專利名稱:水下空間曲面測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型屬于核電廠反應(yīng)堆壓力容器堆內(nèi)構(gòu)件測量技術(shù),具體涉及一種水下空 間曲面測量裝置。
背景技術(shù):
核電廠反應(yīng)堆壓力容器堆內(nèi)構(gòu)件的水下修復(fù)工程中,需要在2400PPM硼酸水和高 輻射劑量環(huán)境下(輻射劑量率10Sv/h)進(jìn)行水下空間曲面的測量工作,因此需要一種能夠 耐硼酸腐蝕的、測量元件也必須能夠承受該高輻射劑量的、高精度的測量裝置。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種耐硼酸腐蝕的、高精度的、防水的水下空間曲面
測量裝置。本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下一種水下空間曲面測量裝置,它包括底座,底座上通過滾珠導(dǎo)軌安裝有箱體,絲杠 穿過箱體安裝在底座兩端的端板之間,其特征在于絲杠上設(shè)有滾珠絲杠副,箱體一端開有 通孔,在通孔內(nèi)的滾珠絲杠副上設(shè)有密封套、大齒輪、鎖母和后蓋板,大齒輪外設(shè)有支撐環(huán), 該大齒輪上端設(shè)有小齒輪,小齒輪由設(shè)在箱體內(nèi)的電機(jī)驅(qū)動(dòng);該箱體內(nèi)壁上固定安裝有導(dǎo) 軌架,導(dǎo)軌架與其上的滾珠導(dǎo)軌副配合,該滾珠導(dǎo)軌副上固定設(shè)有光柵尺架,光柵尺架上設(shè) 有光柵尺,所述光柵尺架內(nèi)設(shè)有定位拉桿,定位拉桿帶動(dòng)光柵尺架、光柵尺和滾珠導(dǎo)軌副運(yùn) 動(dòng);所述箱體上還設(shè)有數(shù)字式探規(guī)。在上述水下空間曲面測量裝置中在通孔內(nèi)的滾珠絲杠副上還設(shè)有鎖母和后蓋 板。在上述水下空間曲面測量裝置中箱體上設(shè)有7個(gè)數(shù)字式探規(guī),在箱體側(cè)面上下 兩排交叉分布,上排4個(gè)、下排3個(gè)。在上述水下空間曲面測量裝置中所述的滾珠導(dǎo)軌副包括滑條和滑槽,滑條伸出 滑槽的槽道外,滑條和滑槽之間設(shè)有滾珠,使滑條在滑槽槽道內(nèi)移動(dòng)。在上述水下空間曲面測量裝置中所述的絲杠與底座一端通過絲杠定位套連接。本實(shí)用新型的有益效果采用數(shù)字式探規(guī),通過電機(jī)、絲杠和導(dǎo)軌的配合帶動(dòng)箱體 內(nèi)裝置穩(wěn)定移動(dòng),將各個(gè)數(shù)字式探規(guī)和光柵尺產(chǎn)生位移,得到各個(gè)數(shù)字式探規(guī)相對(duì)于測量 基準(zhǔn)的相對(duì)位移量,從而精確測得曲面各點(diǎn)的厚度,解決了核電廠反應(yīng)堆壓力容器堆內(nèi)構(gòu) 件的水下修復(fù)中曲面測量的難題;整個(gè)裝置箱體內(nèi)部密封,讓其內(nèi)部的電子元件遠(yuǎn)離高輻 射劑量率的測量接觸表面,大大降低了測量元件所接受的輻射劑量率,從而使其能夠滿足 高輻射劑量的使用環(huán)境。
