專利名稱：放射線檢查裝置、放射線檢查方法及拍攝條件計(jì)算裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過(guò)改變放射線源與被檢對(duì)象的位置關(guān)系來(lái)改變拍攝條件，并檢測(cè)從放射線源射出后穿過(guò)被檢對(duì)象的放射線，拍攝被檢對(duì)象的透射圖像的放射線檢查裝置、放射線檢查方法及拍攝條件計(jì)算裝置。
背景技術(shù)：
在日本特開(kāi)2010-145359號(hào)公報(bào)中，公開(kāi)了以下內(nèi)容為了對(duì)焊接有電子元件的印刷電路板檢查焊接狀態(tài)的優(yōu)劣，使用放射線檢查裝置。該放射線檢查裝置具有在射出X 射線的X射線源和檢測(cè)X射線的X射線檢測(cè)器之間配置有支承作為被檢對(duì)象的印刷電路板的工作臺(tái)的結(jié)構(gòu)，并且通過(guò)X射線檢測(cè)器檢測(cè)從X射線源射出后穿過(guò)了被檢對(duì)象的放射線來(lái)拍攝透射圖像。然后，基于根據(jù)該透射圖像求出的被檢對(duì)象的斷層圖像，檢查焊接狀態(tài)的優(yōu)劣。另外，在上述放射線檢查裝置中，支承被檢對(duì)象的工作臺(tái)為可動(dòng)結(jié)構(gòu)，改變X射線源與被檢對(duì)象的位置關(guān)系，能夠改變被檢對(duì)象的透射圖像的拍攝條件。也就是說(shuō)，為了求出被檢對(duì)象的斷層圖像，需要從互不相同的方向拍攝被檢對(duì)象而得到的多幅透射圖像。對(duì)此， 在上述的放射線檢查裝置中，通過(guò)改變X射線源與被檢對(duì)象的位置關(guān)系來(lái)改變拍攝條件， 并以各拍攝條件分別拍攝被檢對(duì)象的透射圖像，從而求得從互不相同的方向拍攝被檢對(duì)象而得到的多幅透射圖像。然而，在如上所述的元件檢查裝置中，每當(dāng)改變拍攝條件并拍攝透射圖像，被檢對(duì)象就會(huì)受到放射線輻射。因此，若拍攝條件的數(shù)目較多，則存在以各拍攝條件實(shí)施的拍攝的次數(shù)變多，被檢對(duì)象的輻射負(fù)荷過(guò)大的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種放射線檢查裝置，放射線檢查方法及拍攝條件計(jì)算裝置，抑制為了求出被檢對(duì)象的斷層圖像而所需的拍攝條件的數(shù)目從而減少拍攝次數(shù)，并減輕被檢對(duì)象的輻射負(fù)荷。實(shí)現(xiàn)該目的的本發(fā)明所涉及的放射線檢查裝置包括放射線源，射出放射線；支承單元，支承包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象；以及放射線拍攝單元，檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，該放射線檢查裝置通過(guò)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，能夠改變拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并且根據(jù)拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像而得到的結(jié)果，求出斷層圖像信息，該斷層圖像信息表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像，其特征在于還包括控制單元，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域，所述控制單元一邊改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，一邊以設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。本發(fā)明所涉及的放射線檢查裝置包括工作臺(tái)，載置包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象； 放射線源，對(duì)所述被檢對(duì)象射出放射線；驅(qū)動(dòng)部，驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系；放射線拍攝裝置，通過(guò)檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像；以及控制器，通過(guò)控制所述驅(qū)動(dòng)部來(lái)改變被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，從而改變拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并基于以各拍攝條件得到的透射圖像求出斷層圖像信息，該斷層圖像信息表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像，所述控制器包括存儲(chǔ)部，存儲(chǔ)表示所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息；設(shè)定部，