專利名稱:一種光譜測(cè)量系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種光譜測(cè)量系統(tǒng),具體涉及一種能測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)光譜各向異性 的光譜測(cè)量系統(tǒng)。
背景技術(shù):
目前,公認(rèn)的光譜儀是在自然光或人工漫射光源的條件下,測(cè)量物體的光譜。由于 無(wú)法控制自然光源的照度變化和人工光源照射的角度,而不能測(cè)量物體在特定入射角和接 收方向反射特性。但是,很多物體的反射特性是隨入射光線方向和接受角度而變化的,單憑 光譜儀無(wú)法測(cè)量物體反射特性的方向性變化。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有的光譜儀不能測(cè)量特定入射角和接收方向時(shí)物體反射光譜的不足, 本實(shí)用新型提供一種光譜測(cè)量系統(tǒng),該系統(tǒng)不僅能測(cè)量截面直徑小于25cm物體的反射率, 而且可以測(cè)量任意入射-反射方向條件下物體的反射光譜。實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案是一種光譜測(cè)量系統(tǒng),它包括光譜儀,它還包括 平行光管,平行光管內(nèi)設(shè)有鎢絲燈,測(cè)試樣品固定在可升降旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)上,光譜儀固定在可 升降旋轉(zhuǎn)支架上。所述的平行光管和可升降旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)均固定在帶刻度工作臺(tái)上,旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)上設(shè) 有能夠在其上移動(dòng)的可升降旋轉(zhuǎn)支架。本實(shí)用新型的有益效果是本測(cè)量系統(tǒng)除能夠測(cè)量樣品反射光譜外,還可測(cè)量在 不同方向光線照射下,樣品在任意方向的反射光譜,在暗室中搭配平行光管和通用的光譜 儀即可完成測(cè)量,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。
圖1是本實(shí)用性型所提供的一種光譜測(cè)量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用性型所提供的一種光譜測(cè)量系統(tǒng)的光譜測(cè)量原理圖圖中1-鎢絲燈,2-平行光管,3-可升降旋轉(zhuǎn)載物臺(tái),4-測(cè)試樣品,5-可升降旋轉(zhuǎn) 支架,6-光譜儀,7-帶刻度工作臺(tái)。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。如圖1所示,平行光管2、用于固定測(cè)試樣品4的旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)3、可升降旋轉(zhuǎn)支架5、 帶刻度工作臺(tái)7和光譜儀6組成一個(gè)測(cè)量系統(tǒng)。鎢燈1放置在平行光管2內(nèi),平行光管2 和鎢燈1作為照射光源,平行光管2固定在帶刻度工作臺(tái)7上,通過(guò)光闌遮擋,使鎢燈1從 平行光管2內(nèi)發(fā)出的平行光只照射測(cè)試樣品4表面;被測(cè)量的測(cè)試樣品4置于平行入射光 路正前方的高度可調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)3上;光譜儀6的接收探頭固定在槍形可升降旋轉(zhuǎn)支架5上,槍形可升降旋轉(zhuǎn)支架5能夠在帶刻度工作臺(tái)7的上表面上移動(dòng),光譜儀6的接收探頭 置于測(cè)試樣品4的反射光路前方。測(cè)試樣品4可以為巖石。本實(shí)用新型所提供的一種光譜測(cè)量系統(tǒng)的光譜測(cè)量過(guò)程如圖1和圖2所示,將該 光譜測(cè)量系統(tǒng)整體置于照度小于IO-5LX的暗室內(nèi)。在進(jìn)行光譜測(cè)量時(shí),先調(diào)整旋轉(zhuǎn)載物臺(tái) 3的位置和高度以保證測(cè)試樣品4與平行光路共軸,建立以旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)3中心0為原點(diǎn),平 行光路為極坐標(biāo)軸P的坐標(biāo)系。通過(guò)旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)3改變測(cè)試樣品4測(cè)量面的方向?qū)崿F(xiàn)入 射光角度的調(diào)節(jié);通過(guò)可升降旋轉(zhuǎn)支架5改變光譜儀6的接收探頭位置,利用帶刻度測(cè)試工 作臺(tái)7刻度計(jì)算旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)3與光譜儀6的探頭之間的距離和方位,即確定光譜儀6的探 頭光軸方向與極坐標(biāo)軸P之夾角的Ψ以及光譜儀6探頭與坐標(biāo)原點(diǎn)0之間的距離d。計(jì) 算測(cè)試樣品4的反射幅亮度LTSP(0, ψ, d)與照射光源幅亮度之比,就可以獲得測(cè)試樣品4 在任意方向入射光照射下,在不同方向的反射光譜Rsp( θ,¥,d)0測(cè)試樣品4的反射譜Rsp( θ,ψ,d)公式如下式所示
0014]
權(quán)利要求1.一種光譜測(cè)量系統(tǒng),它包括光譜儀(6),其特征在于它還包括平行光管0),平行光 管O)內(nèi)設(shè)有鎢絲燈(1),測(cè)試樣品(4)固定在可升降旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)( 上,光譜儀(6)固定 在可升降旋轉(zhuǎn)支架( 上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光譜測(cè)量系統(tǒng),其特征在于所述的平行光管(2)和可 升降旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)( 均固定在帶刻度工作臺(tái)(7)上,旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)(7)上設(shè)有能夠在其上移 動(dòng)的可升降旋轉(zhuǎn)支架(5)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種光譜測(cè)量系統(tǒng),具體公開(kāi)一種能測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)光譜各向異性的光譜測(cè)量系統(tǒng),它包括光譜儀,它還包括平行光管,平行光管內(nèi)設(shè)有鎢絲燈,測(cè)試樣品固定在可升降旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)上,光譜儀探頭固定在可升降旋轉(zhuǎn)支架上。本實(shí)用新型的系統(tǒng)不僅能測(cè)量截面直徑小于25cm物體的反射率,而且可以測(cè)量任意入射-反射方向條件下物體的反射光譜。
文檔編號(hào)G01J3/42GK201885801SQ20102062623
公開(kāi)日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2010年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月25日
發(fā)明者唐義, 李瀚波, 潘蔚 申請(qǐng)人:核工業(yè)北京地質(zhì)研究院