專利名稱：氣體濃度測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種氣體濃度的監(jiān)測裝置。
背景技術(shù)：
隨著工業(yè)的發(fā)展，工業(yè)排放逐年增大，對環(huán)境的污染也日趨嚴(yán)重， 對工業(yè)、企業(yè)污染排放的監(jiān)測至關(guān)重要。國家已經(jīng)制定相關(guān)法規(guī)，對 污染氣體排放進(jìn)行控制。目前，對二氧化硫、 一氧化氮等污染氣體的 監(jiān)測主要采用紅外分析技術(shù)，該技術(shù)測量、分析系統(tǒng)比較復(fù)雜，測量 精度受水汽等環(huán)境影響較大，影響了測量精度和性能，使其對一氧化 氮?dú)怏w濃度測量的發(fā)展受到制約。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的，是提供一種能對流動的氣體濃度進(jìn)行測量的 裝置。
本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。
一種氣體濃度測量裝置，它包括前部的光源、中間的氣池和后部 的光譜儀，組成一套氣體分析系統(tǒng)。在氣池的兩側(cè)分別裝有兩個(gè)透鏡，
透鏡外側(cè)有密封圈和螺紋套；由所述的螺紋套、密封圈、透鏡、氣池 組成密封氣路。
本實(shí)用新型能夠?qū)α鲃拥臍怏w濃度進(jìn)行測量，主要應(yīng)用于環(huán)保事 業(yè)中對有害氣體的濃度進(jìn)行監(jiān)測，提高了測量精度和性能。

附圖為本實(shí)用新型氣體濃度測量裝置的結(jié)構(gòu)組成示意圖。
圖中1、光源，2、螺紋套，3、密封圈，4、透鏡，5、氣池，6、透鏡，7、密封圈，8、螺紋套，9、光譜儀。
具體實(shí)施方式

參見附圖，本實(shí)用新型的氣體濃度測量裝置，由前部的光源l、 中間的氣池5和后部的光譜儀9三大部分組成一套氣體分析系統(tǒng)；中 間的氣池5，其兩側(cè)分別裝透鏡4、透鏡6;透鏡4外側(cè)有密封圈3 和螺紋套2;透鏡6外側(cè)有密封圈7和螺紋套8;由螺紋套2、密封 圈3、透鏡4、氣池5、透鏡6、密封圈7和螺紋套8依次組成密封氣 路。
由光源1發(fā)出光譜，經(jīng)過由螺紋套2、密封圈3、透鏡4、氣池5、 透鏡6、密封圈7和螺紋套8組成的密封氣路后，由光譜儀9對廣譜 進(jìn)行分析，得出被測氣體的濃度。
權(quán)利要求1.一種氣體濃度測量裝置，其特征在于它包括前部的光源(1)、中間的氣池(5)和后部的光譜儀(9)組成一套氣體分析系統(tǒng)；在氣池(5)的兩側(cè)分別裝有透鏡(4)、透鏡(6)；透鏡(4)的外側(cè)有密封圈(3)和螺紋套(2)；透鏡(6)的外側(cè)有密封圈(7)和螺紋套(8)；由所述的螺紋套(2)、密封圈(3)、透鏡(4)、氣池(5)、透鏡(6)、密封圈(7)和螺紋套(8)組成密封氣路。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種氣體濃度監(jiān)測裝置，是一種能對流動的氣體濃度進(jìn)行測量的裝置，主要應(yīng)用于環(huán)保事業(yè)中有害氣體濃度的監(jiān)測。該裝置由光源1發(fā)出光譜，經(jīng)過由螺紋套2、密封圈3、透鏡4、氣池5、透鏡6、密封圈7和螺紋套8組成的封閉的氣路后，由光譜儀9對光譜進(jìn)行分析，得出被測氣體濃度。
文檔編號G01N21/25GK201331492SQ20082017782
公開日2009年10月21日 申請日期2008年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月24日
發(fā)明者劉冬雪, 王昕竑, 剛 胡, 煒 郭 申請人:中科天融(北京)科技有限公司