專利名稱：具有分裂層壓板光耦合的輻射探測(cè)器的制作方法
具有分裂層壓板光耦合的輻射探測(cè)器
本發(fā)明一般地涉及輻射敏感探測(cè)器。雖然它被描述為特別適用于計(jì)算
機(jī)斷層攝影(CT)系統(tǒng)，但是它也涉及其他希望探測(cè)輻射并生成表示該輻 射的信號(hào)的應(yīng)用。
計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)系統(tǒng)包括圍繞檢查區(qū)域旋轉(zhuǎn)并發(fā)射橫穿檢查區(qū) 域的輻射的離子化輻射源以及接收橫穿檢查區(qū)域的輻射的輻射敏感探測(cè) 器。這種探測(cè)器包括二維光電傳感器陣列，該二維光電傳感器陣列具有多 行和多列光電傳感器元素(dixel)(探測(cè)器元件)，其相應(yīng)地光耦合和物理 耦合到具有多行和多列閃爍體像素的二維閃爍體陣列。閃爍體像素接收離 子化輻射并產(chǎn)生表示該輻射的光線。該光線橫穿所述耦合并且被相應(yīng)的光 電傳感器元素接收，該光電傳感器元素產(chǎn)生表示該光線的電信號(hào)。這些信 號(hào)被重建以生成表示檢查區(qū)域的體積圖像數(shù)據(jù)。
用于耦合閃爍體和光電傳感器陣列的材料包括光耦合材料(通常是環(huán) 氧樹脂)，其被用作液體膠水并隨后被固化以形成固體粘合。利用液體環(huán)氧 樹脂構(gòu)建探測(cè)器的技術(shù)包括將閃爍體陣列固定在適當(dāng)位置、(通過涂抹、擦 刷或毛細(xì)底層填充(capillary underfilling))將光學(xué)液體環(huán)氧樹脂施加到閃 爍體陣列的表面、將光電傳感器陣列安裝到液體環(huán)氧樹脂上從而將液體環(huán) 氧樹脂置于閃爍體陣列和光電傳感器陣列之間、以及現(xiàn)場(chǎng)固化該光學(xué)液體
遺憾的是，閃爍體和光電傳感器陣列的與環(huán)氧樹脂物理接觸的表面可 能包括不均勻性和不規(guī)則性。結(jié)果，在光電傳感器與閃爍體陣列之間的區(qū) 域中可能存在氣穴和/或間隙，并且粘合的厚度可能不均勻。因此，可能將 偽影引入到體積圖像數(shù)據(jù)中。另外，粘合層厚度的變化可能引起元素之間 的串?dāng)_的變化，使其補(bǔ)償變得復(fù)雜。此外，對(duì)液體膠水進(jìn)行混合、脫氣、 分配和預(yù)固化以使探測(cè)器陣列可從固化夾具中退出將占用相對(duì)較長(zhǎng)的手工 過程，伴隨著清潔過多的材料。本申請(qǐng)的各方面解決上述及其他問題。
根據(jù)一個(gè)方面， 一種輻射敏感探測(cè)器包括閃爍體陣列，該閃爍體陣列 經(jīng)由粘合層壓板耦合到具有多個(gè)元素的光電傳感器陣列。所述粘合層壓板 包括無材料區(qū)域，該無材料區(qū)域從閃爍體陣列穿過粘合層壓板延伸到光電 傳感器陣列并且位于一對(duì)相鄰元素之間。
在另一方面，通過以下步驟形成輻射敏感探測(cè)器，該探測(cè)器具有經(jīng)由 粘合層壓板耦合到閃爍體陣列的光電傳感器陣列將所述粘合層壓板的第 一粘合表面附接到所述光電傳感器陣列或所述閃爍體陣列二者中的一個(gè)， 在朝向所述光電傳感器陣列或所述閃爍體陣列的方向上形成穿過所述粘合 層壓板的一個(gè)或多個(gè)無材料區(qū)域，以及將所述粘合層壓板的第二粘合表面 附接到所述光電傳感器陣列或所述閃爍體陣列二者中的另 一個(gè)。將所述粘 合層壓板置于光電傳感器元素與相應(yīng)閃爍體元素之間并與二者光學(xué)耦合。
在另一方面， 一種方法包括將粘合層壓板附接到具有多于一個(gè)元素的 光電傳感器陣列或閃爍體陣列中的一個(gè)。該方法還包括在朝向所述光電傳 感器陣列或所述閃爍體陣列的方向上形成所述粘合層壓板中的無材料區(qū) 域。所述無材料區(qū)域延伸穿過所述粘合層壓板。該方法還包括將所述粘合 層壓板附接到所述光電傳感器陣列或所述閃爍體陣列二者中的另一個(gè)。
