專利名稱：再現(xiàn)投影數(shù)據(jù)的方法和圖像分析系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總的涉及計算機(jī)X射線斷層造影(CT)的成像系統(tǒng)，確切地說，涉及靜止CT 系統(tǒng)的源和檢測器結(jié)構(gòu)以便于測量更多數(shù)學(xué)上完備的投影數(shù)據(jù)用于圖像再現(xiàn)。
背景技術(shù)：
CT投影數(shù)據(jù)集包含來自相對于成像的病人或者物體的X-射線管和檢測器的眾多角位置或視角的投影測量數(shù)據(jù)。一組數(shù)學(xué)上完備的投影數(shù)據(jù)包括在數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)的約束內(nèi)的不用人為因素足以再現(xiàn)成像空間(imaging volume)的測量數(shù)據(jù)。數(shù)學(xué)上的不完備會起因于投影數(shù)據(jù)的完全缺失投影、一部分圖像內(nèi)的缺失投影數(shù)據(jù)或者選擇不合適的幾何成像參數(shù)例如在螺旋采集模式下穿過臺架(gantry)的病人或物體的速度。重要的是所述投影數(shù)據(jù)數(shù)學(xué)上是完備的，否則，不可能以特定應(yīng)用所需要的逼真度再現(xiàn)圖像數(shù)據(jù)。CT是一種建立二維橫截面圖像或者三維結(jié)構(gòu)的三維立體圖像的技術(shù)。這種X射線斷層造影技術(shù)對非侵害的成像例如對于安全甄別、行李和包裹檢查、制造質(zhì)量控制以及醫(yī)療評估是特別有用的。傳統(tǒng)的CT成像系統(tǒng)可包括CT臺架和用于將物體移動到所述臺架內(nèi)由X-射線準(zhǔn)直器限定的成像空間內(nèi)以便被掃描或從該成像空間內(nèi)被移出。在該系統(tǒng)中，所述臺架一般是可移動的框架，該框架包含χ-射線源，其一般為包括在其一側(cè)上的準(zhǔn)直器和濾波器的 X-射線管；以及在相對側(cè)上的檢測器，該檢測器具有相關(guān)的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(DAS)。所述臺架一般還包括需要滑環(huán)系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)部件以及所有相關(guān)的電子設(shè)備，例如臺架測角電機(jī)和定位激光。例如，在所謂的“第三代” CT系統(tǒng)中，X-射線源和所述檢測器陣列成固定結(jié)構(gòu)，該固定結(jié)構(gòu)是由臺架在成像平面內(nèi)并圍繞要被成像的物體旋轉(zhuǎn)，以使X-射線與所述物體相交的角度恒定地變化。X-射線檢測器包括晶體或電離的氣體，當(dāng)被X-射線量子碰撞時該氣體產(chǎn)生能被檢測到和采集到用于產(chǎn)生預(yù)定圖像的光或者電能。該旋轉(zhuǎn)CT系統(tǒng)在旋轉(zhuǎn)速度、 系統(tǒng)的機(jī)械平衡性以及電和熱條件具有限制，由于需要旋轉(zhuǎn)柔性部件這些條件變得日益復(fù)雜。此外，這些限制制約了所述臺架的可能的旋轉(zhuǎn)速度，使得該旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)不適合于要求較好的瞬時清晰度和高吞吐量的應(yīng)用中。其他類型的CT結(jié)構(gòu)不是旋轉(zhuǎn)的，即是靜止的，并且包括提供高掃描速度的結(jié)構(gòu)。例如，在一個這樣的靜止CT系統(tǒng)中，χ-射線源和檢測器都是靜止的并包圍成像空間。在該系統(tǒng)中，X-射線源可以是分布X-射線源，包括沿其長度的多個分立的電子發(fā)射器以及分布陽極。既然X-射線源和檢測器在該靜止CT結(jié)構(gòu)中都是靜止的，它們需要被設(shè)計成以便于合適的掃描協(xié)議。