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轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置的制作方法

文檔序號(hào):5868883閱讀:162來源:國知局
專利名稱:轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種光學(xué)感應(yīng)裝置,特別是指一種轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置。
背景技術(shù)
在日常生活中,為了掌握對(duì)象的傾斜角度或位移情況,通常會(huì)利用到各種感應(yīng)器, 而且這些感應(yīng)器通常包含水平位移感應(yīng)功能、垂直位移感應(yīng)功能或傾角感應(yīng)功能。在實(shí)務(wù)運(yùn)用上,這些感應(yīng)器通常會(huì)運(yùn)用到許多感應(yīng)技術(shù),諸如光學(xué)感應(yīng)技術(shù)、聲波感應(yīng)技術(shù)或電學(xué)感應(yīng)技術(shù)等。其中,由于光學(xué)感應(yīng)技術(shù)具有感應(yīng)速度快的優(yōu)點(diǎn),故逐漸被應(yīng)用于制作高靈敏度的感應(yīng)用途。在利用現(xiàn)有技術(shù)所制作出的光學(xué)感應(yīng)裝置中,多半在一殼體中圍構(gòu)出一黑體條件空間,并在黑體環(huán)境空間中設(shè)置一發(fā)光組件、一遮蔽組件與至少一光學(xué)感應(yīng)組件,藉以在進(jìn)行光學(xué)感應(yīng)時(shí),不至于受到光害或環(huán)境光線的干擾而影響到感應(yīng)精確性。發(fā)光組件投射出一光束。遮蔽組件為一種移動(dòng)式遮蔽組件,并且可移動(dòng)地設(shè)置在上述的黑體條件空間,藉以在光學(xué)感應(yīng)裝置移動(dòng)或傾斜時(shí),受到重力或慣性力的作用而移動(dòng),并且改變遮蔽組件與發(fā)光組件以及光學(xué)感應(yīng)組件之間的相對(duì)位置。由于在遮蔽組件與發(fā)光組件以及光學(xué)感應(yīng)組件之間的相對(duì)位置改變時(shí),會(huì)改變光束的反射角度與行進(jìn)路徑,使光學(xué)感應(yīng)組件感應(yīng)到光束的強(qiáng)度也隨之改變,據(jù)以判斷并計(jì)算出與水平位移、垂直位移或傾角等相關(guān)的參數(shù)。然而,這種光學(xué)感應(yīng)技術(shù)卻一直存在一個(gè)幾乎難以避免的問題。這個(gè)問題就是在遮蔽組件移動(dòng)時(shí),往往會(huì)與殼體產(chǎn)生碰撞,因而產(chǎn)生吵雜的噪音。在噪音的影響下,往往容易令使用者無法分辨噪音究竟是代表遮蔽組件與殼體間的正常碰撞,還是意味著光學(xué)感應(yīng)裝置內(nèi)部發(fā)生了零件松脫的異?,F(xiàn)象,因而造成使用上或保養(yǎng)維修上的重大困擾。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所欲解決的技術(shù)問題與目的有鑒于在現(xiàn)有技術(shù)所提供的光學(xué)感應(yīng)裝置中,普遍存在噪音對(duì)使用上或保養(yǎng)維修上所造成的重大困擾;緣此,本發(fā)明的主要目的在于提供一種光學(xué)感應(yīng)裝置,其在光學(xué)感應(yīng)裝置的黑體條件空間中以一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件取代現(xiàn)有的移動(dòng)式遮蔽組件,藉以在光學(xué)感應(yīng)裝置因揚(yáng)升或沉降而產(chǎn)生傾斜時(shí),利用重力作用所產(chǎn)生變化,使轉(zhuǎn)子式遮蔽組件旋轉(zhuǎn)到不同的方位,藉以感應(yīng)光學(xué)感應(yīng)裝置的傾斜方位。本發(fā)明解決問題的技術(shù)手段本發(fā)明為解決現(xiàn)有技術(shù)的問題,提供一種轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,設(shè)置于一待感應(yīng)對(duì)象,該轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置感應(yīng)該待感應(yīng)對(duì)象的至少一傾斜方位,該轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置包含一電路板;一殼體,與該電路板圍構(gòu)出一黑體條件空間,該黑體條件空間包含一發(fā)光腔室、一遮光腔室與至少一光學(xué)感應(yīng)腔室,且該遮光腔室分別連通該發(fā)光腔室與該光學(xué)感應(yīng)腔室;至少一發(fā)光組件,設(shè)置于該發(fā)光腔室,并且投射出一光束;一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件,具有一幾何中心與一偏離于該幾何中心的重量中心,并且可轉(zhuǎn)動(dòng)地限設(shè)于該遮光腔室,藉以在該轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置隨該待感應(yīng)對(duì)象傾斜時(shí),以該幾何中心轉(zhuǎn)動(dòng),使該重量中心位于該幾何中心的一沉降方位,藉以形成一遮蔽條件;以及至少一光學(xué)感應(yīng)組件,設(shè)置于該光學(xué)感應(yīng)腔室,感應(yīng)該光束,并依據(jù)該遮蔽條件傳送出一感應(yīng)信號(hào),藉以感應(yīng)出該傾斜方位。轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置還包含一抗靜電組件,該抗靜電組件設(shè)置于該遮光腔室,以將該轉(zhuǎn)子式遮蔽組件轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)所產(chǎn)生的一靜電電力導(dǎo)通接地。該轉(zhuǎn)子式遮蔽組件包含一第一重量部與一第二重量部,該第一重量部的重量大于該第二重量部。該重量中心位于該第一重量部。該第一重量部具有一第一遮光面,該第二重量部具有一第二遮光面,該第一遮光面的面積大于該第二遮光面的面積。該第一重量部的比重大于該第二重量部的比重。該第一重量部的體積大于該第二重量部的體積。該第一重量部與該第二重量部之間具有一自該第一重量部朝向該第二重量部傾降的傾降面。該傾降面為一線性斜面、一凹面與一凸面中的至少其中之一。發(fā)光組件為一發(fā)光二極管(Light Emitting Diode ;LED),光學(xué)感應(yīng)組件可為一光敏晶體管(Photo Transistor)或?yàn)橐还舛O管(Photo Diode)。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的體積約略等于遮光腔室的容積,使轉(zhuǎn)子式遮蔽組件只能在遮光腔室中轉(zhuǎn)動(dòng)。本發(fā)明對(duì)照現(xiàn)有技術(shù)的功效相較于現(xiàn)有技術(shù)所提供的光學(xué)感應(yīng)裝置,由于在本發(fā)明所提供的光學(xué)感應(yīng)裝置中,以轉(zhuǎn)子式遮蔽組件取代現(xiàn)有的移動(dòng)式遮蔽組件;因此,可以利用轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的旋轉(zhuǎn)來感應(yīng)光學(xué)感應(yīng)裝置的傾斜方位,藉以解決在現(xiàn)有技術(shù)中因?yàn)檎诒谓M件與殼體產(chǎn)生碰撞所造成的噪音問題,進(jìn)而有效消除現(xiàn)有技術(shù)中,噪音問題對(duì)使用上或保養(yǎng)維修上所造成的重大困擾。本發(fā)明所采用的具體實(shí)施例,將藉由以下的實(shí)施例及附圖作進(jìn)一步的說明。


圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)感應(yīng)裝置的外觀立體圖;圖2為當(dāng)圖1中殼體自電路板分離后的立體透視示意圖;圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例的殼體的示意圖;圖4為本發(fā)明第一實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件示意圖;圖5為本發(fā)明第一實(shí)施例的工作原理示意圖;圖6為本發(fā)明第二實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的外觀立體圖;圖7為本發(fā)明第三實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的側(cè)視圖;圖8為本發(fā)明第四實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的側(cè)視圖;以及圖9為本發(fā)明第五實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的側(cè)視圖。其中,附圖標(biāo)記
1光學(xué)感應(yīng)裝置
11殼體
111發(fā)光腔室
112遮光腔室
113、114光學(xué)感應(yīng)腔室
115抗靜電組件
12電路板
121抗靜電組件
122接地電路
13發(fā)光組件
iri4d轉(zhuǎn)子式遮蔽組件
14廣141d第一重量部
142 142d第二重量部
143 143d第一遮光面
144 144a第二遮光面
145 147傾降面
15、16光學(xué)感應(yīng)組件
LBl光束
Il投射方向
13、14旋轉(zhuǎn)方向
12揚(yáng)升方位
15沉降方位
GCl GC5幾何中心
WCrWC5重量中心
OD偏心距
