能譜。由于探測 器測量射線的能量分辨是固定和已知的(通過刻度)，因此所選濾波 器的頻語是已知的。利用上述數(shù)字濾波技術(shù)補充檢測低限的設(shè)置，可 以降低解語和尋峰、峰識別的難度。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以想到將使用重金屬材料對X射線的屏蔽方 案應(yīng)用于各個實施例中。以及，可以將以上設(shè)置屏蔽體和設(shè)置檢測低 限等實施方式單獨和組合使用。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員還可以在不脫 離本發(fā)明整體構(gòu)思的條件下想出各種變型和替換方案，其都在本申請 的保護范圍之內(nèi)。術(shù)語"包括/包含，，并不排除所列元件/步驟之外的 元件/步驟，"一個/一種，，不排除包含多個的情況。
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權(quán)利要求
1.一種用于對被檢物體進行放射性物質(zhì)探測和X光輻射成像的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括X光檢測設(shè)備，用于對被檢物體進行X光輻射成像檢查；放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備，與所述X光檢測設(shè)備相鄰放置，用于檢測所述被檢物體發(fā)出的放射性射線；其特征在于，該系統(tǒng)還包括用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置。
2. 如權(quán)利要求l所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述用于阻擋X光輻 射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置包括部分包圍所述放射性物質(zhì) 監(jiān)測設(shè)備以便阻擋所述X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的遮蔽 體，所述遮蔽體具有一邊開口使被檢物體發(fā)出的放射性射線通過所述 開口到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備。
3. 如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述遮蔽體的形狀是 從由以下各種形狀組成的組中選出的馬蹄形、C型和具有一邊開口的 多邊形。
4. 如權(quán)利要求l所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括傳送 裝置，用于將被檢物體從接受放射性物質(zhì)監(jiān)測的位置傳送到所述的X 光檢測設(shè)備；
5. 如權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述開口的軸線與所 述被檢物體的傳送方向之間具有一夾角，以便正確的檢測所述被檢物 體發(fā)出的放射性射 線。
6. 如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述夾角在30到60度之間。
7. 如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述夾角為45度。
8. 如權(quán)利要求l所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述用于阻擋X光輻 射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置包括單向遮蔽體，所述單向遮 蔽體被置于所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備與X光檢測設(shè)備之間，用于遮擋 所述X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備。
9. 如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述單向遮蔽體包括 用于遮擋所述X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的一字型遮蔽體。
10. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和所述用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置 被置于所述X光檢測設(shè)備的入口處。
11. 如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特4正在于，所述》文射性物質(zhì)監(jiān) 測設(shè)備和所述用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置 -波置于所述X光4全測i殳備的入口處的上側(cè)、下側(cè)、左側(cè)、右側(cè)、或其組合。
12. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述放射性物質(zhì)監(jiān) 測設(shè)備和所述用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置 被置于所述X光檢測設(shè)備的出口處。
13. 如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述放射性物質(zhì)監(jiān) 測設(shè)備和所述用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置 被置于所述X光4企測設(shè)備的出口處的上側(cè)、下側(cè)、左側(cè)、右側(cè)、或其 組合。
14. 如權(quán)利要求1 - 13任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述用 于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置是由重金屬制成 的。
全文摘要
本發(fā)明涉及放射性物質(zhì)探測和X光輻射成像領(lǐng)域，提供了一種用于在同一地點進行對被檢物體進行放射性物質(zhì)探測和X光輻射成像的集成系統(tǒng)，解決了現(xiàn)有技術(shù)中兩種檢測必須分開進行的技術(shù)問題。本發(fā)明中的集成系統(tǒng)包括X光檢測設(shè)備，用于對被檢物體進行X光輻射成像檢查；放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備，用于檢測所述被檢物體發(fā)出的放射性射線；以及用于阻擋X光輻射到達所述放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備的裝置。本發(fā)明實現(xiàn)了兩種檢測的緊湊集成，大大節(jié)約了空間、時間資源，避免了由于在放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和X光檢測設(shè)備之間不斷運送貨品導(dǎo)致的人力、物力上的浪費。
文檔編號G01N23/00GK101539557SQ20081010214
公開日2009年9月23日 申請日期2008年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月18日
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