例如，在一個可能的軸向掃描結(jié)構(gòu)中，在位于中心的檢測器的兩個縱向長度的分布X-射線會相對于區(qū)域檢測器陣列稍微(垂直和/或徑向地)偏離。結(jié)果，成像系統(tǒng)的視野的中心內(nèi)的空間(volume)不會經(jīng)受X-射線，阻止在該空間內(nèi)再現(xiàn)。同樣地， 在螺旋掃描結(jié)構(gòu)中，分布χ-射線源會被放置在圍繞整個成像空間的兩個區(qū)域檢測器之間。 X-射線穿過兩個檢測器陣列之間的間隙以將X-射線通量發(fā)射到所述成像空間。因為χ-射線源還被分布在所述臺架的進(jìn)入孔周圍，所述間隙包圍整個成像空間，其防止數(shù)學(xué)上完備的CT投影數(shù)據(jù)的測量以及所述空間的非人為圖像再現(xiàn)。例如，對于螺旋采集，每個再現(xiàn)切片具有一些缺失的投影數(shù)據(jù)。結(jié)果，采集的投影數(shù)據(jù)在數(shù)學(xué)上是不完備的。因此希望提供一種用于靜止CT系統(tǒng)的改進(jìn)的源和檢測器結(jié)構(gòu)或者修改的數(shù)據(jù)采集協(xié)議，以便測量用于圖像再現(xiàn)的數(shù)學(xué)上更完備的數(shù)據(jù)以及提供用于通過該技術(shù)采集的再現(xiàn)數(shù)據(jù)的合適算法。

發(fā)明內(nèi)容
提供了一種成像系統(tǒng)。該成像系統(tǒng)包括兩個或多個弧形源。每個弧形源被配置成以從多個可尋址的位置發(fā)射X-射線。所述成像系統(tǒng)還包括兩個或多個檢測器陣列。由各個弧形源發(fā)出的X-射線通常入射到至少一個對應(yīng)的檢測器陣列上。提供了一種用于對一空間成像的方法，該方法包括起動多個可尋址χ-射線源位置的動作。每個X-射線源位置與掃描儀的分布弧形源有關(guān)。該掃描儀包括兩個或多個分布弧形源。在起動時從由測量所述X-射線源位置發(fā)出的X-射線產(chǎn)生的投影數(shù)據(jù)得以采集。還提供了對應(yīng)的權(quán)利要求，涉及可感知的可機(jī)讀的介質(zhì)，該介質(zhì)包含能執(zhí)行的代碼以執(zhí)行這些動作。


當(dāng)參照在所有附圖中同樣的附圖標(biāo)記表示相同的部件閱讀以下詳細(xì)的描述時，本發(fā)明的這些和其他特征、方面以及優(yōu)點將變得更明顯，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的示例性靜止CT系統(tǒng)的示意圖；圖2是和示于圖1的該種類型的系統(tǒng)一起使用的示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的示意圖；圖3是用于圖2的分布源的示例性發(fā)射位置的示意圖；圖4是和圖1的系統(tǒng)一起使用的另一示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的示意圖；圖4A是圖4的示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的立體圖；圖5A是描述非傾斜源-檢測器結(jié)構(gòu)的源軌跡或物體位置的曲線示意圖；圖5B是描述圖4的傾斜源-檢測器結(jié)構(gòu)的源軌跡或物體位置的曲線示意圖；圖6是和圖1的系統(tǒng)一起使用的另一示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的示意圖；圖7是和圖1的系統(tǒng)一起使用的再一示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的示意圖8是和圖1的系統(tǒng)一起使用的再一示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的示意圖；圖9是和圖1的系統(tǒng)一起使用的另一示例性源-檢測器結(jié)構(gòu)的示意圖；圖10是描述用于再現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的實施例的投影數(shù)據(jù)的示例性邏輯步驟的流程圖；以及圖11是描述用于再現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的實施例的投影數(shù)據(jù)的示例性邏輯步驟的流程圖。
