專利名稱：具有對(duì)由mr線圈導(dǎo)致的輻射吸收進(jìn)行校正的混合mr/pet的制作方法
具有對(duì)由MR線圈導(dǎo)致的輻射吸收進(jìn)行校正的混合MR/PET
本申請(qǐng)涉及成像技術(shù)領(lǐng)域。本申請(qǐng)尤其涉及到組合的磁共振(MR)和 正電子發(fā)射層析攝影(PET)成像系統(tǒng)，并特別參考它們加以描述。以下內(nèi) 容更一般地涉及將MR成像器械與核成像器械，例如前述PET器械或單光 子發(fā)射計(jì)算層析攝影(SPECT)等組合的成像系統(tǒng)。
在混合成像系統(tǒng)中，將兩個(gè)或更多醫(yī)學(xué)成像器械集成到同一設(shè)施或房 間中，甚至集成到同一掃描器外殼中，從而組合構(gòu)成器械的優(yōu)點(diǎn)，以獲取 關(guān)于被成像受檢者的更有用信息?；旌铣上裣到y(tǒng)與通過(guò)分立的獨(dú)立成像系 統(tǒng)采集這種圖像相比，更容易在空間和時(shí)間上對(duì)準(zhǔn)來(lái)自構(gòu)成器械的圖像。 獨(dú)立的成像系統(tǒng)在研究之間具有更長(zhǎng)的滯后時(shí)間，使其難以在研究之間最 低限度地干擾患者。市場(chǎng)上買得到的混合成像系統(tǒng)包括 PrecedenceTMSPECT/計(jì)算斷層攝影(CT)系統(tǒng)和GeminiTMPET/CT系統(tǒng)， 兩者都可以從荷蘭Eindhoven的Philips Medical Systems買到。
對(duì)混合MR/PET成像系統(tǒng)也有興趣。在一些方法中，例如在Cho等人 的美國(guó)公開(kāi)申請(qǐng)2006/0052685 Al中公開(kāi)的方法，提供了物理上獨(dú)立的MR 和PET掃描器，并設(shè)置患者支撐以將患者移動(dòng)到MR掃描器或PET掃描器 中。在其他方法中，PET探測(cè)器與MR掃描器集成。例如，參見(jiàn)Fiedler等 人的WO 2006/111869和Frach等人的WO 2006/111883，以了解這種集成方 法的一些范例。Hammer的美國(guó)專利No.4939464中披露的集成方式變化是 僅將PET掃描器的閃爍器集成到磁共振掃描器中。 混合MR/PET或混合MR/SPECT成像系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是不在MR或PET成 像之間移動(dòng)受檢者，或者僅移動(dòng)較短距離而不重新定位，同時(shí)保持與公共 受檢者載體設(shè)置在一起(例如，如在Cho等人的美國(guó)公開(kāi)申請(qǐng)2006/0052685 Al中所示)。在其他混合系統(tǒng)，例如SPECT/CT或PET/CT中也實(shí)現(xiàn)了這個(gè) 優(yōu)點(diǎn)。
當(dāng)器械之一為MR時(shí)，如果MR成像采用一個(gè)或多個(gè)局部射頻線圈，這個(gè)優(yōu)點(diǎn)會(huì)部分被消除。在利用MR對(duì)受檢者成像時(shí)，可以將一個(gè)或多個(gè) 局部射頻線圈用作接收線圈或線圈陣列以采集磁共振數(shù)據(jù)，并且任選地可 以用于以發(fā)送模式來(lái)激勵(lì)磁共振。局部線圈的優(yōu)點(diǎn)是相對(duì)于受檢者定位得 接近，這改善了信噪比和其他成像度量。另一方面，核成像方式不使用局 部線圈。當(dāng)從MR成像切換到核成像時(shí)，可以取消局部線圈，或者等價(jià)地，
在從核成像切換到MR成像時(shí)，可以安裝局部線圈。然而，在MR和核成 像之間拆除或安裝局部線圈具有缺點(diǎn)，例如延長(zhǎng)了成像期間的時(shí)間，并增 大了可能以使核圖像和SPECT圖像的空間對(duì)準(zhǔn)困難或較不精確的方式移動(dòng) 受檢者的可能。此外，對(duì)于集成的MR/PET掃描器而言，這樣必需要從檢 査區(qū)域退回受檢者以拆除或安裝局部線圈，并然后再次插入受檢者，而本 來(lái)這是不必要的操作。再者，PET和MR部件在同一外殼中的集成掃描器 優(yōu)點(diǎn)是可能同時(shí)采集PET和MR數(shù)據(jù)，在這種情況下，優(yōu)選地在同時(shí)進(jìn)行 PET和MR成像期間安裝局部線圈。
作為備選，可以在核成像期間保持一個(gè)或多個(gè)局部線圈安裝在其上。 然而，這種方法的缺點(diǎn)是一個(gè)或多個(gè)線圈可能會(huì)吸收核成像中使用的輻射， 從而在核圖像中生成陰暗、陰影、密度梯度或其他偽影外來(lái)偽影。這些偽 影可能會(huì)使核圖像中感興趣的受檢者特征隱藏或模糊，或者可能被誤判為 受檢者特征，導(dǎo)致錯(cuò)誤診斷或其他解釋錯(cuò)誤。
根據(jù)一方面，披露了一種成像方法，包括利用與受檢者設(shè)置在一起
的磁共振部件采集所述受檢者的磁共振數(shù)據(jù)；利用與所述受檢者設(shè)置在一 起的所述磁共振部件采集所述受檢者的核成像數(shù)據(jù)；確定所述磁共振部件 相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的參照系的位置；以及重構(gòu)所述核成像數(shù)據(jù)以產(chǎn)生 至少一部分所述受檢者的核圖像，所述重構(gòu)包括基于所述磁共振部件的密 度圖和確定出的所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的所述參照系的位 置調(diào)節(jié)所述核成像數(shù)據(jù)和所述核圖像的至少一個(gè)，以對(duì)所述核圖像進(jìn)行由 所述磁共振部件導(dǎo)致的輻射吸收的校正。
根據(jù)另一方面，披露了一種成像系統(tǒng)，包括配置為采集受檢者的磁 共振數(shù)據(jù)的磁共振成像儀；配置為從受檢者采集核成像數(shù)據(jù)的核成像儀； 配置為在所述受檢者支撐上無(wú)需重新定位的所述受檢者的情況下由所述磁共振成像儀采集磁共振數(shù)據(jù)并由所述核成像儀采集核成像數(shù)據(jù)時(shí)支撐所述 受檢者的受檢者支撐；在所述受檢者支撐上可確定的相對(duì)于所述核成像儀 的參照系的位置處與所述受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件，所述磁共振部 件在磁共振數(shù)據(jù)的采集期間與所述磁共振成像儀協(xié)作；以及核圖像重構(gòu)處 理器，用于重構(gòu)所述核成像數(shù)據(jù)以產(chǎn)生所述受檢者的至少一部分的核圖像， 所述核圖像重構(gòu)處理器包括數(shù)據(jù)校正器，所述數(shù)據(jù)校正器基于所述磁共振 部件的密度圖調(diào)節(jié)所述核成像數(shù)據(jù)和所述核圖像中的至少一個(gè)，以校正所 述核圖像的由所述磁共振部件導(dǎo)致的輻射吸收。