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)所述部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域；驅(qū)動(dòng)控制部，控制所述驅(qū)動(dòng)部來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系；以及圖像處理部，通過(guò)驅(qū)動(dòng)控制部來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，并且基于以所述設(shè)定部所設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種條件進(jìn)行拍攝而得到的所述被檢對(duì)象的透射圖像，求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息， 并根據(jù)所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。本發(fā)明所涉及的放射線檢查方法能夠通過(guò)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，從而改變檢測(cè)從放射線源射出后穿過(guò)包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并且根據(jù)拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像而得到的結(jié)果，求出斷層圖像信息，該斷層圖像信息表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像，其特征在于包括第一工序，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域；以及第二工序，一邊改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，一邊以在所述第一工序中設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。本發(fā)明所涉及的拍攝條件計(jì)算裝置計(jì)算元件檢查裝置進(jìn)行以下動(dòng)作時(shí)所使用的拍攝條件，所述元件檢查裝置通過(guò)改變包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象和放射線源的位置關(guān)系來(lái)改變所述拍攝條件，并且檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息，所述拍攝條件計(jì)算裝置的特征在于所述計(jì)算裝置計(jì)算為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域。


圖I是表示搭載有本發(fā)明所涉及的放射線拍攝裝置的元件檢查裝置的概略結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2是表示圖I的元件檢查裝置所具有的電氣結(jié)構(gòu)的框圖。圖3是示意性地例示出被檢對(duì)象與檢查對(duì)象范圍的關(guān)系的局部剖視圖。圖4是表示X射線拍攝裝置所執(zhí)行的X射線拍攝動(dòng)作的一個(gè)例子的示意圖。圖5是對(duì)于根據(jù)透射圖像求出X射線衰減率的分布的方法的說(shuō)明圖。圖6是示意性地表示拍攝以X射線入射角度Θ入射到被檢對(duì)象的X射線的透射圖像的X射線檢測(cè)部的感知面的情況的圖。圖7是用于說(shuō)明在求出X射線拍攝條件的組合時(shí)，建模運(yùn)算處理部執(zhí)行的運(yùn)算的說(shuō)明圖。圖8是表示X射線拍攝裝置及控制器進(jìn)行的動(dòng)作的流程圖。
具體實(shí)施例方式圖I是表示搭載有本發(fā)明所涉及的放射線拍攝裝置的元件檢查裝置的概略結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2是表示圖I的元件檢查裝置所具有的電氣結(jié)構(gòu)的框圖。此外，在圖I及后面說(shuō)明的附圖中，為了明確各圖的方向關(guān)系，適當(dāng)?shù)厥境鯴YZ直角坐標(biāo)軸。另外，設(shè)各坐標(biāo)軸的箭頭方向?yàn)檎较?，與箭頭相反的方向?yàn)樨?fù)方向。元件檢查裝置I主要檢查將電子元件連接在基板W(工件)上的焊料的狀態(tài)。該元件檢查裝置I具有殼體11，該殼體11收容執(zhí)行元件檢查的各功能部并屏蔽X射線，各功能部協(xié)同對(duì)從殼體11的搬入口 111搬入的基板W進(jìn)行檢查，并將檢查結(jié)束后的基板W從搬出口 112搬出到外部。如圖I所示，在殼體11內(nèi)的下方配置有XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3。該XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3在其表面上支承基板W，并且受到來(lái)自XY驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)31的驅(qū)動(dòng)力從而能夠在XY面內(nèi)移動(dòng)。