具體實(shí)施例方式由于本發(fā)明所提供的光學(xué)感應(yīng)裝置可廣泛運(yùn)用于感應(yīng)各種待感應(yīng)對(duì)象的傾斜方位,而且相關(guān)的組合實(shí)施方式更是不勝枚舉,故在此不再一一贅述,僅列舉其中五個(gè)較佳實(shí)施例加以具體說明。請(qǐng)參閱圖1至圖5,圖1為在本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)感應(yīng)裝置的外觀立體圖;圖 2為當(dāng)圖1中殼體自電路板分離后的立體透視示意圖;圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例的殼體的示意圖;圖4為本發(fā)明第一實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件示意圖;圖5為本發(fā)明第一實(shí)施例的工作原理示意圖。如圖1至圖5所示,一光學(xué)感應(yīng)裝置1設(shè)置于一待感應(yīng)對(duì)象(圖未示),并且用以感應(yīng)該待感應(yīng)對(duì)象的傾斜方位。光學(xué)感應(yīng)裝置1包含一殼體11、一電路板12、一發(fā)光組件 13、一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14以及兩個(gè)光學(xué)感應(yīng)組件15與16。殼體11與電路板12設(shè)置于一待感應(yīng)物件上,殼體11與電路板12圍構(gòu)出一黑體條件空間。黑體條件空間包含一發(fā)光腔室111、一遮光腔室112以及兩個(gè)光學(xué)感應(yīng)腔室113與114。遮光腔室112分別連通發(fā)光腔室111以及光學(xué)感應(yīng)腔室113與114,且遮光腔室112更設(shè)置有一抗靜電組件115。同時(shí), 抗靜電組件115可為一局部或完全涂布于遮光腔室112內(nèi)壁的抗靜電涂層(Anti-Matic Coating)0電路板12上設(shè)置另一抗靜電組件121與一接地電路122,且上述的抗靜電組件 115與121分別電性連接于接地電路122,使抗靜電組件115與121得以藉由接地電路122 而保持接地的狀態(tài)。同時(shí),抗靜電組件121設(shè)置于對(duì)應(yīng)于遮光腔室112的電路板12位置, 并且可為一抗靜電電路或?yàn)橐豢轨o電層。亦即,當(dāng)抗靜電組件115為一抗靜電涂層時(shí),抗靜電組件115亦可自遮光腔室112向外延伸至與電路板12的接地電路122接觸。發(fā)光組件 13設(shè)置于發(fā)光腔室111,并可為一發(fā)光二極管(Light Emitting Diode ;LED)。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14可轉(zhuǎn)動(dòng)地限設(shè)于遮光腔室112,換言之,轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14被限制于只能在遮光腔室112中轉(zhuǎn)動(dòng)。在本發(fā)明較佳實(shí)施例中,較佳者,轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14的體積約略等于遮光腔室112的容積,使轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14只能在遮光腔室112中轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14具有一幾何中心GCl與一偏離于幾何中心GCl的重量中心 WC1,且?guī)缀沃行腉Cl與重量中心WCl相距一偏心距(Offset Distance)0D。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14包含一第一重量部141與一第二重量部142,第一重量部141的重量、比重或體積中大于第二重量部142的重量、比重或體積,且重量中心WCl位于第一重量部141。同時(shí),第一重量部141具有一第一遮光面143,第二重量部142具有一第二遮光面144,且第一遮光面143的面積大于第二遮光面144的面積。較佳者,在轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14設(shè)置于遮光腔室 112后,在高度上,第一遮光面143幾乎完全涵蓋殼體11與電路板12之間的間隙,第二遮光面144則只有涵蓋殼體11與電路板12之間的部份間隙。當(dāng)轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14在遮光腔室112中轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),隨時(shí)與抗靜電組件115與121當(dāng)中的至少一者保持接觸。光學(xué)感應(yīng)組件15與16分別設(shè)置在光學(xué)感應(yīng)腔室113與114,并且可為光敏晶體管(Photo Transistor)或光二極管(PhotoDiode)。雖然在本實(shí)施例中,抗靜電組件115與121皆須電性連結(jié)于接地電路122 ;然而,在實(shí)務(wù)運(yùn)用上,只要抗靜電組件115 與121本身具有足夠的靜電吸收能力或減少靜電電力產(chǎn)生的能力,亦可不必藉由電性連結(jié)于接地電路122的方式來發(fā)揮抗靜電的功效。上述的待感應(yīng)對(duì)象可為一電子裝置,如數(shù)字相機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)或移動(dòng)電話等。