通過閱讀和理解下面詳細(xì)的描述，本領(lǐng)域的技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到本發(fā)明 的更多方面。
本發(fā)明可以呈現(xiàn)為各種部件和部件的布置以及各種步驟和步驟的布 置。附圖僅是用于圖示說明優(yōu)選實(shí)施例，而并不應(yīng)解釋為限制本發(fā)明。

圖1圖示說明一種示范性的成像系統(tǒng)； 圖2圖示說明閃爍體陣列；
圖3A、3B、3C和3D圖示說明在其上安裝有粘合層壓板的閃爍體陣列； 圖4圖示說明閃爍體陣列和粘合層壓板，其中將光電傳感器陣列安裝 在粘合層壓板上；
圖5圖示說明一種用于形成探測(cè)器陣列的 法。參考圖1，計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)系統(tǒng)100包括繞縱軸或Z軸圍著檢
査區(qū)域108旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)掃描架部分104。旋轉(zhuǎn)掃描架部分104支撐生成并發(fā) 射橫穿檢查區(qū)域108的輻射的X射線源112 (如X射線管)。
輻射敏感探測(cè)器陣列116以多個(gè)投影角或視角接收由源112發(fā)射的輻 射，從而至少在一百八十(180)度加上扇形角的角度下獲得投影。探測(cè)器 陣列116生成表示所探測(cè)的輻射的信號(hào)或投影數(shù)據(jù)。
圖示說明的探測(cè)器陣列116包括具有閃爍體陣列124的二維探測(cè)器 120，該閃爍體陣列124具有多行128和多列130的閃爍體像素132，這些 閃爍體像素經(jīng)由壓敏粘合層壓板144與光電傳感器陣列140的相應(yīng)的行134 和列138的元素136耦合。所發(fā)射的輻射被閃爍體像素132接收，閃爍體 像素132產(chǎn)生表示該輻射的光，該光橫穿粘合層壓板144并且被元素136 接收。元素136 (其可以是光電二極管、光電池(photoelement)等)產(chǎn)生 表示從相應(yīng)閃爍體像素132接收的光的信號(hào)。
為了簡(jiǎn)潔和清楚，閃爍體124被示出為具有四(4)行和四(4)列的 閃爍體像素132，并且圖示的元素行136包括四(4)個(gè)元素136。然而， 探測(cè)器120可以包括具有其他數(shù)量的閃爍體像素及元素的閃爍體和光電傳 感器陣列。例如，探測(cè)器120可以包括分別具有十六(16)行的每行十六 (16)個(gè)像素及元素的閃爍體和光電傳感器陣列，得到具有二百五十六 (256)個(gè)閃爍體像素/元素對(duì)的探測(cè)器陣列。在另一個(gè)示例中，閃爍體陣列 可以包括一個(gè)閃爍體像素，而光電傳感器陣列可以包括一個(gè)或多個(gè)元素。
如上簡(jiǎn)潔所述的，粘合層壓板144被用于耦合X射線閃爍體像素132 和元素136。粘合層壓板144包括光學(xué)傳導(dǎo)的雙側(cè)粘合層壓板或凝膠體，該 雙側(cè)粘合層壓板或凝膠體包括一個(gè)或多個(gè)無材料區(qū)域如一個(gè)或多個(gè)槽、孔 和/或其他無材料區(qū)域，如下面更詳細(xì)地描述。在一個(gè)實(shí)現(xiàn)方式中，將無材 料區(qū)域配置為使粘合層壓板144可以變形以更緊密地符合X射線閃爍體陣 列124和光電傳感器陣列140的表面形狀。
重建器148重建由探測(cè)器116生成的投影數(shù)據(jù)以生成體積圖像數(shù)據(jù)。 該體積圖像數(shù)據(jù)表示檢查區(qū)域108內(nèi)的對(duì)象。
