專利名稱：一種極譜數(shù)據(jù)分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種極譜分析方法，具體的涉及一種極譜數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理，最后得出需要結(jié)果的快速準(zhǔn)確的極譜數(shù)據(jù)分析方法。
背景技術(shù)：
極譜對樣品中離子濃度的計算，是通過計算電勢峰高或者面積并且與相同條件下的標(biāo)準(zhǔn)溶液相比較得出，默認(rèn)濃度為0時電勢為0。所以在極譜對樣品進(jìn)行測量前，先對標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行標(biāo)定，找到當(dāng)前樣品濃度和電流峰高或面積之間對應(yīng)關(guān)系。極譜儀器在掃描得到譜線數(shù)據(jù)后，峰的基線不為簡單的直線；且峰型不規(guī)則，峰型與掃描前的富集時間、掃描過程中掃描速率(電壓改變速率)、掃描電壓范圍、掃描電壓步長和樣品本身濃度有關(guān)；所述富集時間的定義如下以玻碳或者金盤作為工作電極，將還原電勢施加于工作電極并不停攪拌溶液，當(dāng)電極電勢超過某種金屬離子的析出電勢，溶液中被分析的金屬離子還原為金屬電鍍于工作電極表面，電勢施加時間越長，還原出來電鍍于電極表面的金屬越多，電勢施加的時間就為富集時間。直接對譜線進(jìn)行峰面積計算時本底扣除困難且誤差較大，導(dǎo)致金屬離子濃度計算誤差較大。

發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)中金屬離子濃度計算誤差較大的不足，本發(fā)明旨在提供一種快速準(zhǔn)確的極譜數(shù)據(jù)分析方法，以使得金屬離子濃度的計算快速準(zhǔn)確。為實現(xiàn)上述技術(shù)目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，其包括以下步驟，步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時間范圍為5-50s ；掃描速率范圍為200-600mV/s ；掃描電壓范圍為_4000mV +4000mV ； 掃描電壓步長范圍為l_20mV;步驟2、數(shù)據(jù)處理計算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積；步驟幻金屬離子濃度計算步驟3. 1)對已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為O時濃度為0 ；步驟3. 2)對測量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計算出樣品離子濃度。進(jìn)一步的，所述步驟2數(shù)據(jù)處理，包括以下具體實施步驟步驟2. 1)對所述譜線采用4點滑動平均的方法進(jìn)行除噪，所述4點滑動平均的公式為ρ (η) = (ρ(η-1)+ρ(η)+ρ(η+1)+ρ(η+2))+4(1)式⑴中，p(n-l)表示譜線數(shù)據(jù)點集合ρ中第n-1個點的縱坐標(biāo)值；ρ (η)表示第 η個點的縱坐標(biāo)值；ρ(η+1)表示第η+1個點的縱坐標(biāo)值；ρ(η+2)表示第η+2個點的縱坐標(biāo)值；
步驟2. 2)通過所述極譜儀對金屬離子溶液進(jìn)行多次掃描后，選擇其峰窗口的最大范圍作為峰窗口范圍，以確保每次處理時都能正確包含金屬掃描峰；步驟2. 3)對選定的峰窗口范圍進(jìn)行基線處理實現(xiàn)峰型校正，所述峰窗口范圍即確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)的范圍；步驟2. 4)通過步驟2. 3中選擇的譜線的橫坐標(biāo)范圍計算峰窗口的峰面積，計算方法為選定譜線的橫坐標(biāo)范圍內(nèi)各點縱坐標(biāo)上對應(yīng)值相加。進(jìn)一步的，所述步驟2. 3對選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正的具體步驟如下步驟2.3. 1)添加凸函數(shù)，對被處理的譜線數(shù)據(jù)上添加一個凸函數(shù)，公式為f (x) = (ymax-ymin) + a X (χ-χ0)2 + (xe-x0)2(2)式O)中，f (χ)表示凸函數(shù)；ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值；ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值；χ表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個點橫坐標(biāo)值；a為一個經(jīng)驗值，范圍為1 50，優(yōu)選的，所述a取10 ；步驟2. 3. 2)尋找下凸包，首先對P中點集排序，產(chǎn)生一個有序點列{P1; P2,..., pn}，然后逐一引入P中的點，并且在凸包中每增加P中一個點，都對當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新，所述P為添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)集，所述的調(diào)整和更新包含如下步驟step 1 對P中點根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大字典排序，得到序列P1, P2, ...，Pn ；step 2 在Llow中加入P1與P2,開始計算下凸包，所述Llov為空的凸包列表；Step 3 循環(huán)點集 P for i = 3 to η ；向Llow 中加入 Pi ；if L1ot中至少還有三個點，而且最末尾的三個點所構(gòu)成的不是一個左拐then將倒數(shù)第二個頂點從L1m中刪除；否則直接循環(huán)下一個數(shù)據(jù)點；i = i+1循環(huán)下一個數(shù)據(jù)點；Step 4 得到下凸包 L1ot ；步驟2. 