在利用光學(xué)感應(yīng)裝置1來感應(yīng)該待感應(yīng)對(duì)象的傾斜方位時(shí),可使發(fā)光組件13沿一投射方向Il朝向發(fā)光腔室111投射出一光束LB1。此時(shí),沿投射方向Il行進(jìn)的光束LBl會(huì)被投射至位于遮光腔室112的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14,并經(jīng)由轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14與殼體11的內(nèi)壁面中的至少一者,至少反射一次而使上述的黑體條件空間被光束LBl所照亮,進(jìn)而使光束LBl被光學(xué)感應(yīng)組件15與16所感應(yīng)。如圖5所示,當(dāng)待感應(yīng)物件沿一揚(yáng)升方位12揚(yáng)升時(shí),會(huì)使光學(xué)感應(yīng)裝置1的揚(yáng)升方位12揚(yáng)升而傾斜,使轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14受一重力作用,當(dāng)偏心距OD與重力沿電路板12 所在平面的分量的外積(Product)所得的旋轉(zhuǎn)力矩(Rotation Torque)大于轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14與電路板12或遮光腔室112間的摩擦力所提供的阻抗力矩(Resistance Torque)時(shí), 轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14就會(huì)沿一旋轉(zhuǎn)方向13或另一旋轉(zhuǎn)方向14旋轉(zhuǎn),使重量中心WCl位于幾何中心GCl的一沉降方位15,且揚(yáng)升方位12與沉降方位15彼此反向,藉此可產(chǎn)生一遮蔽條件。在此遮蔽條件下,第一遮光面143會(huì)遮住光學(xué)感應(yīng)腔室113,使位于光學(xué)感應(yīng)腔室113的光學(xué)感應(yīng)組件15幾乎無法感應(yīng)到光束LBl。反之,第二遮光面144只會(huì)部分遮住光學(xué)感應(yīng)腔室114,使位于光學(xué)感應(yīng)腔室114的光學(xué)感應(yīng)組件16所感應(yīng)到的光束LBl具有較大的光學(xué)強(qiáng)度,并可使光學(xué)感應(yīng)組件16依據(jù)上述的遮蔽條件傳送出一感應(yīng)信號(hào),藉以感應(yīng)該待感應(yīng)物件的傾斜方位。相似地,當(dāng)待感應(yīng)對(duì)象沿沉降方位15沉降時(shí),會(huì)使光學(xué)感應(yīng)裝置1的沉降方位15 沉降而傾斜,使轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14受一重力作用,當(dāng)偏心距OD與重力沿電路板12所在平面的分量的外積(Product)所得的旋轉(zhuǎn)力矩(RotationTorque)大于轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14與電路板12或遮光腔室112間的摩擦力所提供的阻抗力矩(Resistance Torque)時(shí),轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14就會(huì)沿旋轉(zhuǎn)方向13或14旋轉(zhuǎn),使重量中心WCl位于幾何中心GCl的沉降方位 15,藉此亦可產(chǎn)生上述的遮蔽條件。請(qǐng)參閱圖6,其為本發(fā)明第二實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的外觀立體圖。在本發(fā)明第二實(shí)施例中,以另一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件Ha取代第一實(shí)施例中的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件Ha具有一幾何中心GC2與一偏離于幾何中心GC2的重量中心WC2。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件Ha包含一第一重量部141a與一第二重量部142a,且第一重量部141a的重量、比重或體積大于第二重量部14 的重量、比重或體積。同時(shí),第一重量部141a具有一第一遮光面143a,第二重量部14 具有一第二遮光面144a,且第一遮光面143a的面積大于第二遮光面14 的面積。較佳者,在轉(zhuǎn)子式遮蔽組件Ha設(shè)置于遮光腔室112后,在高度上,第一遮光面143a幾乎完全涵蓋殼體11與電路板12之間的間隙,第二遮光面14 則只有涵蓋殼體11與電路板12之間的部份間隙。請(qǐng)參閱圖7,其為本發(fā)明第三實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的側(cè)視圖。在本發(fā)明第三實(shí)施例中,以另一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14b取代第一實(shí)施例中的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14b具有一幾何中心GC3與一偏離于幾何中心GC3的重量中心WC3。