專利名稱：等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性的測試裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種保護(hù)膜性能測試方法及其裝置，尤其是一種等 離子顯示屏保護(hù)膜的性能測試的方法及其裝置，具體的說是等離子顯示 屏保護(hù)膜耐濺射性的測試裝置。
背景技術(shù)：
目前，在等離子顯示屏(PDP)技術(shù)中，惰性放電氣體被密封在分別 具有掃描電極和尋址電極的前、后基板中，放電氣體被電離成等離子體， 在此電離過程中放電氣體被激發(fā)發(fā)射出紫外線，并且紫外線激發(fā)在特定 位置放置的熒光粉發(fā)射可見光。
在前、后基板的掃描電極和尋址電極的表面需要形成一層厚度約 20 30um的介質(zhì)層，儲存壁電荷以維持氣體放電，同時也起絕緣作用。 當(dāng)電極間被施加特定波形的高頻交流電壓時，放電氣體被電離成等離子 體，陽離子會射向陰極電極，而制作介質(zhì)層的材料，通常耐離子轟擊能 力很差。為了不使介質(zhì)層被離子轟擊而迅速破壞，在介質(zhì)層表面還需要 再覆蓋一層保護(hù)膜，以保護(hù)介質(zhì)層不受陽離子的轟擊。由于保護(hù)膜直接 和放電氣體接觸，保護(hù)膜的電氣性能對等離子顯示屏的性能也有很大影 響，這種保護(hù)膜要有很高的耐濺射性。目前，測試保護(hù)膜的耐濺射性，通常有兩種方法
第一種方法，是直接通過長時間點亮等離子顯示屏來測試保護(hù)膜的 耐濺射性，在等離子顯示屏封屏前測量保護(hù)膜的厚度，將等離子屏接到 老煉電路上，用高于正常驅(qū)動電路頻率的電路來點亮等離子屏。在經(jīng)過 長時間的老煉后，打開等離子屏，再次測量保護(hù)膜的厚度，用封屏前測 得的厚度值減掉老煉后測得的厚度值可以得到保護(hù)膜被離子轟擊濺射掉 的厚度。
這種方法需要經(jīng)過數(shù)千小時的老煉才可以得到結(jié)果，不能及時的獲 知測試結(jié)果，效率不高。
第二種方法，將保護(hù)膜制備在玻璃基片上，測量保護(hù)膜的厚度，然 后將玻璃基片放置到離子源下，在真空室里用離子源轟擊玻璃基片，經(jīng) 過一定時間后再測量被轟擊過的保護(hù)膜厚度，對比兩次測量厚度差可以 得到被離子轟擊掉的保護(hù)膜厚度。
這種方法的采用的離子源轟擊的模式和保護(hù)膜在等離子屏里面受離 子轟擊的模式完全不同。由于保護(hù)膜材料是絕緣體，在受到離子轟擊后 表面會積累正電荷而排斥后續(xù)離子，因此需要大幅度提高離子束強(qiáng)度， 這樣測試得到的結(jié)果不能完全代表保護(hù)膜的性能，測試結(jié)果不準(zhǔn)確。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型目的是針對目前測試等離子顯示屏保護(hù)膜的耐濺射性的 方法，所存在的測試周期過長，測試模式與保護(hù)膜實際工作模式差別過 大造成效率低、測試結(jié)果不準(zhǔn)確的問題，提供了一種可以高效高速并且 測試方法模式與保護(hù)膜實際工作模式類似的等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射 性的測試裝置。
本實用新型的技術(shù)方案是-
一種等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性的測試裝置，其特征是它包括射 頻濺射鍍膜機(jī)、循環(huán)冷水裝置、靶、電極和節(jié)流閥，靶安裝在射頻濺射 鍍膜機(jī)的腔體內(nèi)，電極安裝在靶的上側(cè)，循環(huán)冷水裝置安裝在電極的上 側(cè)，節(jié)流閥安裝在射頻濺射鍍膜機(jī)的外殼上。
本實用新型的有益效果-
1、 本實用新型采用射頻濺射鍍膜機(jī)，可以較近似的模擬等離子顯示 屏保護(hù)膜的工作狀態(tài)，能夠高效、準(zhǔn)確的進(jìn)行保護(hù)膜耐濺射性的測試。
2、 本實用新型采用金屬掩膜覆蓋部分保護(hù)膜，使被覆蓋的部分完全 不受離子濺射，這樣測量被濺射掉的厚度值準(zhǔn)確性。
3、 本實用新型采用高頻濺射鍍膜方法模擬等離子屏保護(hù)膜受離子轟 擊的模式，兩種狀態(tài)工作原理基本相同，由于采用高頻電場，無需考慮 由于保護(hù)膜為絕緣體，受離子轟擊后一段時間會產(chǎn)生正電荷積累而排斥后續(xù)正離子的現(xiàn)象?？梢宰杂蛇x擇離子轟擊能量，真實的反應(yīng)出保護(hù)膜 的耐濺射性能，測試結(jié)果準(zhǔn)確，高速高效。


圖1是本實用新型的等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性測試裝置示意圖。