根據(jù)另一方面，披露了一種或多種數(shù)字存儲(chǔ)介質(zhì)，所述一種或多種數(shù) 字存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)信息，所述信息用于針對(duì)核成像數(shù)據(jù)的采集期間由與受檢 者設(shè)置在一起的磁共振部件導(dǎo)致的輻射吸收，校正從所述受檢者采集的核 成像數(shù)據(jù)以及從所述核成像數(shù)據(jù)導(dǎo)出的受檢者至少一部分的核圖像中的至 少一個(gè)。所存儲(chǔ)的信息至少包括磁共振部件的密度圖。
根據(jù)另 一方面，披露了 一種用于混合成像系統(tǒng)中的局部磁共振部件， 所述混合成像系統(tǒng)提供磁共振成像能力和至少一種核成像能力，所述磁共 振部件包括用于在磁共振成像和核成像兩者期間與受檢者設(shè)置在一起的 主體，所述主體的至少一部分可吸收所述核成像中使用的輻射，使得所述 主體影響所述核成像；以及與所述主體設(shè)置在一起的至少一個(gè)位置識(shí)別元
件，所述至少一個(gè)位置識(shí)別元件能夠確定所述主體相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù) 的參照系的位置。
一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，使用于MR成像中的局部線圈能夠在MR成像之前、 之后或同時(shí)執(zhí)行的核成像期間保持在原處，核圖像中的伴生偽影得到抑制。 另一優(yōu)點(diǎn)在于，通過(guò)方便在核成像期間保持MR成像期間使用的局部 射頻線圈在原處，使得混合MR/核成像工作流程更迅速。 另一優(yōu)點(diǎn)是有助于并行的MR和核數(shù)據(jù)采集。 另一優(yōu)點(diǎn)在于利用混合MR/核成像系統(tǒng)采集到改善的核圖像。 在閱讀并理解以下詳細(xì)說(shuō)明的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將會(huì)理 解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明可以以各種部件和部件布置以及各種步驟和步驟的安排實(shí)現(xiàn)。附圖僅用于例示優(yōu)選實(shí)施例，不應(yīng)視為限制本發(fā)明。


圖1概略示出了包括磁共振成像儀和核成像儀的成像系統(tǒng)； 圖2概略示出了圖1的成像系統(tǒng)的頭部線圈和受檢者支撐的透視圖； 圖3概略示出了適用于圖1的成像系統(tǒng)中的核成像數(shù)據(jù)重構(gòu)部件的第
一實(shí)施例，以重構(gòu)核成像數(shù)據(jù)并對(duì)與被成像受檢者設(shè)置在一起的頭部線圈
的福射吸收進(jìn)行校正；
圖4概略示出了圖1的成像系統(tǒng)的備選實(shí)施例，其中，用設(shè)置于受檢 者軀干上方或下方并包括多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的SENSE或其他身體線圈替代頭部 線圈；
圖5概略示出了適用于圖1的成像系統(tǒng)中的核成像數(shù)據(jù)重構(gòu)部件的第 二實(shí)施例，以重構(gòu)核成像數(shù)據(jù)并對(duì)與被成像受檢者設(shè)置在一起的頭部線圈 的輻射吸收進(jìn)行校正；
圖6概略示出了適用于圖1的成像系統(tǒng)中的核成像數(shù)據(jù)重構(gòu)部件的第 三實(shí)施例，以重構(gòu)核成像數(shù)據(jù)并對(duì)與被成像受檢者設(shè)置在一起的頭部線圈 的輻射吸收進(jìn)行校正。
參考圖1，混合成像系統(tǒng)包括磁共振(MR)成像儀10、核成像儀12 以及設(shè)置于MR成像儀10和核成像儀12之間的受檢者支撐，例如圖示的 病床14。射頻屏蔽基本包圍并界定射頻隔離室或空間16。 MR成像儀IO、 核成像儀12和病床14設(shè)置于射頻隔離室之內(nèi)。在備選布置中，例如在通 過(guò)引用并入本文的Cho等人的美國(guó)公開(kāi)申請(qǐng)2006/0052685中所示的布置 中，MR成像儀和核成像儀設(shè)置于獨(dú)立房間或隔間中，任選地，僅對(duì)包含 MR成像儀的房間或隔間進(jìn)行射頻屏蔽。在其他備選設(shè)置中，例如在Fiedler 等人的WO 2006/111869或Fmch等人的WO 2006/111883或Hammer的美 國(guó)專利No.4939464中所示的設(shè)置中(三個(gè)文獻(xiàn)全部通過(guò)引用并入本文)， 核成像儀的部分，包括輻射探測(cè)器(或至少輻射探測(cè)器的閃爍體)被集成 到MR成像儀中。在一些實(shí)施例中，MR成像儀10是商用MR掃描器，例 如可從荷蘭Eindhoven的Philips Medical Systems買到的AchievaTM或 InteraTM磁共振掃描器。更一般地，MR成像儀10可以是基本任何類型，例 如圖示的水平柱腔磁體掃描器、開(kāi)放式MR掃描器等。在一些實(shí)施例中，核成像儀12為正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像儀
或單光子發(fā)射計(jì)算斷層攝影(SPECT)成像儀。典型地，核成像儀12用于 檢測(cè)高能粒子和高能光子中的至少一種。例如，PET成像儀檢測(cè)通過(guò)正負(fù) 電子湮沒(méi)事件產(chǎn)生的511 keV光子，而SPECT成像中使用的丫攝像機(jī)用于
檢測(cè)由選定的放射性藥物發(fā)出的Y射線(光子)等。在一些實(shí)施例中，核 成像儀12是商用PET掃描器，例如可從荷蘭Eindhoven的Philips Medical Systems買到的AllegroTM或Mosaic PET掃描器。在一些實(shí)施例中，核成 像儀12是商用伽馬攝像機(jī)，例如可從荷蘭Eindhoven的Philips Medical Systems買到的ForteTM、 SkylightTM或BrightviewTM伽馬攝像機(jī)。還想到過(guò) 讓核成像儀12自身包括兩個(gè)或更多構(gòu)成成像系統(tǒng)。例如，核成像儀12可 以是都可從荷蘭Eindhoven的Philips Medical Systems買到的Precedence SPECT/CT系統(tǒng)或Gemini PET/CT系統(tǒng)。想到的其他布置是形式為組合的 PET/SPECT成像儀的核成像儀或用于采集SPECT和PET成像數(shù)據(jù)兩者的 伽馬攝像機(jī)。
圖示的MR成像儀IO和核成像儀12之間的病床14布置是有利的，因 為其物理地分隔了MR和核成像儀IO、 12。這種物理分隔減小了MR成像 儀IO產(chǎn)生的靜磁場(chǎng)對(duì)核成像儀12的不利影響，還減輕了源于核成像儀12 的鐵磁體塊和射頻干擾對(duì)MR成像儀10的不利影響。圖示的病床14包括 基部20以及可線性平移的受檢者支撐22，受檢者支撐22的形式是與基部 20耦合且對(duì)齊的患者托座，以便選擇性地移動(dòng)到MR成像儀10的檢查區(qū)域 24中，進(jìn)行MR成像，并移動(dòng)到核成像儀12的檢查區(qū)域26中，進(jìn)行核成 像(例如，PET或SPECT成像)。圖示的基部20任選地被配置成在加載患 者期間降低，使得向患者支撐托座22上加載患者更加容易。任選地將核成 像儀12安裝在軌道28上，從而能夠平移核成像儀12離開(kāi)MR成像儀10， 方便患者加載、維護(hù)操作等。在這種實(shí)施例中，任選地，在MR成像期間 移動(dòng)核成像儀12離開(kāi)MR成像儀10，以減輕核成像儀12的鐵磁體塊對(duì) MR成像的影響。有利地，受檢者支撐14能夠在用于MR成像的MR成像 儀10和用于核成像的核成像儀12之間移動(dòng)受檢者而無(wú)需在受檢者支撐上 重新定位患者。