圖la是本實(shí)用新型整體示意圖;[0012]圖lb為圖1局部放大圖;圖2a為圖1側(cè)視圖;圖2b為圖2局部放大圖圖3為滾珠導(dǎo)軌副示意圖;圖中1.箱體;2.絲杠;3.通孔;4.數(shù)字式探規(guī);5.滾珠絲杠副;6.滾珠導(dǎo)軌; 7.電機(jī);8.光柵尺;9.密封套;10.小齒輪;11.大齒輪;12.支撐環(huán);13.安裝鎖母;14.后 蓋板;15.絲杠定位套;16.底座;17.滾珠導(dǎo)軌副;18.導(dǎo)軌架;19.光柵尺架;20.定位拉 桿;21.滑條;22.滑槽;23.滾珠。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。圖1和圖2所示,箱體1內(nèi)安裝有電機(jī)7,箱體1的一端開有與其內(nèi)腔相通的通孔 3,通孔3內(nèi)安裝有穿過箱體1的絲杠2,絲杠2上套有滾珠絲杠副5,在箱體1的通孔3內(nèi)、 滾珠絲杠副5上依次套裝有密封套9、大齒輪11,大齒輪11上安裝有與其嚙合的小齒輪10, 小齒輪10通過定位銷釘固定在電機(jī)7的轉(zhuǎn)軸上,大齒輪11外部套裝有支撐環(huán)12,這樣電 機(jī)7通過小齒輪10帶動(dòng)大齒輪11并通過滾珠絲杠副5驅(qū)動(dòng)箱體1整體向前移動(dòng)。在滾珠 絲杠副5上安裝鎖母13和后蓋板14將箱體1密封起來。絲杠2尾部通過安裝絲杠定位套 15固定在底座16上,整個(gè)箱體1底部安裝滾珠導(dǎo)軌6,使箱體1能夠在底座16上移動(dòng)。該 箱體1上端設(shè)有數(shù)字式探規(guī)4和光柵尺8,光柵尺8安裝光柵尺架19上,光柵尺架19內(nèi)固 定安裝一個(gè)定位拉桿20,箱體1內(nèi)壁上固定安裝一個(gè)導(dǎo)軌架18,光柵尺架19固定連接滾珠 導(dǎo)軌副17,定位拉桿20帶動(dòng)光柵尺架19、光柵尺8和滾珠導(dǎo)軌副17運(yùn)動(dòng),通過滾珠導(dǎo)軌副 17和導(dǎo)軌架18的配合,使光柵尺8移動(dòng)。圖3所示,滾珠導(dǎo)軌副17是由固定在導(dǎo)軌架18上的滑條21和固定在光柵尺架19 上的滑槽22組成的,兩者之間設(shè)有滾珠,使滑條21在滑槽22槽道內(nèi)移動(dòng)。圖2所示,在箱體3上安裝有7個(gè)數(shù)字式探規(guī)4,上下兩排交叉分布,上排4個(gè)、下 排3個(gè),這樣的分布結(jié)構(gòu)剛好能使7個(gè)探規(guī)覆蓋整個(gè)測量面積,大大提高了測量精度。本實(shí)施例中數(shù)字式探規(guī)4為德國JENA公司生產(chǎn)的NT12型號(hào)的探規(guī)。該數(shù)字式探規(guī)4的最大行程很短只有12MM,所以在箱體上安裝了光柵尺8,因而水 下探規(guī)實(shí)際行走的相對(duì)基準(zhǔn)位置的距離為本身伸出的長度加上光柵尺8的位移距離;滾 珠導(dǎo)軌副17只是一個(gè)提高箱體1和光柵尺8位移精度的一個(gè)裝置本身不產(chǎn)生位移距離;將 各個(gè)數(shù)字式探規(guī)4的位移數(shù)據(jù)和光柵尺8的位移量結(jié)合起來進(jìn)行計(jì)算得到各個(gè)數(shù)字式探規(guī) 4相對(duì)于測量基準(zhǔn)的相對(duì)位移量,這個(gè)相對(duì)位移量也就是我們所需要的空間曲面各點(diǎn)的厚 度。本裝置箱體1結(jié)構(gòu)的材料為高強(qiáng)鋁材質(zhì);滾珠絲杠副和滾珠導(dǎo)軌均為不銹鋼材質(zhì)。