圖2是本實用新型的等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性的測試示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖1- 2和實施例對本實用新型作進(jìn)一步的說明。 一種等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性測試方法，其特征是它包括以下
步驟
a. 在玻璃基片1上鍍制保護(hù)膜2;
b. 在鍍有保護(hù)膜2的玻璃基片1上貼敷特定形狀的金屬掩膜4，保 護(hù)膜2的一部分被貼敷的金屬掩膜4覆蓋，另一部分沒有被貼敷的金屬 掩膜4覆蓋，將貼敷有金屬掩膜4的玻璃基片1放在射頻濺射鍍膜機(jī)3 的靶6位置上；
c. 打開射頻濺射鍍膜機(jī)3的節(jié)流閥10引入工作氣體；
d. 打開射頻濺射鍍膜機(jī)3開始放電，工作氣體受激發(fā)產(chǎn)生工作氣體 離子8對貼敷有金屬掩膜4的玻璃基片1進(jìn)行高頻離子濺射；
e. 濺射一段時間后，將去除金屬掩膜4的玻璃基片l放到表面形貌200820038602.6
測定儀上測量被金屬掩膜4覆蓋部分和未被金屬掩膜4覆蓋的保護(hù)膜2 的厚度差；
f.用厚度差除以濺射時間，得到保護(hù)膜的濺射率，從而完成保護(hù)膜 耐濺射性的測試。
一種等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性的測試裝置，其特征是它包括射 頻濺射鍍膜機(jī)3、循環(huán)冷水裝置5、靶6、電極7和節(jié)流閥10，靶6安裝 在射頻濺射鍍膜機(jī)3的腔體內(nèi)，電極7安裝在靶6的上側(cè)，循環(huán)冷水裝 置5安裝在電極7的上側(cè)，節(jié)流閥10安裝在射頻濺射鍍膜機(jī)3的外殼上。
具體實施時
首先將保護(hù)膜2制備在玻璃基片1上，保護(hù)膜2厚度約1000 1500nm，然后在保護(hù)膜2表面貼敷一層厚度較厚，濺射產(chǎn)額很低的金屬 掩膜4，利用部分遮擋，使部分保護(hù)膜2的表面完全沒有被金屬掩膜4 覆蓋。其次，將玻璃基片1安裝到射頻濺射鍍膜機(jī)3的靶6位置上，靶 6上裝有循環(huán)冷水裝置5,可以調(diào)整靶6的溫度，使之與實際等離子屏工 作狀態(tài)下溫度相當(dāng)，同時該射頻濺射鍍膜機(jī)3帶有高頻濺射功能，從節(jié) 流閥10引入工作氣體氬氣，氣體壓強(qiáng)為67Pa，可以施加lOOKHz的高頻 電場于靶6下方的電極7上，同時為保證一定的離子轟擊能量，濺射能 量密度10W/cm2。然后打開射頻濺射鍍膜機(jī)3開始放電，產(chǎn)生工作氣體離 子8,使其以幾百電子伏特的能量轟擊位于靶6上的玻璃基片1,當(dāng)濺射 在設(shè)定功率下進(jìn)行一定時間后，停止濺射并取出玻璃基片1。最后，將貼敷在玻璃基片1上的金屬掩膜4去除掉，使用測量精度為lmn的表面 形狀測定儀9測量被金屬掩膜4覆蓋的部分和未被掩膜覆蓋的保護(hù)膜2 的高度差，將此值除以濺射時間就可以得到此種保護(hù)膜的濺射率，對不 同種類的保護(hù)膜進(jìn)行相同測試條件下的對比就可以評價不同保護(hù)膜的耐 濺射性。
本實用新型未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
權(quán)利要求1、一種等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性的測試裝置，其特征是它包括射頻濺射鍍膜機(jī)(3)、循環(huán)冷水裝置(5)、靶(6)、電極(7)和節(jié)流閥(10)，靶(6)安裝在射頻濺射鍍膜機(jī)(3)的腔體內(nèi)，電極(7)安裝在靶(6)的上側(cè)，循環(huán)冷水裝置(5)安裝在電極(7)的上側(cè)，節(jié)流閥(10)安裝在射頻濺射鍍膜機(jī)(3)的外殼上。
專利摘要本實用新型的等離子顯示屏保護(hù)膜耐濺射性的測試裝置，其特征是在鍍有一定厚度的保護(hù)膜(2)的玻璃基片(1)上覆蓋具有特定形狀的金屬掩膜(4)，將玻璃基片(1)放入射頻濺射鍍膜機(jī)(3)中的靶(6)位置上以高頻濺射一定時間后，測量被金屬掩膜(4)遮擋的區(qū)域和未遮擋區(qū)域的保護(hù)膜(2)厚度差，可以計算出濺射速率，從而得出保護(hù)膜耐濺射性評估方法。本實用新型可以高效、準(zhǔn)確的測試等離子顯示屏保護(hù)膜的耐濺射性能，并且測試原理與等離子屏的工作原理較近似，結(jié)果可信度高。
文檔編號G01N33/00GK201247233SQ20082003860
公開日2009年5月27日 申請日期2008年8月14日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月14日
發(fā)明者孫青云, 朱立鋒, 霞 李, 林青園, 王保平 申請人:南京華顯高科有限公司