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14b包含一第一重量部141b與一第二重量部142b,且第一重量部141b的重量、比重或體積大于第二重量部142b的重量、比重或體積。同時(shí),第一重量部141b具有一第一遮光面 14北。第一重量部141b與第二重量部142b之間具有一自第一重量部141b朝向第二重量部142b傾降的傾降面145,且傾降面145為一線性斜面。請(qǐng)參閱圖8,其為本發(fā)明第四實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的側(cè)視圖。在本發(fā)明第四實(shí)施例中,以另一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14c取代第一實(shí)施例中的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件Hc具有一幾何中心GC4與一偏離于幾何中心GC4的重量中心WC4。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件Hc包含一第一重量部141c與一第二重量部142c,且第一重量部141c的重量、比重或體積大于第二重量部142c的重量、比重或體積。同時(shí),第一重量部141c具有一第一遮光面 143c。第一重量部141c與第二重量部142c之間具有一自第一重量部141c朝向第二重量部142c傾降的傾降面146,且傾降面146為一凹面。請(qǐng)參閱圖9,其為本發(fā)明第五實(shí)施例的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的側(cè)視圖。在本發(fā)明第五實(shí)施例中,以另一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14d取代第一實(shí)施例中的轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14d具有一幾何中心GC5與一偏離于幾何中心GC5的重量中心WC5。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14d包含一第一重量部141d與一第二重量部142d,且第一重量部141d的重量、比重或體積大于第二重量部142d的重量、比重或體積。同時(shí),第一重量部141d具有一第一遮光面 143d。第一重量部141d與第二重量部142d之間具有一自第一重量部141d朝向第二重量部142d傾降的傾降面147,且傾降面147為一凸面。在閱讀第三實(shí)施例至第五實(shí)施例以及圖7至圖9后,相信舉凡在所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該不難理解,傾降面可為一線性斜面、一凹面、一凸面或其組合。在轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的底面面積與高度皆相同時(shí),當(dāng)傾降面為一凹面時(shí),幾何中心與重量中心間的偏心距較傾降面為一線性斜面者為大;當(dāng)傾降面為一凸面時(shí),幾何中心與重量中心間的偏心距較傾降面為一線性斜面者為小。因此,藉由幾何構(gòu)造的設(shè)計(jì),可有效控制偏心距的大小,進(jìn)而控制光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)靈敏度。在閱讀本發(fā)明所公開的技術(shù)后,相信舉凡在所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該更容易理解,以本發(fā)明第一實(shí)施例為例,相較于現(xiàn)有技術(shù)所提供的光學(xué)感應(yīng)裝置,由于在本發(fā)明所提供的光學(xué)感應(yīng)裝置1中,以轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14取代現(xiàn)有的移動(dòng)式遮蔽組件;因此,可以利用轉(zhuǎn)子式遮蔽組件14的旋轉(zhuǎn)來感應(yīng)光學(xué)感應(yīng)裝置的傾斜方位,藉以解決在現(xiàn)有技術(shù)中因?yàn)檎诒谓M件與殼體產(chǎn)生碰撞所造成的噪音問題,進(jìn)而有效消除現(xiàn)有技術(shù)中,噪音問題對(duì)使用上或保養(yǎng)維修上所造成的重大困擾。藉由上述的本發(fā)明實(shí)施例可知,本發(fā)明確具產(chǎn)業(yè)上的利用價(jià)值。以上的實(shí)施例說明,僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例說明,舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可依據(jù)本發(fā)明的上述實(shí)施例說明而作其它種種的改良及變化。