專利名稱：液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及細(xì)胞制片染色領(lǐng)域，尤其涉及一種液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴與膜管連接時(shí)，由于其密封圈采用的是0型密 封圈，常常會(huì)因?yàn)榻佑|不牢導(dǎo)致漏液或者脫落的情況發(fā)生。因此，急需一種使得噴嘴與膜管 連接時(shí)連接牢靠，密封效果好的新型噴嘴。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種密封效果更好，不易脫落，效率更高 的新型噴嘴。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種液基薄層細(xì) 胞制片機(jī)用噴嘴，包括氣管接頭、廢液管接頭、噴頭、噴頭彈簧、卸管架上頂塊、卸管架頂桿、 卸管下頂塊和密封圈，所述氣管接頭和廢液管接頭與噴頭的一端連接并在噴頭內(nèi)形成一空 腔，所述噴頭彈簧套設(shè)于卸管架頂桿上，所述卸管架上頂塊、卸管架頂桿與卸管下頂塊固定 連接，所述用來密封膜管與噴頭的密封圈套設(shè)于噴頭上的密封槽內(nèi)，所述密封圈的內(nèi)側(cè)壁 為平面結(jié)構(gòu)，其外側(cè)壁上設(shè)置有外凸起。其中，所述的密封圈的向外凸起的形狀為向右旋轉(zhuǎn)90°的“凸”形。其中，所述的密封圈的向外凸起的形狀為“D”形。其中，所述的卸管架頂桿為兩個(gè)。其中，所述的安裝密封圈的密封槽的深度為1.2 2. 0mm，所述密封槽的寬度為 2. 5 4. 5mm。其中，所述的安裝密封圈的密封槽的深度為1. 5mm，所述密封槽的寬度為3. 6mm。本實(shí)用新型的有益效果是區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴的噴頭 與套設(shè)于該噴嘴上的膜管接觸不穩(wěn)固容易漏液的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型在密封圈的外側(cè)壁上設(shè) 置有外凸起，在加入了外凸起后，噴頭與套設(shè)于該噴頭上的膜管之間的接觸更加緊固，不易 脫落，使得密封效果更好；同時(shí)由于密封圈的內(nèi)側(cè)壁采用平面結(jié)構(gòu)，相對(duì)于以往的“0”密封 圈結(jié)構(gòu)可以增加密封圈與密封槽的接觸面積，從而使密封圈更不容易從密封槽脫落。

圖1是本實(shí)用新型液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴主視圖；圖2是本實(shí)用新型液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴俯視圖；圖3是本實(shí)用新型第一實(shí)施例的密封圈剖視圖；圖4是本實(shí)用新型第二實(shí)施例的密封圈剖視圖。
具體實(shí)施方式
為詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施 方式并配合附圖詳予說明。請(qǐng)參閱圖1以及圖2，本實(shí)用新型液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，包括氣管接頭1、廢 液管接頭2、噴頭3、卸管架上頂塊4、噴頭彈簧5、卸管架下頂塊6、卸管架頂桿7和密封圈8 及密封圈9，所述氣管接頭1和廢液管接頭2與噴頭的一端連接并在噴頭內(nèi)形成一空腔，所 述噴頭彈簧5套設(shè)于卸管架頂桿7上，所述卸管架上頂塊4、卸管架頂桿7與卸管下頂塊6 固定連接，所述用來密封膜管與噴頭的密封圈8和9套設(shè)于噴頭3上的密封槽10內(nèi)，所述 密封圈8和9的內(nèi)側(cè)壁為平面結(jié)構(gòu)，其外側(cè)壁上設(shè)置有外凸起11。參閱圖3，本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，密封圈8和9的外凸起11的形狀為向右旋 轉(zhuǎn)90°的“凸，，形。參閱圖4，本實(shí)用新型的另一種實(shí)施例中，密封圈8和9的外凸起11的形狀為“D”形。在優(yōu)選的實(shí)施例中，所述的卸管架頂桿7為兩個(gè)。區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的三個(gè)卸管架 頂桿，本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例設(shè)置兩個(gè)卸管架頂桿，這樣做的好處是使得卸管架在上下 移動(dòng)的過程中不容易卡死。