在其他想到的實(shí)施例中，將核成像儀，或至少核成像儀的輻射探測(cè)器
12或閃爍體集成地容納在MR成像儀外殼中。例如，在Fiedler等人的WO 2006/111869、 Frach等人的WO 2006/111883和Hammer的美國(guó)專利 No.4939464中披露了一些適當(dāng)?shù)募刹贾?。在這種集成實(shí)施例中，用于MR 成像和核成像的檢驗(yàn)區(qū)域可以是一個(gè)或者相同的，或者可以偏移，但在空 間上交迭。有利地，在這些實(shí)施例中，可以不用移動(dòng)受檢者，同時(shí)或相繼 (或者首先MR數(shù)據(jù)，接著核成像數(shù)據(jù)，或者反之)或以交織方式采集MR 數(shù)據(jù)和核成像數(shù)據(jù)。
繼續(xù)參考圖i，圖示的成像系統(tǒng)包括頭部線圈30形式的局部射頻線圈，
其可以是只接收線圈、只發(fā)射線圈或發(fā)射/接收線圈。更一般地，可以提供 一個(gè)或多個(gè)局部射頻線圈或線圈陣列用于對(duì)諸如手臂、腿、手腕、軀干等 研究區(qū)成像。作為另一個(gè)范例，圖4示出了受檢者以及與受檢者設(shè)置在一 起的SENSE身體線圈。MR成像任選地涉及到服用適當(dāng)?shù)拇判栽煊皠┮栽?強(qiáng)磁共振對(duì)比度。核成像典型地涉及到服用放射性藥物，以提供用于核成 像儀12成像的放射性。
通過(guò)諸如同軸電纜的射頻電纜將局部頭部線圈30與磁共振成像儀10 的磁共振接收系統(tǒng)的其余部分耦合。在圖l一3中，例示性射頻電纜32在 MR成像和核成像期間都保持與局部頭部線圈30相連。射頻電纜32被配置 成在可線性平移的患者支撐托座22下方通過(guò)并具有第一端，在將患者支撐 托座22移動(dòng)到MR成像儀10的檢查區(qū)域24中時(shí)，以及在將患者支撐托座 22移動(dòng)到核成像儀12的檢查區(qū)域26中時(shí)，第一端都保持與局部頭部線圈 30耦合(如圖所示)或與和頭部線圈30相連的裝置端口耦合。在基部20 中或附近任選地設(shè)置拉緊器、巻筒36或其他巻線機(jī)構(gòu)以巻起松弛的電纜。 在其他想到的實(shí)施例中，為電纜提供人工或自動(dòng)切斷器，當(dāng)將患者支撐托 座22移動(dòng)到核成像儀12的檢查區(qū)域26中或向該檢査區(qū)域26移動(dòng)時(shí)，人 工或自動(dòng)切斷器將射頻電纜的第一端與頭部線圈30斷開(kāi)連接。也想到過(guò)局 部射頻線圈和MR成像儀之間的無(wú)線連接。此外，可以為受檢者支撐14上 的受檢者設(shè)置除局部射頻線圈之外的一個(gè)或多個(gè)其他磁共振部件。例如， 可以為受檢者支撐14上的受檢者設(shè)置插入式磁場(chǎng)梯度線圈。其他想到的磁 共振部件包括患者束縛、舒適墊或相關(guān)附件、電子線路或電纜、用于功能 性MR研究的視覺(jué)或其他激勵(lì)裝置等。協(xié)同與受檢者支撐14設(shè)置在一起的受檢者身上的局部射頻線圈或線圈 陣列和/或其他磁共振部件，利用MR成像儀10進(jìn)行磁共振成像具有在磁共 振領(lǐng)域中得到認(rèn)可的優(yōu)點(diǎn)。例如，局部線圈能夠提供更為緊密的射頻耦合，
從而獲得更高的SNR、更低的SAR (對(duì)于局部發(fā)射或局部T/R線圈而言)、 更高的磁場(chǎng)梯度強(qiáng)度/上升時(shí)間性能(對(duì)于插入式磁場(chǎng)梯度線圈而言)以及 其他公認(rèn)的優(yōu)點(diǎn)。
然而，在核成像數(shù)據(jù)采集期間磁共振部件是無(wú)用的——實(shí)際上，與受 檢者設(shè)置在一起的磁共振部件會(huì)吸收輻射。另一方面，在MR成像之后和 核成像之前拆除磁共振部件(或相反，在核成像之后和MR成像之前安裝 磁共振部件)是不利的，因?yàn)榭赡軙?huì)推擠、移動(dòng)或以其他方式干擾到受檢 者，使得對(duì)于MR和核成像數(shù)據(jù)采集而言受檢者的位置大不相同。在MR 和核成像之間位置有大的差別是不利的，因?yàn)樗鼈兪沟肕R/核圖像對(duì)準(zhǔn)更 加困難且精確度更低，并且不論是否在進(jìn)行比較之前執(zhí)行圖像的空間對(duì)準(zhǔn)， 一般會(huì)使放射學(xué)家、醫(yī)生或其他臨床醫(yī)師或診斷專家更難以比較標(biāo)稱對(duì)應(yīng) 的MR和核圖像。在成像期間之間安裝或拆除磁共振部件也是不利的，因 為這延長(zhǎng)了總的成像期間時(shí)間。
因此，參考圖1和2，在核成像和MR成像之間不拆除頭部線圈30。 采集到的磁共振成像數(shù)據(jù)受益于使用頭部線圈30，并由磁共振(MR)圖像 重構(gòu)處理器40處理所得的數(shù)據(jù)以產(chǎn)生MR圖像。在核成像期間，可以預(yù)計(jì) 到頭部線圈30會(huì)吸收核成像中使用的一些輻射。例如，如果核成像儀12 是PET掃描器，那么其通過(guò)檢測(cè)相反方向的511keVY射線的時(shí)域同時(shí)(時(shí) 域窗口之內(nèi))對(duì)來(lái)工作。這些y射線中以其他方式被檢測(cè)到的一些相反被 頭部線圈30的材料吸收。因此由于存在頭部線圈30使采集到的核成像數(shù) 據(jù)劣化。為了解決這個(gè)難題，核圖像重構(gòu)處理器42結(jié)合了數(shù)據(jù)校正器44， 數(shù)據(jù)校正器基于給出了頭部線圈30的輻射吸收特性的線圈密度圖46對(duì)核 成像數(shù)據(jù)或重構(gòu)圖像進(jìn)行校正。幾何處理器48判斷頭部線圈30是否存在。 如果頭部線圈30的位置是可調(diào)節(jié)的，那么幾何處理器48還判斷頭部線圈 30的位置。圖像選擇器或?qū)?zhǔn)處理器50任選地在空間上對(duì)準(zhǔn)MR和核圖像， 并選擇核圖像或MR圖像之一，或2D或3D圖像之一的切片或其他部分， 或時(shí)間上相繼圖像的CINE序列，或諸如MR和核圖像的疊加的組合等，以在諸如視頻監(jiān)視器、LCD顯示器、等離子體顯示器的圖像顯示裝置52、產(chǎn) 生永久圖像的打印機(jī)或其他標(biāo)記引擎等上顯示。