通用計(jì)算機(jī)用作操作員控制臺(tái)152。該控制臺(tái)152包括人類可讀的輸出 設(shè)備如監(jiān)控器或顯示器以及輸入設(shè)備如鍵盤和鼠標(biāo)?？刂婆_(tái)上存在的軟件允許操作員通過例如圖形用戶界面(GUI)控制掃描器100并與其交互。
對(duì)象支撐臺(tái)156 (如躺椅)支撐檢査區(qū)域108中的患者或其他對(duì)象。對(duì) 象支撐臺(tái)156是可移動(dòng)的，從而在執(zhí)行掃描程序的同時(shí)相對(duì)于檢查區(qū)域108 引導(dǎo)該對(duì)象。
如上所述，探測(cè)器120包括閃爍體陣列124和光電傳感器陣列140， 二 者經(jīng)由粘合層壓板144光學(xué)地和物理地耦合。圖2、圖3A和圖4分別圖示 說明閃爍體陣列124、安裝有粘合層壓板144的閃爍體陣列124以及包括閃 爍體陣列124、粘合層壓板144和光電傳感器陣列140的探測(cè)器120的透視 截除視圖。
首先參考圖2，閃爍體陣列124包括接收輻射的第一主表面204以及表 示該輻射的光傳送穿過的第二主表面208。如所示，相鄰閃爍體像素132通 過分離器212彼此分離。分離器212可以包括諸如反光材料的材料，該反 光材料便于使閃爍體像素132彼此光學(xué)分離或隔離并且提高光電傳感器陣 列140的元素136的光探測(cè)效率。作為替換，光吸收材料可以被用于使閃 爍體像素132彼此光學(xué)分離或隔離。在圖示說明的示例中，每個(gè)像素具有 大約一 (1)至二 (2)毫米(mm)的寬度和長(zhǎng)度，且每個(gè)分離器212具有 大約一百(100)微米至大約三百(300)微米的寬度。在其他實(shí)施例中， 像素和分離器212可以更厚或更薄。
如上所述，閃爍體陣列124的光發(fā)射表面208可以包括不均勻性和不 規(guī)則性。因此，在圖示說明的實(shí)施例中，表面208是彎曲的，這是因?yàn)樗?在從兩個(gè)閃爍體132之間的區(qū)域216沿著行128向外的方向上從區(qū)域216 向下傾斜，因此表面208是不平坦的。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到示出表面208的圖示曲 率僅用于解釋的目的，而表面208可以具有不同的或附加的不均勻性和不 規(guī)則性。
轉(zhuǎn)向圖3A，示出了與壓敏粘合層壓板144耦合的X射線閃爍體陣列 124的切除部分。在這一示例中，粘合層壓板144的厚度是大約一百二十五 (125)微米。在其他實(shí)施例中，粘合層壓板144可以更厚或更薄。粘合層 壓板144包括分別用于粘合閃爍體陣列124和光電傳感器陣列140的第一 壓敏粘合側(cè)220和第二壓敏粘合側(cè)224。如所示，第一壓敏粘合側(cè)220物理 耦合到閃爍體陣列124的第二表面208。如所示，無材料區(qū)域228相對(duì)于分離器212選擇性地定位。在這一實(shí) 施例中，無材料區(qū)域228的寬度符合分離器212的寬度。作為示例，假設(shè) 每個(gè)分離器212具有大約二百(200)微米的寬度，則每個(gè)圖示的無材料區(qū) 域228具有大約二百(200)微米的寬度，該寬度相對(duì)分離器212的寬度近 似處于中心。在其他實(shí)施例中，無材料區(qū)域的寬度可以大于或小于分離器 212的寬度。
在這一示例中，在所有相鄰的像素132之間形成無材料區(qū)域228，得到 在多行和多列閃爍體元素132之間連續(xù)延伸的一組無材料區(qū)域228。然而， 應(yīng)該認(rèn)識(shí)到可以另外地配置無材料區(qū)域228。例如，圖3B提供一個(gè)示例， 其中在處于成組的四(4)個(gè)元素132之間的粘合層壓板144中形成無材料 區(qū)域228。圖3C提供另一個(gè)示例，其中無材料區(qū)域228僅在多行的閃爍體 像素132之間行進(jìn)。圖3D提供另一個(gè)示例，其中在相鄰的元素132之間 形成通過粘合層壓板144彼此分離的單獨(dú)無材料區(qū)域228。也可預(yù)期到其他 無材料區(qū)域的配置。