具體實施例方式現(xiàn)在參照圖1，CT系統(tǒng)總地由附圖標(biāo)記10圖示和表示。CT系統(tǒng)10包含掃描儀 12，其形成為圓柱形臺架并包含一個或多個靜止的X-射線分布源14以及一個或多個靜止數(shù)字檢測器陣列16，如下更詳細(xì)地描述。掃描儀12被配置成以接收支承構(gòu)件18，該支承構(gòu)件18穿過成像空間并且其上放置有要被掃描的物體。支承構(gòu)件18能被移動而穿過掃描儀 12中的孔以便將一個物體或多個物體合適地定位在成像序列(imaging sequence)過程中掃描的成像空間中。在一個實施例中，所述支承構(gòu)件18是傳送帶，該傳送帶被配置成使得經(jīng)歷成像的物體連續(xù)或近似連續(xù)的通過掃描儀12。在其他實施例中，支承構(gòu)件18是臺或支承體，它們被配置成以將物體或病人移動到掃描儀12內(nèi)。所述系統(tǒng)還包括輻射源控制器M、支承體控制器沈和數(shù)據(jù)采集電路觀，其中的一些或者所有的可在系統(tǒng)控制器30的指導(dǎo)下起作用。輻射源控制器M調(diào)節(jié)從X-射線源位置34圍繞分布X-射線源14朝相對側(cè)上的檢測器段發(fā)射X-射線的定時。在示例性的靜止 CT應(yīng)用中，輻射源控制器M會以特定的時間間隔觸發(fā)一個或多個可尋址電子發(fā)射器，該可尋址電子發(fā)射器提供從分布X-射線源14的源位置34發(fā)射的X-射線以便于透射的X-射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)的多重采集。在某些實施例中，例如，輻射源控制器M會按順序可尋址地觸發(fā) X-射線源位置34以便圍繞掃描儀12相鄰或者不相鄰的獲取透射的X-射線強(qiáng)度。許多這種測量數(shù)據(jù)以成像順序得以收集，并且耦接到如下所述的檢測元件的檢測器采集電路觀從所述檢測元件接收信號并處理這些信號用于儲存和/或圖像再現(xiàn)。在其他結(jié)構(gòu)中，這些信號會被實時處理以將在掃描儀12的成像空間內(nèi)的成像物體再現(xiàn)。支承體控制器沈然后用來將支承構(gòu)件18和物體適當(dāng)?shù)囟ㄎ灰栽诎l(fā)射射線的平面或立體空間內(nèi)成像。支承構(gòu)件 18會在成像序列過程中或之間移動，這取決于采用的成像協(xié)議。系統(tǒng)控制器30 —般調(diào)整輻射源控制器對、支承體控制器沈和檢測器采集電路28 的操作。系統(tǒng)控制器30因此會使輻射源控制器M觸發(fā)以發(fā)射X-射線輻射，以及在由系統(tǒng)控制器30限定的成像序列過程中協(xié)調(diào)這些發(fā)射。系統(tǒng)控制器30還會與這些發(fā)射配合調(diào)整支承構(gòu)件18的運(yùn)動以便測量感興趣的不同物體或體積的透射的X-射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)或者以便實現(xiàn)不同模式的成像，例如軸向或螺旋模式。系統(tǒng)控制器30還接收由檢測器采集電路觀采集的數(shù)據(jù)并協(xié)調(diào)采集到的投影數(shù)據(jù)的存儲、處理和/或傳輸。雖然在圖1中被表示為系統(tǒng)控制器30的一個部件，但是在實際實施中，輻射源控制器M、支承體控制器沈和檢測器采集電路觀可以被設(shè)置在相同的物理結(jié)構(gòu)中或可以不設(shè)置在相同的物理結(jié)構(gòu)中。