3. 3)扣除基線，找到的下凸包中第一個點到最后一個點依次直線連接形成一條折線曲線，并根據(jù)下凸包中各點橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù)，得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線，所述折線函數(shù)通過下凸包各點多項式擬合得到，將步驟2. 3. 1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。優(yōu)選的，所述步驟2. 3對選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正可進(jìn)行多次執(zhí)行。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果本發(fā)明通過設(shè)置掃描條件使得采集到的數(shù)據(jù)峰型穩(wěn)定；并通過算法使得采集到的數(shù)據(jù)譜線由不規(guī)則的峰型校正成規(guī)則的峰型；通過標(biāo)準(zhǔn)樣品標(biāo)定計算金屬離子濃度。其優(yōu)點在于條件設(shè)置后峰型穩(wěn)定；數(shù)據(jù)處理后峰型規(guī)則使峰面積計算更快速準(zhǔn)確；標(biāo)定后濃度計算更準(zhǔn)確。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 并可依照說明書的內(nèi)容予以實施，以下以本發(fā)明的較佳實施例并配合附圖詳細(xì)說明。本發(fā)明的具體實施方式
由以下實施例及其附圖詳細(xì)給出。


此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中圖1為本發(fā)明的極譜數(shù)據(jù)分析方法的處理流程圖。圖2為本發(fā)明數(shù)據(jù)處理實施流程中求凸包簡圖。圖3為本發(fā)明實例一數(shù)據(jù)處理效果圖。圖中校正數(shù)據(jù)為對原始數(shù)據(jù)選擇峰窗口范圍為-1200到-800處理后的曲線，基線為原始數(shù)據(jù)處理到校正數(shù)據(jù)時扣除的數(shù)據(jù)。圖4為本發(fā)明實例二數(shù)據(jù)處理效果圖
具體實施例方式下面將參考附圖并結(jié)合實施例，來詳細(xì)說明本發(fā)明。參見圖1所示，一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，其包括以下步驟，步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時間范圍為5-50s ；掃描速率范圍為200-600mV/s ；掃描電壓范圍為_4000mV +4000mV ； 掃描電壓步長范圍為l_20mV;步驟2、數(shù)據(jù)處理計算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積；步驟幻金屬離子濃度計算步驟3. 1)對已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為O時濃度為0 ；步驟3. 2)對測量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計算出樣品離子濃度。進(jìn)一步的，所述步驟2數(shù)據(jù)處理，包括以下具體實施步驟步驟2. 1)對所述譜線采用4點滑動平均的方法進(jìn)行除噪，所述4點滑動平均的公式為ρ (η) = (ρ(η-1)+ρ(η)+ρ(η+1)+ρ(η+2))+4(1)式⑴中，p(n-l)表示譜線數(shù)據(jù)點集合ρ中第n-1個點的縱坐標(biāo)值；ρ (η)表示第 η個點的縱坐標(biāo)值；ρ(η+1)表示第η+1個點的縱坐標(biāo)值；ρ(η+2)表示第η+2個點的縱坐標(biāo)值；步驟2. 2)通過所述極譜儀對金屬離子溶液進(jìn)行多次掃描后，選擇其峰窗口的最大范圍作為峰窗口范圍，以確保每次處理時都能正確包含金屬掃描峰；步驟2. 3)對選定的峰窗口范圍進(jìn)行基線處理實現(xiàn)峰型校正，所述峰窗口范圍即確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)的范圍；步驟2. 4)通過步驟2. 3中選擇的譜線的橫坐標(biāo)范圍計算峰窗口的峰面積，計算方法為選定譜線的橫坐標(biāo)范圍內(nèi)各點縱坐標(biāo)上對應(yīng)值相加。進(jìn)一步的，所述步驟2. 3對選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正的具體步驟如下步驟2.3. 1)添加凸函數(shù)，對被處理的譜線數(shù)據(jù)上添加一個凸函數(shù)，公式為f (x) = (ymax-ymin) + a X (χ-χ0)2 + (xe-x0)2(2)式O)中，f (χ)表示凸函數(shù)；ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值；ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值；X表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個點橫坐標(biāo)值；a為一個經(jīng)驗值，范圍為1 50，優(yōu)選的，所述a取10 ；步驟2. 3. 