無材料區(qū)域228增加粘合層壓板144在橫向方向的柔性或可彎性。在 一個(gè)示例中，這允許粘合層壓板144橫向增大或變形到無材料區(qū)域22S內(nèi)， 從而粘合層壓板144符合閃爍體124表面的任何不規(guī)則性和不均勻性，諸 如表面208中的彎曲。無材料區(qū)域228也減少閃爍體像素132之間的光學(xué) 串?dāng)_，該光學(xué)串?dāng)_源自于光線橫穿粘合層壓板144的本體到達(dá)相鄰的元素 136而非達(dá)到相應(yīng)的元素136。
適當(dāng)?shù)姆窍拗菩缘恼澈蠈訅喊灏ň哂邢喾吹膲好粽澈媳砻娴墓鈱W(xué)清 潔、光學(xué)傳導(dǎo)和透光的丙烯酸。這種粘合層壓板可以包括一些光學(xué)特性， 諸如大約1.47的折射率、大約百分之九十八(98%)或更大的可見光透射 和/或大約百分之九十八(98%)或更大的清晰度。這種粘合層壓板的非限 制性示例包括ARclear 8154，其為美國Glen Rock, PA的Adhesives Research, Inc.的產(chǎn)品。
. 現(xiàn)在轉(zhuǎn)向圖4，示出閃爍體陣列124，其具有粘合層壓板144和安裝在 粘合層壓板144上的光電傳感器陣列140。如下面更詳細(xì)地描述，光電傳感 器陣列140以一種方式安裝以減少光電傳感器陣列140與粘合層壓板之間 以及由此而來的閃爍體陣列124與光電傳感器陣列140之間的氣穴和間隙。注意到在圖示說明的示例中，粘合層壓板144在多個(gè)地方突出到無材料區(qū)
域228內(nèi)以補(bǔ)償表面208的彎曲。
任選地，在將閃爍體陣列124和光電傳感器陣列140附接到粘合層壓 板144之后，將填充物材料232施加到無材料區(qū)域228中，以幫助進(jìn)一步 減少像素132之間的光學(xué)串?dāng)_。在這一實(shí)施例中，填充物材料232包括具 有炭黑、黑顏料或其他光吸收材料以及環(huán)氧樹脂的柔性復(fù)合物。作為替代， 填充物材料可以包括不透明的反射器。非限制性的適當(dāng)不透明反射器包括 25-50%的二氧化鈦(Ti02)及環(huán)氧樹脂如Epo-tek301的復(fù)合物，Epo-tek301 為美國Billerica MA的Epoxy Technology, Inc.提供的雙部件光學(xué)清潔的環(huán)氧 樹脂粘合劑。
圖5描述了用于經(jīng)由粘合層壓板144光學(xué)耦合閃爍體陣列124和光電 傳感器陣列140的方法。在參考數(shù)字504處，將粘合層壓板144安裝到閃 爍體陣列124的表面208上。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到可以獲得作為置于可移除聚合物 載體襯板之間的雙側(cè)粘合層壓板薄片的粘合層壓板144，所述聚合物載體襯 板大體維持第一粘合表面220和第二粘合表面224的整體性。在這一示例 中，可移除地附接到安裝在閃爍體陣列124上的粘合層壓板144的一側(cè)的 襯板被移除，從而可以將粘合層壓板144安裝到表面208上?；蛘?，可提 供作為例如一巻雙側(cè)粘合層壓板等的粘合層壓板144。
在安裝過程中選擇性地對(duì)粘合層壓板144施加朝向閃爍體124的壓力， 以使粘合層壓板144符合并粘附到閃爍體124的表面208，包括表面208中 的不均勻性和不規(guī)則性。例如，在此示出的表面208具有大致凸起形狀的 曲面。這樣，此壓力可以開始于對(duì)應(yīng)于區(qū)域216的區(qū)域并且在相反方向上 沿著彎曲向外移動(dòng)。以這種方式，當(dāng)安裝層壓板144時(shí)可以排出空氣。如 果表面208是相反的大致凹入的形狀，則作為替換壓力可以開始于彎曲表 面的第一外部末端附近并且橫穿表面208朝向第二外部末端移動(dòng)。其他技 術(shù)可以用于凸起和凹入形狀的表面以及其他形狀的表面。