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，這些控制器，以及在此描述的確實不同的電路，會被實施為硬件電路、固件和/或軟件。例如用于成像序列的特定協(xié)議一般將被由系統(tǒng)控制器30執(zhí)行的代碼限定。而且，在由掃描儀12采集的透射的X-射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)上進(jìn)行的初始處理、調(diào)節(jié)(conditioning)、濾波以及其他操作可以在圖1描述的一個或多個部件中執(zhí)行。例如，如下所述，設(shè)置在檢測器陣列16的多排多列中的檢測元件36會產(chǎn)生表示光電二極管中的電荷耗盡的模擬信號以使這些模擬信號一般對應(yīng)于在規(guī)定的取樣時間期間入射到相應(yīng)的檢測元件36上的X-射線能量。在一個實施例中，這些模擬信號被掃描儀12內(nèi)的電子設(shè)備轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號并被檢測器采集電路觀采集到。部分處理可以在此刻發(fā)生，這些信號最終被發(fā)送到系統(tǒng)控制器30，用于在一個該實施例中進(jìn)一步濾波和處理。系統(tǒng)控制器30還會包括或被耦接到操作員接口以及到一個或多個存儲設(shè)備。所述操作員接口可與所述系統(tǒng)控制器集成，并且一般將包括操作工作站和/或鍵盤用于初始化成像序列、控制該序列以及操縱在成像序列過程中采集的數(shù)據(jù)。所述存儲設(shè)備可以在成像系統(tǒng)10中或者部分地或完全地遠(yuǎn)離系統(tǒng)10。因此，存儲設(shè)備可包括本地的、磁存儲器或光存儲器，或者本地或遠(yuǎn)程的存儲庫，用于成像數(shù)據(jù)的再現(xiàn)。而且，這些存儲設(shè)備可被配置成以接收原始的、部分處理的或完全處理的數(shù)據(jù)，以便再現(xiàn)。成像系統(tǒng)10可包括用于圖像處理和再現(xiàn)的軟件、硬件和/或固件，它們一般被描述為圖像處理電路40。圖像處理電路40可被配置成以與系統(tǒng)控制器30通信或者可被設(shè)置為系統(tǒng)控制器30的一部分。另外，圖像處理電路40可被配置成以與連接的本地或遠(yuǎn)程系統(tǒng)或工作站42或連接的圖像存檔和通信系統(tǒng)(PACS) 44通信或者被實施為連接的本地或遠(yuǎn)距系統(tǒng)或工作站42的一部分或者被實施為連接的圖像存檔和通信系統(tǒng)(PACS)44的一部分，其中所述PACS被配置成以存儲處理過和/或未被處理的投影數(shù)據(jù)。如本領(lǐng)域內(nèi)的那些技術(shù)人員將會認(rèn)識到的，該圖像處理電路40會通過各種數(shù)學(xué)操作、算法和技術(shù)處理采集的 CT投影數(shù)據(jù)。例如，傳統(tǒng)的濾波后的反投影(back-projection)技術(shù)會被用來處理和再現(xiàn)由成像系統(tǒng)10采集的數(shù)據(jù)。還可采用其他技術(shù)以及和濾波后的反投影結(jié)合使用的技術(shù)。在一個實施例中，成像系統(tǒng)10還包括圖像顯示電路48，其會使所述處理過的圖像數(shù)據(jù)分別以電子或印刷形式顯示，例如在顯示器50或打印機(jī)52上。本領(lǐng)域內(nèi)的一般技術(shù)人員將會認(rèn)識到此，該圖像顯示電路48會被實施為軟件、硬件和/或固件以及會被設(shè)置為系統(tǒng)控制器30的一部分、操作員接口的一部分或者連接的工作站的一部分。靜止CT系統(tǒng)10的掃描儀12優(yōu)選包括一個或多個分布X-射線源14以及一個或多個數(shù)字檢測器16，用于接收輻射和處理對應(yīng)信號，以產(chǎn)生投影數(shù)據(jù)。