可以通過(guò)各種方式產(chǎn)生線圈密度圖46。在經(jīng)驗(yàn)方法中，采集頭部線圈 30或其他磁共振部件的校準(zhǔn)核成像數(shù)據(jù)，并重構(gòu)采集的校準(zhǔn)核成像數(shù)據(jù)以 產(chǎn)生線圈密度圖46。例如，可以沿著頭部線圈的中心軸定位圓柱形均勻洪 水源，并產(chǎn)生頭部線圈的衰減圖。任選地，可以在這種校準(zhǔn)數(shù)據(jù)采集中使 用受檢者模型，以模擬受檢者的效果和/或?yàn)轭^部線圈30或其他磁共振部件 提供結(jié)構(gòu)支持。
參考圖2和3，示出了重構(gòu)部件的范例實(shí)施例，在局部線圈(例如圖l 和2的頭部線圈30)在患者支撐托座22上具有不可調(diào)位置時(shí)，適于使用該 范例。在這種情況下，幾何處理器48包括線圈探測(cè)器，其判斷受檢者支撐 托座22上是否安裝了頭部線圈30。簡(jiǎn)要參考圖2，例如，可以嵌入線圈探 測(cè)器作為接觸傳感器56，檢測(cè)將頭部線圈30插入配對(duì)設(shè)備58中。接觸傳 感器56例如可以是帶彈簧載荷的引腳，在將頭部線圈30插入配對(duì)設(shè)備58 中時(shí)將引腳壓到彈簧載荷上以形成電接觸。如果幾何處理器48未探測(cè)到局 部頭部線圈30，那么無(wú)需調(diào)用數(shù)據(jù)校正器44，而由核圖像重構(gòu)處理器42 重構(gòu)采集的核數(shù)據(jù)60，以產(chǎn)生核圖像62。
另一方面，如果幾何處理器48確實(shí)探測(cè)到局部頭部線圈30，那么如前 所述由核圖像重構(gòu)處理器42重構(gòu)采集到的核數(shù)據(jù)60，但此外還調(diào)用數(shù)據(jù)校 正器44以對(duì)核圖像校正由頭部線圈30導(dǎo)致的輻射吸收，從而產(chǎn)生作為已 校正圖像的核圖像62。為了進(jìn)行校正，數(shù)據(jù)校正器44相對(duì)于核成像數(shù)據(jù) 60的參照系來(lái)確定頭部線圈30的位置。在圖3中所示的方法中，根據(jù)受檢 者支撐22的位置64進(jìn)行這種校正。頭部線圈30在受檢者支撐22上具有 不可調(diào)節(jié)的位置，通常是相對(duì)于核成像儀12的參照系校準(zhǔn)將受檢者支撐22 移動(dòng)到核成像儀12中的過(guò)程的。因此，基于受檢者支撐位置64，相對(duì)于核 成像數(shù)據(jù)60的參照系確定頭部線圈30的位置是簡(jiǎn)單的。例如，如果在受 檢者支撐22處于其參考位置zQ時(shí)頭部線圈30位置為Ze。，那么，如果將受 檢者支撐22推進(jìn)到z的受檢者支撐位置64，那么對(duì)應(yīng)的線圈位置Zc為 zc=zc0+ (z-z0)。
由于在圖3的實(shí)施例中，受檢者支撐22僅具有單個(gè)運(yùn)動(dòng)自由度(例如軸向或Z方向運(yùn)動(dòng))，所以數(shù)據(jù)校正器44通過(guò)將線圈密度圖46平移到線圈
位置ze，來(lái)參照核成像數(shù)據(jù)60的參照系確定頭部線圈30的位置。數(shù)據(jù)校 正器44可以使用各種方法來(lái)進(jìn)行校正。在一種方法中，重構(gòu)采集的核成像 數(shù)據(jù)60以形成未校正圖像，線圈密度圖46存儲(chǔ)頭部線圈30的空間輻射吸 收?qǐng)D，通過(guò)從未校正的重構(gòu)核圖像減去線圈密度圖46的密度來(lái)產(chǎn)生校正的 核圖像62。在另一種方法中，線圈密度圖46存儲(chǔ)著沿每個(gè)投影路徑吸收輻 射顆粒的統(tǒng)計(jì)可能性的信息，該信息用于校正投影空間中采集的核成像數(shù) 據(jù)。然后重構(gòu)校正的投影數(shù)據(jù)以形成校正的核圖像62。也想到過(guò)類似于用 于對(duì)骨骼、其他輻射吸收組織、植入物等進(jìn)行校正的技術(shù)的其他技術(shù)。
參考圖4，可以可調(diào)節(jié)地定位一些局部線圈。例如，圖4示出了軀干線 圈30'，軀干線圈是多個(gè)平面單回路線圈的陣列，適于用作SENSE陣列或 其他平行成像陣列。圖示的軀干線圈30'具有后段(圖4中不可見(jiàn))和前段 70，所述后段具有與受檢者支撐22設(shè)置在一起的幾個(gè)平面單回路線圈元件， 所述前段70具有設(shè)置于受檢者前側(cè)軀干上方的幾個(gè)額外平面單回路線圈元 件。綁帶72以擠壓方式緊靠受檢者夾緊軀干線圈30'?？烧{(diào)節(jié)地定位軀干 線圈30'在于，前段和后段之間的分隔隨著受檢者的寬度或"厚度"而變化， 還在于軀干線圈30'沿受檢者支撐20的位置可以在一個(gè)患者和下一個(gè)患者 之間變化。要指出的是，軀干線圈的前方部分和后方部分兩者的部分可以 繞著受檢者的左右體表纏繞。在一些情況下，線圈后方部分不是柔性的， 可以臨時(shí)或永久固定在患者支撐中。對(duì)于可以可調(diào)節(jié)定位的局部線圈而言， 圖3的系統(tǒng)是不充分的。
參考圖4和5，示出了重構(gòu)部件的范例實(shí)施例，當(dāng)局部線圈(例如圖4 的軀干線圈30)可以可調(diào)節(jié)地定位于患者支撐托座22上時(shí)，適于使用該重 構(gòu)部件。在圖5的例示性實(shí)施例中，幾何處理器48根據(jù)從磁共振成像提供 的輸入判斷線圈30'的位置。由磁共振處理器40重構(gòu)采集到的磁共振數(shù)據(jù) 76以產(chǎn)生磁共振圖像，該磁共振圖像對(duì)局部線圈30'之內(nèi)或之上的材料成 像，或?qū)υO(shè)置于局部線圈30'上或中的MR基準(zhǔn)標(biāo)記80成像。通常，磁共 振成像不會(huì)"看到"用于收集MR成像數(shù)據(jù)的線圈或線圈陣列。因此，MR 成像儀10獲得的軀干診斷或臨床MR圖像將不會(huì)提供適于判斷局部線圈30' 的位置的來(lái)自局部線圈30'的信息?？朔@一難題的一種方法是包括設(shè)置于
16局部線圈30'上或中的基準(zhǔn)標(biāo)記80。在這種情況下，診斷或臨床MR圖像將 包括對(duì)應(yīng)于MR基準(zhǔn)標(biāo)記80的對(duì)比度。
在一些實(shí)施例中，MR成像從一般的'H核素采集成像數(shù)據(jù)，MR基準(zhǔn) 標(biāo)記80包含除核素之外的不同核素，不同核素可以被MR成像儀10探 測(cè)到以提供期望的MR可見(jiàn)性。例如，可以使用多核MR成像序列來(lái)采集 'H圖像和第二種核素的圖像，以便相對(duì)于HMR圖像給出的矩陣識(shí)別MR 基準(zhǔn)標(biāo)記80。在另一種方式中，MR基準(zhǔn)標(biāo)記80包含水或另一種材料，在 'H核素的常規(guī)MR成像中對(duì)其成像。在這種實(shí)施例中，MR基準(zhǔn)標(biāo)記80適 當(dāng)?shù)鼐哂锌梢栽贛R圖像中檢測(cè)到的形狀、尺寸、密度或其他特征，以在 MR圖像中識(shí)別基準(zhǔn)標(biāo)記。在一些實(shí)施例中，想到采用少到單個(gè)的MR基準(zhǔn) 標(biāo)記；然而，如圖4所示使用兩個(gè)、三個(gè)或更多MR基準(zhǔn)標(biāo)記80有利地能 夠?qū)С龈_和詳細(xì)的位置信息。例如，單個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記一般不足以為局部 線圈30'判斷傾斜、旋轉(zhuǎn)或其他非平移的位置信息?；蛘撸梢杂珊顺上駜x 對(duì)基準(zhǔn)標(biāo)記成像，以使核成像儀能夠判斷局部線圈的位置。任選地，基準(zhǔn) 標(biāo)記還能夠用于其他目的，例如為進(jìn)行運(yùn)動(dòng)補(bǔ)償、呼吸選通等提供參考標(biāo) 記。