權(quán)利要求一種水下空間曲面測量裝置,它包括底座(16),底座(16)上通過滾珠導(dǎo)軌(6)安裝有箱體(1),絲杠(2)穿過箱體(1)安裝在底座(16)兩端的端板之間,其特征在于絲杠(2)上設(shè)有滾珠絲杠副(5),箱體(1)一端開有通孔(3),在通孔(3)內(nèi)的滾珠絲杠副(5)上設(shè)有密封套(9)和大齒輪(11),大齒輪(11)外設(shè)有支撐環(huán)(12),該大齒輪(11)上端設(shè)有與其嚙合的小齒輪(10),小齒輪(10)由設(shè)在箱體(1)內(nèi)的電機(jī)(7)驅(qū)動(dòng);該箱體(1)內(nèi)壁上固定安裝有導(dǎo)軌架(18),導(dǎo)軌架(18)與其上的滾珠導(dǎo)軌副(17)配合,該滾珠導(dǎo)軌副(17)上固定設(shè)有光柵尺架(19),光柵尺架(19)上設(shè)有光柵尺(8),所述光柵尺架(19)內(nèi)設(shè)有定位拉桿(20),定位拉桿(20)帶動(dòng)光柵尺架(19)、光柵尺(8)和滾珠導(dǎo)軌副(17)運(yùn)動(dòng);所述箱體(1)上還設(shè)有數(shù)字式探規(guī)(4)。
2.如權(quán)利要求1所述的水下空間曲面測量裝置,其特征在于箱體⑴上設(shè)有7個(gè)數(shù) 字式探規(guī)(4),在箱體側(cè)面上下兩排交叉分布,上排4個(gè)、下排3個(gè)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的水下空間曲面測量裝置,其特征在于在通孔(3)內(nèi)的滾 珠絲杠副(5)上還設(shè)有鎖母(13)和后蓋板(14)。
4.如權(quán)利要求1或2所述的水下空間曲面測量裝置,其特征在于所述的滾珠導(dǎo)軌副 (17)包括滑條(21)和滑槽(22),滑條(21)伸出滑槽(22)的槽道外,滑條(21)和滑槽(22) 之間設(shè)有滾珠(23),使滑條(21)在滑槽(22)槽道內(nèi)移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1或2所述的水下空間曲面測量裝置,其特征在于所述的絲杠(2)與 底座(16) —端通過絲杠定位套(15)連接。
專利摘要本實(shí)用新型涉及核電廠反應(yīng)堆壓力容器堆內(nèi)構(gòu)件測量技術(shù),具體公開了一種水下空間曲面測量裝置,采用數(shù)字式探規(guī),通過電機(jī)、絲杠和導(dǎo)軌的配合帶動(dòng)箱體內(nèi)裝置穩(wěn)定移動(dòng),將各個(gè)數(shù)字式探規(guī)和光柵尺產(chǎn)生位移,得到各個(gè)數(shù)字式探規(guī)相對(duì)于測量基準(zhǔn)的相對(duì)位移量,從而精確測得曲面各點(diǎn)的厚度,解決了核電廠反應(yīng)堆壓力容器堆內(nèi)構(gòu)件的水下修復(fù)中曲面測量的難題;整個(gè)裝置箱體內(nèi)部密封,讓其內(nèi)部的電子元件遠(yuǎn)離高輻射劑量率的測量接觸表面,大大降低了測量元件所接受的輻射劑量率,從而使其能夠滿足高輻射劑量的使用環(huán)境。
文檔編號(hào)G01B11/06GK201615750SQ200920272948
公開日2010年10月27日 申請(qǐng)日期2009年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者張斌, 戚宏昶, 李濤, 童阜忠, 陳梁 申請(qǐng)人:秦山核電有限公司