圖2圖示一部分的示例性掃描儀12，該掃描儀12限定了具有Z軸的成像空間，沿著Z軸，被成像的一個或多個物體穿過或進(jìn)入到成像空間中。如圖2所示，在示例性的實施中，分布X-射線源14會包括一組可尋址的X-射線源位置34，該X-射線源位置34被耦接到圖1所示的輻射源控制器 24，并在掃描儀12操作期間被源控制器M觸發(fā)。在一個實施例中，分布源14的可尋址的 X-射線源位置34是使用發(fā)射被朝向目標(biāo)加速的電子束的電子束發(fā)射器予以實施。該目標(biāo)在電子束碰撞于其上時發(fā)射X-射線輻射60，例如是鎢條或鎢元件。X-射線源會以反射或透射的形式得以操作。在反射模式下，χ-射線意味著主要產(chǎn)生在和所述電子撞擊相同的所述目標(biāo)的側(cè)部。在透射模式下，χ-射線意味著產(chǎn)生在電子束撞擊所述目標(biāo)的相對側(cè)部。所述X-射線束會在進(jìn)入到成像空間之前被準(zhǔn)直以使它們橫越所述成像空間時X-射線60被形成為希望的錐形，如被描述的扇形，或其他形狀。盡管以上描述了具有多個可尋址的X-射線源位置34的分布X-射線源14的一個可能的實施方式，但也可能是其他的實施方式。例如，在一個實施例中，設(shè)想了一種冷陰極發(fā)射器，該冷陰極發(fā)射器將被罩在真空外殼內(nèi)。分布靜止陽極然后被布置在所述外殼內(nèi)并與所述發(fā)射器間隔開。其他材料、結(jié)構(gòu)以及操作原理當(dāng)然會被用于分布源14。例如，一個發(fā)射裝置可被配置成以將電子束發(fā)送到所述目標(biāo)上的多個位置以便產(chǎn)生多個X-射線輻射束。該發(fā)射裝置可以是許多可用的電子發(fā)射裝置之一，例如，熱離子發(fā)射器、冷陰極發(fā)射器、 基于碳的發(fā)射器、光發(fā)射器、鐵電發(fā)射器、激光二極管、單體半導(dǎo)體等。如在此所述，本靜止CT技術(shù)是基于使用多個分布和可尋址的電子發(fā)射源用于沿著一個或多個輻射源14產(chǎn)生大量可尋址的、分布X-射線源位置34。而且，每個分布輻射源 14可與被設(shè)計成協(xié)同操作的單個的單一真空罩或者多個真空罩相關(guān)聯(lián)。單獨的X-射線源位置34能獨立地和分別地尋址以使在由所述成像協(xié)議定義的成像序列過程中能實時從一些點處的每個X-射線源位置34觸發(fā)所述輻射。在其他結(jié)構(gòu)中，X-射線源位置34在一個邏輯組中是可尋址的，例如成對的或三個一組X-射線源位置34可被一起觸發(fā)。在需要時， 不只一個X-射線源位置34可實時在任何時刻同時予以觸發(fā)，或者X-射線源位置34能以特定順序予以觸發(fā)來模擬圍繞所述成像空間旋轉(zhuǎn)，或者圍繞所述成像空間或平面以任何希望的順序予以觸發(fā)。返回到圖2，可尋址的X-射線源位置34圍繞所述成像空間的圓周定位，當(dāng)被觸發(fā)時，使X-射線60穿過所述成像空間發(fā)射到檢測器陣列16的對應(yīng)部分62上。檢測器陣列16 中X-射線入射到其上的那部分檢測元件36產(chǎn)生可被圖1的檢測器采集電路觀讀取的信號。在一個實施例中，檢測元件36包括閃爍型的裝置、光電二極管以及有關(guān)的薄膜晶體管。 撞擊檢測元件36的X-射線輻射60通過閃爍體被轉(zhuǎn)化為能量較低的光子，這些光子撞擊所述光電二極管。在所述光電二極管兩側(cè)保持的電荷因此被耗盡。晶體管可被控制以給光電二極管再充電并因此測量耗盡的電荷。通過順序地測量各個光電二極管中的電荷耗盡，其中的每個都對應(yīng)于每次采集的收集數(shù)據(jù)中的檢測元件36或象素，數(shù)據(jù)被收集，該數(shù)據(jù)是在每個象素位置處穿過物體的穿透輻射的能量的編碼。該采集的數(shù)據(jù)可被處理以將所述模擬信號轉(zhuǎn)化為數(shù)字值，并被轉(zhuǎn)換為表示線性衰減系數(shù)的線積分，且有可能被濾波后，被發(fā)送到如上所述的成像系統(tǒng)10的圖像處理電路40。