幾何處理器48判斷受檢者支撐22上的局部線圈30'的位置，包括判斷 軀干線圈30'的前段和后段之間的間距，任選地判斷由于受檢者軀干形狀導(dǎo) 致的前段傾斜、旋轉(zhuǎn)或其他歪曲，或其他位置信息。幾何處理器48判斷局 部線圈30'相對(duì)于MR成像儀10的參照系的位置。這轉(zhuǎn)而容易參照設(shè)置受 檢者的受檢者支撐22的參照系，因?yàn)橥ǔＪ窍鄬?duì)于MR成像儀10的參照 系校準(zhǔn)將受檢者支撐22移動(dòng)到MR成像儀10中的過(guò)程的。
數(shù)據(jù)校正器44使用局部線圈30'的位置信息進(jìn)行校正，如結(jié)合圖3的 實(shí)施例已經(jīng)闡述的那樣。使用在核成像期間相對(duì)于核成像儀12校準(zhǔn)的受檢 者支撐位置64來(lái)參照采集的核成像數(shù)據(jù)60的參照系相對(duì)于受檢者支撐(從 MR數(shù)據(jù)和/或核數(shù)據(jù)確定的)確定局部線圈30'的位置信息。采用線圈密度 圖46以線圈密度圖46的適當(dāng)調(diào)節(jié)來(lái)進(jìn)行校正，以解決從MR成像判定的 局部線圈30'平移以及任選的傾斜、旋轉(zhuǎn)或其他歪曲問(wèn)題。在另一實(shí)施例中， MR和核系統(tǒng)都對(duì)基準(zhǔn)點(diǎn)成像。MR成像儀10能夠確定局部線圈30'更高分 辨率的圖，核成像儀12可以用于針對(duì)MR和核數(shù)據(jù)采集之間的任何運(yùn)動(dòng)或核數(shù)據(jù)采集期間的任何運(yùn)動(dòng)對(duì)圖進(jìn)行調(diào)節(jié)?；鶞?zhǔn)標(biāo)記80有利地允許從診斷或臨床圖像確定與局部線圈30'相關(guān)的 位置信息。在這種情況下，優(yōu)選地在數(shù)量和位置上限制基準(zhǔn)標(biāo)記，使得它們始終在通常利用特定線圈/MR部件執(zhí)行的MR圖像獲取的成像視野 (FoV)之內(nèi)，從而不會(huì)有來(lái)自FoV之外的基準(zhǔn)標(biāo)記失真，在MR成像中 可能會(huì)將這種失真誤判為損傷或其他組織異常。在另一種方式中，利用MR 成像儀10進(jìn)行獨(dú)立的線圈成像操作，以確定與局部線圈30'相關(guān)的位置信 息。任選地，這種備選方式不依賴于MR基準(zhǔn)標(biāo)記80，實(shí)際上，可以在備 選實(shí)施例中任選地省略MR基準(zhǔn)標(biāo)記80。這種方式使用了對(duì)局部線圈30' 的一種或多種材料成像的MR成像技術(shù)。如前所述，通常選擇這種材料使 它們對(duì)于MR成像過(guò)程是透明的。然而，利用專門的磁共振成像過(guò)程，例 如超短回波時(shí)間(UTE)成像，可以利用MR成像儀10對(duì)諸如塑料和橡膠 的典型線圈材料成像。例如，在Robson等人在J Comput Assist Tomogr第 27巻第6期第825-46頁(yè)(2003年)的文章"Magnetic Resonance: An Introduction to Ultrashort TE (UTE) Imaging"中描述了 UTE成像，在此以 引用的方式將其全文并入。UTE成像對(duì)于亞毫秒T2材料，例如某些橡膠和塑料，是有效的。于是， 如果像通常使用的，局部線圈30'包括塑料或橡膠，那么UTE成像能夠提供 局部線圈30'或其大部分或部件的圖像?；蛘?，如果不能以實(shí)際可實(shí)現(xiàn)的超 短回波時(shí)間對(duì)線圈材料進(jìn)行UTE成像，可以使用能夠在實(shí)際可實(shí)現(xiàn)范圍的 UTE回波時(shí)間之內(nèi)成像的基準(zhǔn)標(biāo)記。幾何處理器48處理由MR重構(gòu)處理器 40產(chǎn)生的UTE圖像，以相對(duì)于受檢者支撐22的參照系確定局部線圈30' 的位置，數(shù)據(jù)校正器44如前所述根據(jù)該位置信息、核成像儀12中的受檢 者支撐位置64以及根據(jù)線圈密度圖46校正核圖像。在圖5的實(shí)施例中，使用采集的MR數(shù)據(jù)(例如，UTE成像數(shù)據(jù)，或 連同MR基準(zhǔn)標(biāo)記80 —起的診斷或臨床成像數(shù)據(jù)，或連同不是UTE成像 數(shù)據(jù)且不是診斷或臨床成像數(shù)據(jù)的MR基準(zhǔn)標(biāo)記80 —起采集的獨(dú)立MR數(shù) 據(jù))確定MR線圈相對(duì)于受檢者支撐22的位置，然后又用其校正核圖像。 然而，要認(rèn)識(shí)到，可以在MR數(shù)據(jù)之前或之后采集核成像數(shù)據(jù)，或者可以 在時(shí)間上交織MR和核數(shù)據(jù)采集。對(duì)于集成的MR/核掃描器，構(gòu)思同時(shí)采參考圖6，繪示了用于為局部線圈30'進(jìn)行校正的備選方式。在圖6的 方式中，從采集的核成像數(shù)據(jù)60中提取局部線圈30'的位置信息。核圖像 重構(gòu)處理器42不調(diào)用數(shù)據(jù)校正器44而執(zhí)行初始重構(gòu)。這一重構(gòu)的結(jié)果是 沒(méi)有校正的核圖像84。幾何處理器48分析未校正的核圖像84以提取關(guān)于 局部線圈30'的位置信息。在一些實(shí)施例中，這種分析利用了核基準(zhǔn)標(biāo)記90， 核基準(zhǔn)標(biāo)記例如可以適當(dāng)?shù)厝〈鷪D4中所示的MR基準(zhǔn)標(biāo)記80。在一些實(shí) 施例中，核基準(zhǔn)標(biāo)記90含有可被核成像儀12檢測(cè)到的放射性同位素發(fā)射 輻射，以便在未校正的核圖像84中實(shí)現(xiàn)期望的可見(jiàn)性。利用發(fā)射出與成像 放射性同位素不同能量輻射的標(biāo)記，容易從成像數(shù)據(jù)切分出基準(zhǔn)數(shù)據(jù)。在 一些實(shí)施例中，想到采用少到單個(gè)核基準(zhǔn)標(biāo)記；然而，使用兩個(gè)、三個(gè)或 更多核基準(zhǔn)標(biāo)記90有利地能夠?qū)С龈_和詳細(xì)的位置信息。在其他想到的實(shí)施例中，局部線圈30'或其部分具有充分大的輻射吸收， 使其在未校正核圖像84中產(chǎn)生可辨別的結(jié)構(gòu)，從該結(jié)構(gòu)可以判斷出局部線 圈30'的位置。繼續(xù)參考圖6，幾何處理器48根據(jù)成像的核基準(zhǔn)標(biāo)記90或根據(jù)未校正 核圖像84中局部線圈30'自身的直接圖像，從未校正的核圖像84判斷局部 線圈30'的位置。