在優(yōu)選的實(shí)施例中，所述的安裝密封圈8和9的密封槽10的深度為1. 2 2. Omm, 所述密封槽10的寬度為2. 5 4. 5_。進(jìn)一步地，在優(yōu)選的實(shí)施例中，所述的安裝密封圈8和9的密封槽10的深度為 1. 5mm，所述密封槽10的寬度為3. 6mm。區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴的噴頭與套設(shè)于該噴嘴上的膜管 接觸不穩(wěn)固容易漏液的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型在密封圈的外側(cè)壁上設(shè)置有外凸起，在加入了外 凸起后，噴頭與套設(shè)于該噴頭上的膜管之間的接觸更加緊固，不易脫落，使得密封效果更 好，同時(shí)由于密封圈的內(nèi)側(cè)壁采用平面結(jié)構(gòu)，相對(duì)于以往的“0”密封圈結(jié)構(gòu)可以增加密封圈 與密封槽的接觸面積，從而使密封圈更不容易從密封槽脫落。以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是 利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在 其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，包括氣管接頭、廢液管接頭、噴頭、噴頭彈簧、卸管架上頂塊、卸管架頂桿、卸管下頂塊和密封圈，所述氣管接頭和廢液管接頭與噴頭的一端連接并在噴頭內(nèi)形成一空腔，所述噴頭彈簧套設(shè)于卸管架頂桿上，所述卸管架上頂塊、卸管架頂桿與卸管下頂塊固定連接，所述用來密封膜管與噴頭的密封圈套設(shè)于噴頭上的密封槽內(nèi)，其特征在于所述密封圈的內(nèi)側(cè)壁為平面結(jié)構(gòu)，其外側(cè)壁上設(shè)置有外凸起。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，其特征在于所述的密封圈的 向外凸起的形狀為向右旋轉(zhuǎn)90°的“凸”形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，其特征在于所述的密封圈的 向外凸起的形狀為“D”形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，其特征在于所述的卸管架頂 桿為兩個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2、3或4所述的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，其特征在于所述的安 裝密封圈的密封槽的深度為1. 2 2. 0mm，所述密封槽的寬度為2. 5 4. 5mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，其特征在于所述的安裝密封 圈的密封槽的深度為1. 5mm，所述密封槽的寬度為3. 6mm。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴，包括氣管接頭、廢液管接頭、噴頭、噴頭彈簧、卸管架上頂塊、卸管架頂桿、卸管下頂塊和密封圈，氣管接頭和廢液管接頭與噴頭的一端連接并在噴頭內(nèi)形成一空腔，噴頭彈簧套設(shè)于卸管架頂桿上，卸管架上頂塊、卸管架頂桿與卸管下頂塊固定連接，用來密封膜管與噴頭的密封圈套設(shè)于噴頭上的密封槽內(nèi)，密封圈的內(nèi)側(cè)壁為平面結(jié)構(gòu)，其外側(cè)壁上設(shè)置有外凸起。區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的液基薄層細(xì)胞制片機(jī)用噴嘴的噴頭與套設(shè)于該噴嘴上的膜管接觸不穩(wěn)固容易漏液的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型在密封圈的外側(cè)壁上設(shè)置有外凸起，在加入了外凸起后，噴頭與套設(shè)于該噴頭上的膜管之間的接觸更加緊固，不易脫落，使得密封效果更好。
文檔編號(hào)G01N1/28GK201697822SQ20102023832
公開日2011年1月5日 申請(qǐng)日期2010年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月25日
發(fā)明者林濱, 謝佐福 申請(qǐng)人:福建泰普生物科學(xué)有限公司