專利名稱：低充氦濃度氦質(zhì)譜檢漏方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及無損檢測中的真空氦質(zhì)譜泄漏檢測領(lǐng)域，尤其適用于特殊密封裝件不宜抽真空或充高壓的密封性能的檢測。
背景技術(shù)：
目前，在氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)的應(yīng)用中，充氦濃度多取20%以上，但有些密封裝置內(nèi)部不允許充入大量無法釋放的示漏氣體，針對這類特殊檢測要求，本發(fā)明提供的低充氦濃度氦質(zhì)譜檢漏方法，簡單實(shí)用，有廣闊的應(yīng)用前景。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供的檢漏方法，利用1%。氦濃度可使其檢漏靈敏度約為 1. 5X IO-8 Pa · m3/s ；檢漏時本底的信號低，噪聲波動小，有利于提高系統(tǒng)的可檢漏率。本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的低充氦濃度氦質(zhì)譜檢漏方法，裝置由容器、通道型漏孔、純氦氣源、檢漏儀構(gòu)成；其中容器3的氦氣1由隔離閥4控制調(diào)節(jié)；純氦氣7由隔離閥6控制調(diào)節(jié)；真空泵2由隔離閥5控制調(diào)節(jié)；
步驟①關(guān)閉隔離閥5、6處于截止?fàn)顟B(tài)，打開隔離閥9由檢測儀10測量其系統(tǒng)本底； 步驟②關(guān)閉隔離閥4，打開隔離閥6，測量漏孔8入口處，純氦氣7的下漏率； 步驟③關(guān)閉隔離閥6、打開隔離閥5，抽除漏孔8入口端的氦氣1，再打開隔離閥4測量其系統(tǒng)本底；
步驟④通過容器3進(jìn)氣口分步注入純氦氣7，使容器3內(nèi)的氦氣1理論濃度分別為 0. 5%。、1%。、3%。、5%。，對應(yīng)每一濃度測量氦氣1通過漏孔8的漏率。所述的方法，氦氣1是配置的氣體，純氦氣7為100%氦濃度的氣體。所述的方法，利用1%。氦濃度可使其檢漏靈敏度為1. 5X ΙΟ"8 Pa · m3/S。本發(fā)明所采用的方案在被檢漏部位的內(nèi)部充入1%。氦濃度的示漏氣體，在檢漏部位的外側(cè)與氦質(zhì)譜檢漏儀相連接，利用氦質(zhì)譜檢漏法實(shí)現(xiàn)其密封性能檢測。檢測時，先打開常規(guī)標(biāo)準(zhǔn)漏孔，效驗(yàn)檢漏系統(tǒng)的狀態(tài)，然后再打開1%。氦濃度的標(biāo)準(zhǔn)漏孔標(biāo)定系統(tǒng)靈敏度，該方法的檢漏靈敏度約為1. 5X IO-8 Pa · m3/S。本發(fā)明的專用標(biāo)準(zhǔn)漏孔，將標(biāo)準(zhǔn)漏孔中的氦濃度與檢漏工況定為一致，可減少因標(biāo)準(zhǔn)漏孔的氦濃度與檢漏工況不一致而引入檢漏結(jié)果的誤差。該方法有效地解決了密封裝置內(nèi)部不宜抽真空或充高壓的一類被檢件密封性檢測的技術(shù)難題，彰顯技術(shù)進(jìn)步。


下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進(jìn)一步說明。附圖1為本發(fā)明方法的實(shí)施結(jié)構(gòu)示意如圖所示1-氦氣；2-真空泵；3-容器；4、5、6、9_隔離閥；7-純氦氣；8-漏孔；10-檢漏儀；
附圖2低濃度氦氣示漏的曲線圖； 如圖所示電信號(V)與濃度(體積比)呈線性關(guān)系。附圖3高濃度氦氣示漏的曲線如圖所示電信號(V)與濃度(體積比)呈線性關(guān)系。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。 實(shí)施例清洗，用無水乙醇清洗實(shí)驗(yàn)器材及密封件，以避免污垢、雜質(zhì)等大分子顆粒堵塞標(biāo)準(zhǔn)漏孔；