有利地，在本實(shí)施例中，直接從采集的核成像數(shù)據(jù)60導(dǎo) 出來(lái)自局部線圈30'的位置信息，因此該信息固有地處于所采集的核成像數(shù) 據(jù)的參照系中。 一旦從局部線圈30'確定了位置信息，處理流程就循環(huán)回到 核圖像重構(gòu)處理器42，該處理器42執(zhí)行更新的圖像重構(gòu)，更新的圖像重構(gòu) 協(xié)同幾何處理器48確定的線圈密度圖46和局部線圈30'的位置信息調(diào)用數(shù) 據(jù)校正器44，從而產(chǎn)生校正的核圖像62。在圖6所示的實(shí)施例中， 一開(kāi)始重構(gòu)同樣的采集到的核成像數(shù)據(jù)60以 形成未校正的核圖像84，并隨后調(diào)用數(shù)據(jù)校正器44進(jìn)行再次重構(gòu)，以產(chǎn)生 校正圖像62。在其他實(shí)施例中，可以使用兩種不同的核成像數(shù)據(jù)采集。例 如，可以執(zhí)行第一核成像數(shù)據(jù)采集以采集幾何處理器從其導(dǎo)出線圈位置信 息的核成像數(shù)據(jù)，隨后執(zhí)行第二核成像數(shù)據(jù)采集，采集到結(jié)合數(shù)據(jù)校正器 重構(gòu)的成像數(shù)據(jù)，以產(chǎn)生校正的核圖像。在使用獨(dú)立核數(shù)據(jù)采集的這一后 面的方式中，可以優(yōu)化第一核數(shù)據(jù)采集以提供表示局部線圈30'的對(duì)比度。例如，如果使用在核成像中高度可見(jiàn)的核基準(zhǔn)標(biāo)記90，那么短時(shí)間的核數(shù) 據(jù)采集可能就足以采集到確定線圈位置信息的足夠信息。也可以使用這種 基準(zhǔn)點(diǎn)來(lái)監(jiān)測(cè)患者運(yùn)動(dòng)。另一方面，如果依賴于對(duì)局部線圈直接成像，那 么第一核成像采集可以更長(zhǎng)，或者可以使用更低的分辨率、更少的角位置 (對(duì)于SPECT而言)等，以優(yōu)化采集的數(shù)據(jù)，在確定線圈位置信息中實(shí)現(xiàn) 速度和精確度。返回到圖1，可以用各種方式物理地實(shí)現(xiàn)所披露的處理部件，例如圖示的重構(gòu)處理器40、 42、數(shù)據(jù)校正器44、幾何處理器48和圖像選擇器或?qū)?準(zhǔn)處理器50。在一些實(shí)施例中，通過(guò)諸如微處理器、微控制器的通用處理 器或微處理器或微控制器的組合，結(jié)合存儲(chǔ)介質(zhì)來(lái)實(shí)現(xiàn)各部件，存儲(chǔ)介質(zhì) 存儲(chǔ)著可執(zhí)行以執(zhí)行圖示處理部件40、 42、 44、 48、 50實(shí)施的所選方法。 這種存儲(chǔ)介質(zhì)或其他存儲(chǔ)介質(zhì)還適當(dāng)?shù)卮鎯?chǔ)線圈密度圖46。存儲(chǔ)介質(zhì)可以 是諸如光盤(pán)、磁盤(pán)、磁帶、閃速存儲(chǔ)器、網(wǎng)絡(luò)服務(wù)器存儲(chǔ)器等的非易失性 存儲(chǔ)器、諸如隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)的易失性存儲(chǔ)器或其各種組合。在 一些實(shí)施例中，將處理部件44、 50、 60、 70中的一個(gè)、 一些或全部實(shí)現(xiàn)為 專用集成電路(ASIC)部件。在一些實(shí)施例中，將處理部件40、 42、 44、 48、 50中的一個(gè)、 一些或全部與計(jì)算機(jī)集成，計(jì)算機(jī)還提供了圖像顯示裝 置52。這種計(jì)算機(jī)任選地包括存儲(chǔ)指令的硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器或其他存儲(chǔ)介質(zhì)，指 令可以由計(jì)算機(jī)的一個(gè)或多個(gè)處理器執(zhí)行，以執(zhí)行由圖示的處理部件40、 42、 44、 48、 50實(shí)施的選定方法。可以通過(guò)各種方式部分或全部地集成各 處理部件40、 42、 44、 48、 50，例如，單個(gè)計(jì)算機(jī)可以實(shí)現(xiàn)一些或全部處 理部件40、 42、 44、 48、 50，這種計(jì)算機(jī)任選地在邏輯上設(shè)置于網(wǎng)絡(luò)或因 特網(wǎng)上。這些僅僅是一些例示性實(shí)施例，可以將處理部件40、 42、 44、 48、 50實(shí)現(xiàn)為硬件、軟件、固件或其各種組合的其他配置。已經(jīng)參考優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明。在閱讀和理解前述詳細(xì)說(shuō)明的前 提下，其他人可以想到各種修改和變化。只要修改和變化落入所附權(quán)利要 求或其等價(jià)要件的范圍內(nèi)，本發(fā)明意在被視為包括所有這種修改和變化。
權(quán)利要求
1、一種成像方法，包括利用與受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30，30′)采集所述受檢者的磁共振數(shù)據(jù)；利用與所述受檢者設(shè)置在一起的所述磁共振部件采集所述受檢者的核成像數(shù)據(jù)；確定所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的參照系的位置；以及重構(gòu)所述核成像數(shù)據(jù)(60)以產(chǎn)生所述受檢者的至少一部分的核圖像(62)，所述重構(gòu)包括基于所述磁共振部件的密度圖(46)和確定出的所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的所述參照系的位置調(diào)節(jié)所述核成像數(shù)據(jù)和所述核圖像中的至少一個(gè)，以對(duì)所述核圖像進(jìn)行由所述磁共振部件導(dǎo)致的輻射吸收的校正。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，還包括重構(gòu)所述磁共振數(shù)據(jù)以產(chǎn)生所述受檢者的至少一部分的磁共振圖像。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，其中，所述磁共振部件(30)與受檢者支撐(22)相連接，所述受檢者支撐在采集磁共振數(shù)據(jù)期間以及采集核成像數(shù)據(jù)期間支持所述受檢者和所述磁共振部件，且所述確定包括基于所述受檢者支撐(22)相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的所述參照系的位置以及預(yù)先確定的所述磁共振部件相對(duì)于所述受檢者支撐的位置，確定所述磁共振部件(30)相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的所述參照系的位置。