2)尋找下凸包，首先對數(shù)據(jù)集P(添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù))中點集排序，產(chǎn)生一個有序點列{p1; P2,..., PJ，然后逐一引入P中的點，并且在凸包中每增加P中一個點，都對當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新，當(dāng)處理凸包采用按照譜線橫坐標(biāo)范圍由小到大，即從左到右的方式添加時，獲得的凸包稱為下凸包，其凸包中點的序為從最左端的點P1 出發(fā)，從數(shù)據(jù)集P的下方按逆時針行進(jìn)到最右端點Pn ；凸包點集Q的凸包是指一個最小凸多邊形，滿足Q中的點或者在多邊形邊上或者在其內(nèi)。圖2中由表示的多邊形就是點集Q= {pl，p2，p 3...pl0}的凸包。求凸包一組平面上的點，求一個包含所有點的最小的凸多邊形，這就是求凸包。 這可以形象地想成這樣在地上放置一些不可移動的木樁，用一根繩子把他們盡量緊地圈起來，這就是凸包了。具體實現(xiàn)step 1 對P中點根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大字典排序，得到序列P1, P2, ...，Pn ；step 2 在空的凸包列表L1ot中加入P1與P2,開始計算下凸包；step 3 循環(huán)點集 P for i = 3 to η ；向Llow 中加入 Pi ；If L1ot中至少還有三個點，而且最末尾的三個點所構(gòu)成的不是一個左拐then將倒數(shù)第二個頂點從L1m中刪除；否則直接循環(huán)下一個數(shù)據(jù)點；i = i+1循環(huán)下一個數(shù)據(jù)點；step 4 得到下凸包 L1ot。三個數(shù)據(jù)點是否構(gòu)成左拐的問題可通過定義一個判別函數(shù)來解決。定義判別函數(shù)f (Pi, Pj, pk,) = (Xj-Xi) X (Yk-Yi) -(Xk-Xi) X (Yj-Yi)。(1)落在直線的左側(cè)半平面內(nèi)< ==>f(Pi, Pj, pk, ) > 0 ；(2)落在直線上 < ==>f(Pi, Pj, Pk,) = 0 ；(3)落在直線的右側(cè)半平面內(nèi)< ==>f(Pi, Pj, pk, ) < 0。步驟2. 3. 3)扣除基線，找到的下凸包中第一個點到最后一個點依次直線連接形成一條折線曲線，并根據(jù)下凸包中各點橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù)，得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線，所述折線函數(shù)通過下凸包各點多項式擬合得到，將步驟2. 3. 1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。優(yōu)選的，所述步驟2. 3對選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正可進(jìn)行多次執(zhí)行。下面就本發(fā)明做出實例分析，實例中標(biāo)準(zhǔn)樣品處理過程省去。實例1 步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時間為20s ；掃描速率范圍為500mV/s ；掃描電壓范圍為_1200mV _800mV ；掃描電壓步長范圍為ImV ；
步驟幻數(shù)據(jù)處理計算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積，本處峰窗口范圍為-1200 -800，凸函數(shù)中a取值為10，通過基線處理進(jìn)行峰型校正執(zhí)行一次。效果圖如附圖3，與原始數(shù)據(jù)相比，校正數(shù)據(jù)曲線的峰型規(guī)則，且峰背景被完全扣除，由圖中可以清晰看出處理后的校正數(shù)據(jù)峰面積的計算更簡單，計算結(jié)果更精確。步驟3)金屬離子濃度計算根據(jù)處理后的譜線數(shù)據(jù)計算極譜峰全面積，并根據(jù)已有樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計算出樣品離子濃度。實例2 步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時間為20s ；掃描速率范圍為500mV/s ；掃描電壓范圍為_1200mV _800mV ；掃描電壓步長范圍為ImV ；步驟幻數(shù)據(jù)處理計算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積，本處峰窗口范圍為-1200 -800，凸函數(shù)中a取值為1. 5，通過基線處理進(jìn)行峰型校正執(zhí)行一次。效果圖如附圖4，由圖可知原始數(shù)據(jù)峰型及其不規(guī)則，且峰背景成變化趨勢；經(jīng)數(shù)據(jù)處理扣除基線后，校正數(shù)據(jù)峰型規(guī)則，且峰背景被完全扣除。顯然由本步處理后計算峰面積時更加簡單， 計算出的結(jié)果更精確。步驟3)金屬離子濃度計算根據(jù)處理后的譜線數(shù)據(jù)計算極譜峰全面積，并根據(jù)已有樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計算出樣品離子濃度。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施案例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，包括以下步驟，步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時間范圍為5-50S ；掃描速率范圍為200-600mV/s ；掃描電壓范圍為_4000mV +4000mV ；掃描電壓步長范圍為l_20mV ；步驟幻數(shù)據(jù)處理計算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積；步驟幻金屬離子濃度計算步驟3. 1)對已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為 0時濃度為0 ；步驟3. 