在508，在粘合層壓板144中形成無材料區(qū) 228。在一個(gè)示例中，采 用通過電流或其他方式加熱的適當(dāng)尺寸金屬絲的熱絲成形被用于形成無材 料區(qū)域228。利用這種技術(shù)，首先形成在第一方向大致平行的第一組無材料 區(qū)域。然后，形成第二組大致平行的無材料區(qū)域，其與第一組平行的無材料區(qū)域大致正交。作為替代，第一無材料區(qū)域和第二無材料區(qū)域是同時(shí)形
成的。用于形成無材料區(qū)域228的其他適當(dāng)技術(shù)包括激光消融、劃線 (scrbing)等。無材料區(qū)域具有兩種全異的功能。首先，無材料區(qū)域228 允許粘合層壓板144變形進(jìn)入無材料區(qū)域228內(nèi)，從而粘合層壓板144符 合表面不規(guī)則性和不均勻性并且排出滯留在粘合層壓板144與閃爍體124 之間的空氣。其次，無材料區(qū)域228防止覆蓋相鄰元素136的層壓板之間 的光學(xué)接觸并且減少穿過層壓板的串?dāng)_。
在512，將光電傳感器陣列140安裝到粘合層壓板144上。與粘合層壓 板144 一樣，可以選擇性地在朝向閃爍體陣列124的方向?qū)怆妭鞲衅麝?列140施加壓力，以便將粘合層壓板144的表面228粘附到光電傳感器陣 列140，包括使粘合層壓板144變形或定形以符合表面的不均勻性和不規(guī)則 性并且排出處于粘合層壓板144與光電傳感器陣列140之間的空氣。
在516，根據(jù)需要將填充物材料232施加到無材料區(qū)域228中。可以使 用各種技術(shù)來施加材料232，包括毛細(xì)底層填充、絲網(wǎng)印刷、涂抹和擦刷以 及其他技術(shù)。
應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，相對(duì)于非層壓粘合，使用粘合層壓板144可以降低成本、 生產(chǎn)時(shí)間和加工步驟，因?yàn)榉菍訅赫澈闲枰渌念A(yù)安裝和后安裝步驟， 如混合、脫氣、分配、固化和/或清潔。
現(xiàn)在描述各變型。 在上述方法中，首先將粘合層壓板144安裝在X射線閃爍體124上， 然后將光電傳感器陣列140安裝在粘合層壓板144上。然而，應(yīng)該認(rèn)識(shí)到 作為替換，可以首先將粘合層壓板144安裝在光電傳感器陣列140上，然 后接著可以將閃爍體124安裝在粘合層壓板144上。
在另一個(gè)實(shí)施例中，在安裝粘合層壓板144之前形成無材料區(qū)域228。 在一個(gè)示例中，這可以通過從一張粘合層壓板144上去除載體襯板并且如 本文所述在粘合層壓板144中形成無材料區(qū)域228來實(shí)現(xiàn)。作為替代，在 粘合層壓板144中形成無材料區(qū)域228，而不用首先去除襯板。
針對(duì)上面圖3D所示的配置，可以使用模具等來預(yù)形成該板中的單獨(dú)無 材料區(qū)域228，去除或不去除襯板，以生成穿孔的粘合層壓板。然后該粘合 層壓板可以對(duì)齊并安裝到X射線閃爍體陣列124 (或光電傳感器陣列140)上。然后，光電傳感器陣列140 (或X射線閃爍體陣列124)可以安裝到預(yù)先開槽的粘合層壓板144上。
無材料區(qū)域228可以具有不同的形狀。例如，它們可以是橢圓形、圓形、三角形或其他形狀。
如上所述，在經(jīng)由粘合層壓板144光學(xué)耦合X射線閃爍體陣列124和光電傳感器陣列140之后，可以用填充物材料232來填充無材料區(qū)域228。在備選實(shí)施例中，在無材料區(qū)域228形成之后、但在粘合層壓板144被粘附到X射線閃爍體陣列124或光電傳感器陣列140之前，利用材料323填充無材料區(qū)域228。
在另一個(gè)實(shí)施例中，省略填充物材料232。