雖然根據(jù)基于閃爍體的能量積分裝置已經(jīng)描述了檢測器陣列16，但是其他檢測器類型例如氣體電離、直接變換、光子計數(shù)或分辨能量的檢測器是同樣適合的。如圖2所示，間隙66設(shè)置在接口處的分布源14和檢測器陣列16之間。特別地，為了允許從分布源14的X-射線位置34適當(dāng)?shù)匕l(fā)射X-射線，檢測元件36沒有鄰近源14，圍繞分布源14在檢測器陣列16中產(chǎn)生間隙66。該間隙66會由于在間隙66中沒有檢測元件 36因此導(dǎo)致采集到數(shù)學(xué)上不完備的投影數(shù)據(jù)，因此會導(dǎo)致圖像偽影或者產(chǎn)生比希望的圖像質(zhì)量要低的其他質(zhì)量的圖像。在一個實施方式中，分布源14的X-射線源位置34的單獨觸發(fā)順序被改進(jìn)以增加使用支承構(gòu)件18穿過掃描儀12的成像空間的物體的投影數(shù)據(jù)的數(shù)學(xué)完備性。特別地，在一個實施例中，分布源14的X-射線源位置34是以非順序的型式被單獨觸發(fā)的，即鄰近X-射線源的位置不會在觸發(fā)所述觸發(fā)主方向中的第一 X-射線源位置之后被觸發(fā)。在一個實施例中，觸發(fā)類型可被選擇成或者配置成以使由觸發(fā)的X-射線源位置34發(fā)射的X-射線不會入射到檢測器陣列16上由先前或隨后觸發(fā)的X-射線源位置34發(fā)射的X-射線也入射到的那部分檢測器陣列16上。
在另一實施例中，第一 X-射線源位置可被觸發(fā)，隨之以第二 X-射線源位置觸發(fā)， 其中所述第二 X-射線源位置圍繞掃描儀12以逆時針方向從第一 χ-射線源位置偏移固定角度，例如90°。接著，在逆時針方向上鄰近第一 X-射線源位置的X-射線源位置被觸發(fā)， 隨之以在逆時針方向上鄰近第二 X-射線源位置的X-射線源位置被觸發(fā)，等等。以這種方式，用圍繞圓形掃描儀的角位置表示χ-射線源位置，一個可能的X-射線源位置起動或觸發(fā)型式會是圍繞掃描儀12的0°、90°、1°、91°、2°、92°等。盡管整數(shù)角描述在此是通過例子予以提供的并且是為了簡化解釋，但是本領(lǐng)域內(nèi)的一個技術(shù)人員會認(rèn)識到不只一個 X-射線源位置34會間隔在掃描儀12上的整數(shù)角位置之間，即多于360個X-射線源位置34 會被設(shè)置在分布源14上。而且，角偏移不是90°，例如45°、120°、60°等，也會被采用。 而且，會想到順時針或者逆時針觸發(fā)X-射線源位置34?，F(xiàn)在回到圖3，該技術(shù)的另一實施例是以簡化的例子的方式予以描述的，其中只有八個X-射線源位置72、74、76、78、80、82、84、86被描述。在該例子中，所述X-射線源位置按照下面的次序被分別觸發(fā)。
~~ X-射線源位置72~ ~ X-射線源位置76~ X-射線源位置74 X-射線源位置78 X-射線源位置76~ 6 X-射線源位置80 ~ X-射線源位置78 ~8 X-射線源位置82~ ~~9 X-射線源位置80~ ~ θ X-射線源位置84~ "Tl X-射線源位置82~ ~T2 X-射線源位置86~ ~~13 X-射線源位置84~ ~~14 X-射線源位置72~ ~~15 X-射線源位置86~16 X-射線源位置74~
權(quán)利要求
1.一種用于再現(xiàn)投影數(shù)據(jù)的方法，包括提供一組投影數(shù)據(jù)，該組投影數(shù)據(jù)表示圓柱形表面的取樣部分；以及使用錐形束再現(xiàn)算法使所述組投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。
2.如權(quán)利要求1的方法，其中所述錐形束再現(xiàn)算法被設(shè)計成再現(xiàn)在布置于兩個或多個弧形源上的X-射線源位置處采集的投影數(shù)據(jù)，其中所述X-射線源位置是根據(jù)位反轉(zhuǎn)觸發(fā)技術(shù)、超低螺距螺旋技術(shù)或者黃金比例觸發(fā)技術(shù)中的至少一種被觸發(fā)的。