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的成像方法，還包括檢測(cè)所述磁共振部件(30)與所述受檢者支撐(22)的連接，取決于所述檢測(cè)執(zhí)行所述核成像數(shù)據(jù)和所述核圖像中的至少一個(gè)的調(diào)節(jié)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，其中，所述確定包括根據(jù)所采集的核成像數(shù)據(jù)(60)定位設(shè)置于所述磁共振部件(30')上的一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記(90)的位置；以及從所述一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的所述位置導(dǎo)出所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的所述參照系的位置。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的成像方法，其中，所述定位包括重構(gòu)所述核成像數(shù)據(jù)(60)以產(chǎn)生未校正的核圖像(84);以及在所述未校正的核圖像中識(shí)別所述一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記(90)的所述位置。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，其中，所述確定包括根據(jù)所采集的核成像數(shù)據(jù)和所述磁共振數(shù)據(jù)(76)中的至少一個(gè)定位設(shè)置于所述磁共振部件(30')上的一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記(80， 90)的位置；以及從定位到的所述一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的位置導(dǎo)出所述磁共振部件(30')相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)(60)的所述參照系的位置。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，其中，所述確定包括采集所述受檢者以及與所述受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30， 30')的超短回波時(shí)間(UTE)磁共振成像數(shù)據(jù)；重構(gòu)所述UTE磁共振成像數(shù)據(jù)以產(chǎn)生包括對(duì)應(yīng)于所述磁共振部件的至少一部分的對(duì)比度的UTE圖像；以及基于所述UTE圖像確定所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的所述參照系的位置。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，還包括采集所述磁共振部件(30， 30')的校準(zhǔn)核成像數(shù)據(jù)；以及重構(gòu)所述校準(zhǔn)核成像數(shù)據(jù)以產(chǎn)生所述磁共振部件的密度圖(46)。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，其中，所述的磁共振數(shù)據(jù)的采集和所述的核成像數(shù)據(jù)的采集是在所述受檢者不運(yùn)動(dòng)的時(shí)段內(nèi)執(zhí)行的。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像方法，還包括如下之一將所述受檢者和與所述受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30， 30')從用于進(jìn)行所述的磁共振數(shù)據(jù)的采集的磁共振成像儀(io)移動(dòng)到用于進(jìn)行所述的核成像數(shù)據(jù)的采集的核成像儀(12)，以及將所述受檢者和與所述受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30， 30')從用于進(jìn)行所述的核成像數(shù)據(jù)的采集的核成像儀(12)移動(dòng)到用于進(jìn)行所述的磁共振數(shù)據(jù)的采集的磁共振成像儀(10)。
12、 一種成像系統(tǒng)，包括配置為采集受檢者的磁共振數(shù)據(jù)的磁共振成像儀(10);配置為從所述受檢者采集核成像數(shù)據(jù)的核成像儀(12);受檢者支撐(22)，配置為在所述受檢者支撐上無(wú)需重新定位所述受檢者的情況下由所述磁共振成像儀采集磁共振數(shù)據(jù)并由所述核成像儀采集核成像數(shù)據(jù)時(shí)支持所述受檢者；在所述受檢者支撐上可確定的相對(duì)于所述核成像儀的參照系的位置處與所述受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30， 30')，所述磁共振部件在所述的磁共振數(shù)據(jù)的采集期間與所述磁共振成像儀協(xié)作；以及核圖像重構(gòu)處理器(42)，配置為重構(gòu)所述核成像數(shù)據(jù)以產(chǎn)生所述受檢者的至少一部分的核圖像，所述核圖像重構(gòu)處理器包括數(shù)據(jù)校正器(44)，所述數(shù)據(jù)校正器基于所述磁共振部件的密度圖(46)調(diào)節(jié)所述核成像數(shù)據(jù)和所述核圖像中的至少一個(gè)，以對(duì)所述核圖像進(jìn)行由所述磁共振部件導(dǎo)致的輻射吸收的校正。
13、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中，所述磁共振部件包括(i)一個(gè)或多個(gè)射頻線圈(30， 30')以及(ii)插入式磁場(chǎng)梯度線圈中的至少一個(gè)。
14、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，還包括相對(duì)于所述受檢者支撐(22)對(duì)準(zhǔn)所述磁共振部件(30)的對(duì)準(zhǔn)元件(56)，所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像儀(12)的所述參照系的位置可 以根據(jù)所述磁共振部件相對(duì)于所述受檢者支撐的位置加以確定。
15、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，還包括設(shè)置于所述磁共振部件(30')上的一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記(90)，所述一 個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記可以被所述核成像儀(12)檢測(cè)到，以確定所述磁共振 部件相對(duì)于所述核成像儀的所述參照系的位置。