2)對測量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計算出樣品離子濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述步驟2數(shù)據(jù)處理，包括以下具體實施步驟步驟2. 1)對所述譜線采用4點滑動平均的方法進(jìn)行除噪，所述4點滑動平均的公式為 P (η) = (ρ (η-1) +ρ (η) +ρ (η+1) +ρ (η+2)) +4(1)式(1)中，p(n-l)表示譜線數(shù)據(jù)點集合ρ中第η-1個點的縱坐標(biāo)值；ρ(η)表示第η個點的縱坐標(biāo)值；P (η+1)表示第η+1個點的縱坐標(biāo)值；ρ (η+2)表示第η+2個點的縱坐標(biāo)值； 步驟2. 2)通過所述極譜儀對金屬離子溶液進(jìn)行多次掃描后，選擇其峰窗口的最大范圍作為峰窗口范圍，以確保每次處理時都能正確包含金屬掃描峰；步驟2. 3)對選定的峰窗口范圍進(jìn)行基線處理實現(xiàn)峰型校正，所述峰窗口范圍即確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)的范圍；步驟2. 4)通過步驟2. 3中選擇的譜線的橫坐標(biāo)范圍計算峰窗口的峰面積，計算方法為選定譜線的橫坐標(biāo)范圍內(nèi)各點縱坐標(biāo)上對應(yīng)值相加。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，步驟2.3對選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正的具體步驟如下步驟2. 3. 1)添加凸函數(shù)，對被處理的譜線數(shù)據(jù)上添加一個凸函數(shù)，公式為 f (x) = (ymax-ymin)+aX (XI。)2+(XeItl)2(2)式(2)中，f (X)表示凸函數(shù)；ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值；ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值；χ表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點橫坐標(biāo)值表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個點橫坐標(biāo)值；a為一個經(jīng)驗值，范圍為1 50 ；步驟2. 3. 2)尋找下凸包，首先對P中點集排序，產(chǎn)生一個有序點列{P1; P2, ... , PJ, 然后逐一引入P中的點，并且在凸包中每增加P中一個點，都對當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新，所述P為添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)集，所述的調(diào)整和更新包含如下步驟 step 1 對P中點根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大字典排序，得到序列P1, P2, ...，Pn ； step 2 在Llow中加入P1與P2,開始計算下凸包，所述L1ot為空的凸包列表； step 3 循環(huán)點集 P for i = 3 to η ； 向Llow中加入Pi ；If Llw中至少還有三個點，而且最末尾的三個點所構(gòu)成的不是一個左拐then將倒數(shù)第二個頂點從Llw中刪除；否則直接循環(huán)下一個數(shù)據(jù)點； i = i+1循環(huán)下一個數(shù)據(jù)點；s t e ρ 4 得到下凸包Llw ；步驟2. 3. 3)扣除基線，找到的下凸包中第一個點到最后一個點依次直線連接形成一條折線曲線，并根據(jù)下凸包中各點橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù)，得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線，所述折線函數(shù)通過下凸包各點多項式擬合得到，將步驟2. 3. 1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于所述步驟2.3對選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正可進(jìn)行多次執(zhí)行。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于所述a取10。
全文摘要
一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，包括極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置極譜儀的掃描條件富集時間范圍為5-50s，掃描速率范圍為200～600mV/s，掃描電壓范圍為-4000mV～+4000mV，掃描電壓步長范圍為1～20mV；數(shù)據(jù)處理計算譜線中選定的峰窗口的峰面積；和金屬離子濃度計算對已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為0時濃度為0；對測量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計算出樣品離子濃度。本發(fā)明數(shù)據(jù)處理后峰型規(guī)則使峰面積計算更快速準(zhǔn)確，濃度計算準(zhǔn)確。
文檔編號G01N27/48GK102435661SQ20111026197
公開日2012年5月2日 申請日期2011年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月6日
發(fā)明者吳升海, 夏洪海, 彭建波, 方軍, 方衛(wèi)龍, 程勝 申請人:江蘇天瑞儀器股份有限公司