實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)組配見圖1 ；1)容器接氦氣并與漏孔進(jìn)氣端連接，即利用注射器將預(yù)先調(diào)配好的示蹤氦氣體注入容器；幻漏孔的出氣端由波紋管(標(biāo)準(zhǔn)KF2Q連接，通檢測儀；3)真空泵調(diào)試準(zhǔn)備就緒后與容器出氣端連通，即利用真空泵對容器抽真空，并保持其真空狀態(tài)不變；4)純氦氣與漏孔進(jìn)氣端連接。分步驟其中容器3的氦氣1由隔離閥4調(diào)控；純氦氣7由隔離閥6調(diào)控；真空泵2由隔離閥5調(diào)控；檢測儀10由隔離閥9調(diào)控；
①關(guān)閉隔離閥5、6處于截止?fàn)顟B(tài)，打開隔離閥9由檢測儀10測量其系統(tǒng)本底；
②關(guān)閉隔離閥4，打開隔離閥6，測量漏孔8入口處，純氦氣7的下漏率；
③關(guān)閉隔離閥6、打開隔離閥5，抽除漏孔8入口端的氦氣1，再打開隔離閥4測量其系統(tǒng)本底；
④通過容器3進(jìn)氣口分步注入純氦氣7，使容器( 內(nèi)的氦氣1理論濃度分別為0.5%。、 1%。、3%。、5%。，對應(yīng)每一濃度測量氦氣1通過漏孔8的漏率。所用的氦氣是配置的氣體，純氦氣是100%氦濃度的氣體。檢測結(jié)果
(1)低充氦濃度氦質(zhì)譜檢漏實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)見表1。表 權(quán)利要求
1.低充氦濃度氦質(zhì)譜檢漏方法，其特征在于裝置由容器、通道型漏孔、純氦氣源、檢漏儀構(gòu)成；其中容器⑶的氦氣⑴由隔離閥⑷控制調(diào)節(jié)；純氦氣(7)由隔離閥(6)控制調(diào)節(jié)；真空泵O)由隔離閥(5)控制調(diào)節(jié)；步驟①關(guān)閉隔離閥(5)、(6)處于截止?fàn)顟B(tài)，打開隔離閥(9)由檢測儀(10)測量其系統(tǒng)本底；步驟②關(guān)閉隔離閥G)，打開隔離閥(6)，測量漏孔(8)入口處，純氦氣(7)的下漏率；步驟③關(guān)閉隔離閥(6)、打開隔離閥(5)，抽除漏孔⑶入口端的氦氣(1)，再打開隔離閥(4)測量其系統(tǒng)本底；步驟④通過容器C3)進(jìn)氣口分步注入純氦氣(7)，使容器(3)內(nèi)的氦氣(1)理論濃度分別為0.5%。、1%。、3%。、5%。，對應(yīng)每一濃度測量氦氣(1)通過漏孔(8)的漏率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于氦氣(1)是配置的氣體，純氦氣(7)為 100%氦濃度的氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于利用1%。氦濃度可使其檢漏靈敏度為 1. 5X1(T8 Pa · m3/so
全文摘要
本發(fā)明提供的低充氦濃度氦質(zhì)譜檢漏方法，裝置由容器、通道型漏孔、純氦氣源、檢漏儀構(gòu)成；其中布設(shè)隔離閥分別控制氦氣，純氦氣，真空泵的使用；步驟一關(guān)閉純氦氣、真空泵的隔離閥，打開檢測儀的隔離閥，測量其系統(tǒng)本底；步驟二關(guān)閉氦氣的隔離閥，打開純氦氣隔離閥，測量漏孔入口處，純氦氣的下漏率；步驟三關(guān)閉純氦氣隔離閥，打開真空泵的隔離閥，抽除漏孔入口端的氦氣，再打開氦氣隔離閥測量其系統(tǒng)本底；步驟四通過容器進(jìn)氣口分步注入純氦氣，使容器內(nèi)的氦氣理論濃度分別為0.5‰、1‰、3‰、5‰，對應(yīng)每一濃度測量氦氣通過漏孔的漏率。本方法的氦氣是配置的氣體，純氦氣為100%氦濃度的氣體；利用1‰氦濃度可使其檢漏靈敏度為1.5×10-8Pa·m3/s。
文檔編號G01M3/20GK102346088SQ20111002633
公開日2012年2月8日 申請日期2011年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月25日
發(fā)明者廖旭東, 白國云, 胡茂中, 陳濤 申請人:中國人民解放軍63653部隊(duì)