3.如權(quán)利要求1的方法，其中所述錐形束再現(xiàn)算法被設(shè)計成再現(xiàn)在布置于半圓形的弧形源上的X-射線源位置處采集的投影數(shù)據(jù)。
4.如權(quán)利要求1的方法，包含無序地觸發(fā)分布源的多個X-射線源位置以產(chǎn)生一組表示所述圓柱形表面的取樣部分的投影數(shù)據(jù)。
5.一種圖像分析系統(tǒng)，包括處理電路，該處理電路被配置成再現(xiàn)表示所述圓柱形表面的取樣部分的投影數(shù)據(jù)，其中所述圖像處理電路使用錐形束再現(xiàn)算法使該組投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。
6.如權(quán)利要求5的圖像分析系統(tǒng)，其中所述圓柱形表面的部分是通過布置于兩個或多個弧形源上的X-射線源位置被取樣的，其中所述X-射線源位置是根據(jù)位反轉(zhuǎn)觸發(fā)技術(shù)、超低螺距螺旋技術(shù)或者黃金比例觸發(fā)技術(shù)中的至少一種被觸發(fā)的。
7.如權(quán)利要求5的圖像分析系統(tǒng)，其中所述圓柱形表面的部分是通過布置于半圓形的弧形源上的X-射線源位置被取樣的。
8.如權(quán)利要求5的圖像分析系統(tǒng)，其中所述圓柱形表面部分是通過無序地觸發(fā)分布源的多個χ-射線源位置被取樣的。
9.一種用于再現(xiàn)投影數(shù)據(jù)的方法，包括使用螺旋插值而處理兩個或多個組空間上交叉的螺旋投影數(shù)據(jù)；以及使用二維軸向再現(xiàn)算法或三維再現(xiàn)算法使螺旋插值的所述組投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。
10.如權(quán)利要求9的方法，其中所述兩個或多個組空間上交叉的螺旋投影數(shù)據(jù)是使用每個都包含多個χ-射線源位置的兩個或多個弧形源而被采集的。
11.一種圖像分析系統(tǒng)，包括處理電路，該處理電路被配置成使用多個交錯的弧形源和多個檢測器陣列而螺旋地插值投影數(shù)據(jù)以及以使用二維軸向再現(xiàn)算法或三維再現(xiàn)算法使螺旋插值的投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。
12.如權(quán)利要求11的圖像分析系統(tǒng)，其中所述投影數(shù)據(jù)包含兩個或多個組空間上交叉的螺旋投影數(shù)據(jù)。
全文摘要
提供了一種用于再現(xiàn)投影數(shù)據(jù)的方法，包括提供一組投影數(shù)據(jù)，該組投影數(shù)據(jù)表示圓柱形表面的取樣部分；以及使用錐形束再現(xiàn)算法使所述組投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。在另一方法中，使用螺旋插值而處理兩個或多個組在空間上交錯的螺旋投影數(shù)據(jù)。使用二維軸向再現(xiàn)算法或三維再現(xiàn)算法使螺旋插值的所述組投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。還公開了一種圖像分析系統(tǒng)，包括處理電路，該處理電路被配置成再現(xiàn)表示所述圓柱形表面的取樣部分的投影數(shù)據(jù)，其中所述圖像處理電路使用錐形束再現(xiàn)算法使該組投影數(shù)據(jù)再現(xiàn)。
文檔編號G01T1/29GK102508284SQ201110380058
公開日2012年6月20日 申請日期2007年8月9日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月30日
發(fā)明者印智慧, 吳小頁, 布魯諾.德曼, 彼得.M.伊迪克, 杰德.D.帕克, 薩米特.K.巴蘇 申請人:通用電氣公司