16、 根據(jù)權(quán)利要求15所述的成像系統(tǒng)，其中，所述一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo) 記(卯)包含發(fā)射可由所述核成像儀(12)檢測(cè)到的輻射的放射性同位素。
17、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，還包括設(shè)置于所述磁共振部件(30')上的一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記(80)，所述一 個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記可以被所述磁共振成像儀(10)檢測(cè)到，以確定所述磁 共振部件相對(duì)于所述受檢者支撐(22)的所述參照系的位置，所述磁共振 部件相對(duì)于所述核成像儀的所述參照系的位置可以根據(jù)所述磁共振部件相 對(duì)于所述受檢者支撐的位置加以確定。
18、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的成像系統(tǒng)，其中，所述基準(zhǔn)標(biāo)記放置于所 述磁共振部件上或之內(nèi)，使得在所述磁共振成像期間它們處于正常成像的 視野之內(nèi)。
19、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的成像系統(tǒng)，其中，所述磁共振成像儀(10) 用于對(duì)iH磁共振成像，所述一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記(80)包含除&核素之 外的不同核素，所述不同核素可被所述磁共振成像儀檢測(cè)到。
20、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中，所述磁共振部件(30， 30')包括亞毫秒T2材料，且所述磁共振成像儀(10)用于執(zhí)行超短回波時(shí) 間(UTE)成像，以對(duì)所述磁共振部件的所述亞毫秒T2材料成像，從而確 定所述磁共振部件相對(duì)于所述受檢者支撐(22)的所述參照系的位置，所述磁共振部件相對(duì)于所述核成像儀的所述參照系的位置可以根據(jù)所述磁共 振部件相對(duì)于所述受檢者支撐的位置加以確定。
21、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的成像系統(tǒng)，其中，所述磁共振部件(30，30')的所述亞毫秒T2材料包括橡膠材料和塑料材料中的至少一種。
22、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中，所述磁共振成像儀(10)和所述核成像儀(12)各自具有從如下項(xiàng)構(gòu)成的組中選擇的布置間隔開(kāi)的布置，其中，所述受檢者支撐(22)可以選擇性地插入所述 磁共振成像儀(10)中進(jìn)行所述受檢者的磁共振成像，以及可以選擇性插 入所述核成像儀(12)中進(jìn)行所述受檢者的核成像，以及集成布置，其中，所述受檢者支撐具有公共位置，在所述公共位置中， 所述受檢者可以被所述磁共振成像儀和所述核成像儀兩者成像。
23、 一種或多種存儲(chǔ)信息的數(shù)字存儲(chǔ)介質(zhì)，所述信息用于針對(duì)所述核 成像數(shù)據(jù)的采集期間由與受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30， 30')導(dǎo)致 的輻射吸收，校正從所述受檢者采集的核成像數(shù)據(jù)(60)以及從所述核成 像數(shù)據(jù)導(dǎo)出的所述受檢者的至少一部分的核圖像(62)中的至少一個(gè)，所 存儲(chǔ)的信息至少包括所述磁共振部件的密度圖(46)。
24、 根據(jù)權(quán)利要求23所述的一種或多種數(shù)字存儲(chǔ)介質(zhì)，其中，所存儲(chǔ) 的信息還包括可以運(yùn)行以執(zhí)行如下方法的指令，所述方法包括重構(gòu)所述核 成像數(shù)據(jù)(60)以產(chǎn)生所述受檢者的至少一部分的核圖像(62)，所述重構(gòu) 包括所述校正。
25、 一種用于混合成像系統(tǒng)中的局部磁共振部件，所述混合成像系統(tǒng) 提供磁共振成像能力和至少一種核成像能力，所述磁共振部件包括用于在磁共振成像和核成像兩者期間都與受檢者設(shè)置在一起的主體 (30， 30')，所述主體的至少一部分可吸收所述核成像中使用的輻射，使得 所述主體影響所述核成像；以及與所述主體設(shè)置在一起的至少一個(gè)位置識(shí)別元件(56， 80， 90)，所述 至少一個(gè)位置識(shí)別元件能夠確定所述主體相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的參照系 的位置。
26、 根據(jù)權(quán)利要求25所述的局部磁共振部件，其中，所述主體包括局 部射頻線圈(30， 30')。
27、 根據(jù)權(quán)利要求25所述的局部磁共振部件，其中，所述至少一個(gè)位 置識(shí)別元件包括可由所述混合成像系統(tǒng)的所述磁共振能力成像的基準(zhǔn)標(biāo)記(80)。
28、 根據(jù)權(quán)利要求25所述的局部磁共振部件，其中，所述至少一個(gè)位 置識(shí)別元件包括可由所述混合成像系統(tǒng)的所述核成像能力成像的基準(zhǔn)標(biāo)記(90)。
29、 根據(jù)權(quán)利要求25所述的局部磁共振部件，其中，所述至少一個(gè)位 置識(shí)別元件包括用于檢測(cè)所述主體(30)的安裝從而使其與所述受檢者設(shè) 置在一起的傳感器(56)。
全文摘要
一種成像方法包括利用與受檢者設(shè)置在一起的磁共振部件(30，30′)采集受檢者的磁共振數(shù)據(jù)；利用與所述受檢者設(shè)置在一起的所述磁共振部件采集所述受檢者的核成像數(shù)據(jù)；相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的參照系確定所述磁共振部件的位置；以及重構(gòu)所述核成像數(shù)據(jù)(60)以產(chǎn)生所述受檢者的至少一部分的核圖像(62)。所述重構(gòu)包括根據(jù)所述磁共振部件的密度圖(46)調(diào)節(jié)所述核成像數(shù)據(jù)和所述核圖像的至少一個(gè)，以及相對(duì)于所述核成像數(shù)據(jù)的參照系確定所述磁共振部件的位置，以對(duì)所述核圖像進(jìn)行由所述磁共振部件導(dǎo)致的輻射吸收的校正。
文檔編號(hào)G01T1/161GK101675355SQ200880014774
公開(kāi)日2010年3月17日 申請(qǐng)日期2008年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月4日
發(fā)明者D·加尼翁, G·D·德梅斯泰, M·A·莫里希 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司