前述內(nèi)容及其變型的應(yīng)用包括但不限于計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)以及其他醫(yī)學(xué)和非醫(yī)學(xué)應(yīng)用，例如PET、 X射線、y射線等應(yīng)用，其利用輻射敏感探測(cè)器來探測(cè)輻射并產(chǎn)生表示該輻射的信號(hào)。
已經(jīng)通過參考優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明。本領(lǐng)域技術(shù)人員通過閱讀和理解前面詳細(xì)的說明書容易想到各種修改和變化。希望將本發(fā)明解讀為包括所有這些修改和變化，只要它們處于隨附的權(quán)利要求及其等價(jià)物的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種輻射敏感探測(cè)器(120)，包括閃爍體陣列(124)；光電傳感器陣列(140)，其具有多個(gè)元素(136)；和粘合層壓板(144)，將其置于所述閃爍體陣列(124)與所述光電傳感器陣列(144)之間并且與二者物理耦合，其中，所述粘合層壓板(144)包括無材料區(qū)域，該無材料區(qū)域從所述閃爍體陣列(124)穿過所述粘合層壓板(144)延伸到所述光電傳感器陣列(140)并且位于一對(duì)相鄰元素(136)之間。
2、 如權(quán)利要求l所述的探測(cè)器(120)，其中，所述無材料區(qū)域(228) 在兩行或兩列所述元素(136)之間延伸。
3、 如權(quán)利要求1所述的探測(cè)器(120)，其還包括在多行和多列元素(136) 之間延伸的多個(gè)無材料區(qū)域(228)。
4、 如權(quán)利要求l所述的探測(cè)器(120)，其中，所述無材料區(qū)域圍繞元 素(136)。
5、 如權(quán)利要求l所述的探測(cè)器(120)，其中，所述無材料區(qū)域位于相 鄰的包含兩個(gè)或更多個(gè)元素(136)的組之間。
6、 如權(quán)利要求l所述的探測(cè)器(120)，其中，所述閃爍體陣列(124) 包括多個(gè)閃爍體像素(132)和置于它們之間的分離器(212)，并且其中， 所述無材料區(qū)域位于分離器(212)旁邊并處于相鄰閃爍體像素(132)之 間。
7、 如權(quán)利要求7所述的探測(cè)器(120)，其中，所述無材料區(qū)域的寬度 約等于或小于所述分離器(212)的寬度。
8、 如權(quán)利要求l所述的探測(cè)器(120)，其中，所述無材料區(qū)域的寬度 在從約100微米至約300微米的范圍內(nèi)。
9、 如權(quán)利要求l所述的探測(cè)器(120)，其中，所述粘合層壓板(144) 是橫向可變形的。
10、 如權(quán)利要求1所述的探測(cè)器(120)，其中，所述粘合層壓板(144) 是壓敏光學(xué)粘合層壓板。
11、 如權(quán)利要求1所述的探測(cè)器(120)，其中，所述粘合層壓板(144) 具有約125微米的厚度。
12、 如權(quán)利要求1所述的探測(cè)器(120)，其中，所述粘合層壓板(144) 具有約1.47的折射率、約98%或更大的可見光透射以及約98%或更大的清 晰度。
13、 如權(quán)利要求1所述的探測(cè)器(120)，其還包括成像裝置(100)， 該成像裝置包括所述探測(cè)器(120)。
14、 一種輻射敏感探測(cè)器，其具有經(jīng)由粘合層壓板(144)與閃爍體陣 列(124)耦合的光電傳感器陣列(140)，所述探測(cè)器通過以下步驟形成將所述粘合層壓板(144)的第一粘合表面附接到所述光電傳感器陣列 (140)或所述閃爍體陣列(124) 二者中的一個(gè)；在朝向所述光電傳感器陣列(140)或所述閃爍體陣列(124)的方向 上形成穿過所述粘合層壓板(144)的一個(gè)或多個(gè)無材料區(qū)域；以及將所述粘合層壓板(144)的第二粘合表面附接到所述光電傳感器陣列 (140)或所述閃爍體陣列(124) 二者中的另一個(gè)，其中，將所述粘合層壓板(144)置于所述光電傳感器陣列(140)與 所述閃爍體陣列(124)之間并與二者光學(xué)耦合。