然而這些依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例所作的種種改良及變化,當(dāng)仍屬于本發(fā)明的創(chuàng)作精神及界定的專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,設(shè)置于一待感應(yīng)對(duì)象,用以感應(yīng)該待感應(yīng)對(duì)象的至少一傾斜方位,該轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置包含一電路板;一殼體,與該電路板圍構(gòu)出一黑體條件空間,該黑體條件空間包含一發(fā)光腔室、一遮光腔室與至少一光學(xué)感應(yīng)腔室,該遮光腔室分別連通該發(fā)光腔室與該光學(xué)感應(yīng)腔室;至少一發(fā)光組件,設(shè)置于該發(fā)光腔室,并且投射出一光束;一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件,具有一幾何中心與一偏離于該幾何中心的重量中心,并且可轉(zhuǎn)動(dòng)地限設(shè)于該遮光腔室,藉以在該轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置隨該待感應(yīng)對(duì)象傾斜時(shí),以該幾何中心轉(zhuǎn)動(dòng),使該重量中心位于該幾何中心的一沉降方位,藉以形成一遮蔽條件;以及至少一光學(xué)感應(yīng)組件,設(shè)置于該光學(xué)感應(yīng)腔室,感應(yīng)該光束,并依據(jù)該遮蔽條件傳送出一感應(yīng)信號(hào),藉以感應(yīng)出該傾斜方位。
2.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,還包含一抗靜電組件,該抗靜電組件設(shè)置于該遮光腔室,以將該轉(zhuǎn)子式遮蔽組件轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)所產(chǎn)生的一靜電電力導(dǎo)通接地。
3.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該轉(zhuǎn)子式遮蔽組件包含一第一重量部與一第二重量部,該第一重量部的重量大于該第二重量部。
4.如權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該重量中心位于該第一重量部。
5.如權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該第一重量部具有一第一遮光面,該第二重量部具有一第二遮光面,該第一遮光面的面積大于該第二遮光面的面積。
6.如權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該第一重量部的比重大于該第二重量部的比重。
7.如權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該第一重量部的體積大于該第二重量部的體積。
8.如權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該第一重量部與該第二重量部之間具有一自該第一重量部朝向該第二重量部傾降的傾降面。
9.如權(quán)利要求8所述的轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,其特征在于,該傾降面為一線性斜面、一凹面與一凸面中的至少其中之一。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種轉(zhuǎn)子式光學(xué)感應(yīng)裝置,設(shè)置于一待感應(yīng)對(duì)象,包含一殼體、至少一發(fā)光組件、一轉(zhuǎn)子式遮蔽組件與至少一光學(xué)感應(yīng)組件。殼體內(nèi)部具有一黑體條件空間,包含一發(fā)光腔室、一遮光腔室與至少一光學(xué)感應(yīng)腔室。發(fā)光組件投射出一光束。轉(zhuǎn)子式遮蔽組件具有一幾何中心與一偏離于幾何中心的重量中心,并可轉(zhuǎn)動(dòng)地限設(shè)于該遮光腔室。當(dāng)光學(xué)感應(yīng)裝置隨該待感應(yīng)對(duì)象傾斜時(shí),該轉(zhuǎn)子式遮蔽組件以該幾何中心轉(zhuǎn)動(dòng),使重量中心位于幾何中心的一沉降方位。光學(xué)感應(yīng)組件設(shè)置于光學(xué)感應(yīng)腔室,感應(yīng)該光束,并據(jù)以傳送出一感應(yīng)信號(hào)。本發(fā)明利用轉(zhuǎn)子式遮蔽組件的旋轉(zhuǎn)來感應(yīng)光學(xué)感應(yīng)裝置的傾斜方位,以解決遮蔽組件與殼體產(chǎn)生碰撞所造成的噪音問題。
文檔編號(hào)G01C9/10GK102192725SQ20101012696
公開日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2010年3月4日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月4日
發(fā)明者馮仲平, 孫宗鼎, 陳鵬宇 申請(qǐng)人:艾笛森光電股份有限公司
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