15、 如權(quán)利要求14所述的探測(cè)器，還包括在將所述粘合層壓板附接到 所述光電傳感器陣列(140)和所述閃爍體陣列(124)之前形成所述一個(gè) 或多個(gè)無材料區(qū)域。
16、 如權(quán)利要求14所述的探測(cè)器，還包括使用熱絲來形成所述一個(gè)或 多個(gè)無材料區(qū)域。
17、 如權(quán)利要求14所述的探測(cè)器，還包括使用激光消融來形成所述一 個(gè)或多個(gè)無材料區(qū)域。
18、 如權(quán)利要求14所述的探測(cè)器，還包括使用劃線器來形成所述一個(gè) 或多個(gè)無材料區(qū)域。
19、 如權(quán)利要求14所述的探測(cè)器，還包括在將所述粘合層壓板(144) 附接到所述光電傳感器陣列(140)與所述閃爍體陣列(124)之后用填充 物材料填充所述一個(gè)或多個(gè)無材料區(qū)域。
20、 如權(quán)利要求20所述的探測(cè)器，其中，所述填充物材料是吸收光的 材料。
21、 如權(quán)利要求20所述的探測(cè)器，其中，所述填充物材料是反射光的 材料。
22、 一種方法，包括將粘合層壓板(144)附接到具有至少一個(gè)光電池(136)的光電傳感 器陣列(140)或閃爍體陣列(124) 二者中的一個(gè)；在朝向所述光電傳感器陣列(140)或所述閃爍體陣列(124)的方向 上形成在所述粘合層壓板(144)中的無材料區(qū)域，其中，所述無材料區(qū)域 延伸穿過所述粘合層壓板(144);以及將所述粘合層壓板(144)附接到所述光電傳感器陣列(140)或所述 閃爍體陣列(124) 二者中的另一個(gè)。
23、 如權(quán)利要求22所述的方法，其還包括當(dāng)將所述粘合層壓板(144) 附接到所述光電傳感器陣列(140)和閃爍體陣列(124)時(shí)施加作用力， 其中，所述粘合層壓板(144)是壓敏粘合層壓板。
24、 如權(quán)利要求22所述的方法，其中，所述無材料區(qū)域在一行或一列 元素(136)之間延伸。
25、 如權(quán)利要求22所述的方法，其還包括形成在多行和多列元素(136) 之間延伸的多個(gè)無材料區(qū)域。
26、 如權(quán)利要求22所述的方法，其中，所述無材料區(qū)域減少元素(136) 之間的串?dāng)_。
27、 如權(quán)利要求22所述的方法，其還包括在將所述粘合層壓板(144) 附接到所述光電傳感器陣列(140)與所述閃爍體陣列(124)之后通過毛 細(xì)底層填充用填充物來填充所述無材料區(qū)域。
全文摘要
一種輻射敏感探測(cè)器(120)包括經(jīng)由粘合層壓板(144)與光電傳感器陣列(140)耦合的閃爍體陣列(124)。該光電傳感器(140)具有多個(gè)元素(136)。該粘合層壓板(144)包括無材料區(qū)域，該無材料區(qū)域從閃爍體陣列(124)穿過粘合層壓板(144)延伸到光電傳感器陣列(140)并且位于一對(duì)相鄰元素(136)之間。
文檔編號(hào)G01T1/20GK101669040SQ200880013293
公開日2010年3月10日 申請(qǐng)日期2008年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月25日
發(fā)明者G·F·C·M·利杰坦恩, S·萊韋內(nèi) 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司