因此，XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3能夠進(jìn)行以下動(dòng)作移動(dòng)至殼體11的Y軸方向正側(cè)(圖I右側(cè))的搬入口 111以拾取基板W，或?yàn)榱诉M(jìn)行元件檢查而將基板W定位在殼體11的大致中央(圖I 所示的狀態(tài))，或?qū)z查完畢基板W運(yùn)送至殼體11的Y軸方向負(fù)側(cè)(圖I左側(cè))的搬出口 112。元件檢查裝置I具備光學(xué)拍攝裝置5 (圖2 ;光學(xué)拍攝單元)，進(jìn)行基于光學(xué)拍攝的檢查；x射線拍攝裝置7(圖2;放射線拍攝單元)，進(jìn)行基于X射線(放射線)拍攝的檢查。如圖I所示，光學(xué)拍攝裝置5包括照明設(shè)備51、鏡面53及光學(xué)照相機(jī)55。照明設(shè)備51具有上部開(kāi)口的穹頂形狀，從Z軸方向正側(cè)(圖I上側(cè))包圍配置于殼體11的大致中央的基板W，并對(duì)該基板W照射光。鏡面53配置于照明設(shè)備51的開(kāi)口 511的上方，映照出由照明設(shè)備51照亮的基板W的形態(tài)。光學(xué)照相機(jī)55對(duì)映照在鏡面53 上的像進(jìn)行拍攝，并將該拍攝結(jié)果輸出至控制器100 (圖2 ;控制單元)。控制器100基于光學(xué)拍攝裝置5拍攝到的影像，確認(rèn)存在于電子元件的端子的前面?zhèn)鹊暮噶?所謂的前焊腳 (front fillet))的狀態(tài)。X射線拍攝裝置7包括X射線照射部71及X射線檢測(cè)部73 (X射線照相機(jī))。X射線照射部71包含X射線源711 (放射線源)，配置于位于殼體11的大致中央的基板W的Z 軸方向正側(cè)(圖I上側(cè))上，將X射線源711產(chǎn)生的X射線照射向Z軸方向負(fù)側(cè)(圖I下側(cè))。另一方面，X射線檢測(cè)部73配置于基板W的Z方向負(fù)側(cè)。該X射線檢測(cè)部73具有由 X射線CCD(Charge Coupled Device :電荷稱合器件)等構(gòu)成的感知面,檢測(cè)入射到該感知面上的X射線。這樣，X射線照射部71和X射線檢測(cè)部73以隔著元件檢查位置的基板W的方式配置，從X射線照射部71射出的X射線穿過(guò)元件檢查位置的基板W后入射到X射線檢測(cè)部73中。X射線檢測(cè)部73將檢測(cè)X射線得到的結(jié)果輸出至控制器100 (圖2)。這樣，通過(guò)X 射線檢測(cè)部73拍攝被檢對(duì)象(包括基板W、電子元件EP及將電子元件EP連接在基板W上的焊料SL這多個(gè)部件的(圖3))的透射圖像，并輸出至控制器100。控制器100根據(jù)該透射圖像重建被檢對(duì)象的斷層圖像，并且基于該斷層圖像，確認(rèn)存在于電子元件的端子的背面?zhèn)鹊暮噶?所謂的跟焊腳(heel fillet))的狀態(tài)。另外，為了重建被檢對(duì)象的斷層圖像，需要從互不相同的方向拍攝被檢對(duì)象而得到的多幅透射圖像。對(duì)此，X射線拍攝裝置7改變X射線源711和被檢對(duì)象的位置關(guān)系，來(lái)改變X射線向被檢對(duì)象的入射角度，并以各入射角度拍攝被檢對(duì)象的透射圖像。具體而言， 通過(guò)XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3，在XY面內(nèi)不僅使基板W在Y方向上移動(dòng)，還使其在X方向上移動(dòng)，從而改變X射線照射部的X射線源711和基板W的相對(duì)位置，據(jù)此改變從X射線源711射向基板W的X射線與基板W之間的角度。然后，將基板W定位在X射線以期望的角度入射的位置，并在各入射角度下執(zhí)行進(jìn)行X射線拍攝的動(dòng)作。此時(shí)，為了通過(guò)X射線檢測(cè)部73可靠地檢測(cè)穿過(guò)基板W的X射線，需要使X射線檢測(cè)部73隨著基板W的移動(dòng)而移動(dòng)。對(duì)此， 在該X射線拍攝裝置7中，包括使X射線檢測(cè)部73在XY面內(nèi)移動(dòng)的XY驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)77。接下來(lái)，利用圖2說(shuō)明控制器100的動(dòng)作的詳細(xì)情況?？刂破?00為了集中管理控制器100所執(zhí)行的控制動(dòng)作,具有由CPU(Central Processing Unit:中央處理單元)等構(gòu)成的裝置控制運(yùn)算處理部101。另外，控制器100具有對(duì)作為XY驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)31、77(圖I) 的驅(qū)動(dòng)源的各馬達(dá)進(jìn)行控制的馬達(dá)控制部102(相當(dāng)于權(quán)利要求中的驅(qū)動(dòng)控制部)。也就是說(shuō)，XY驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)31、77按照來(lái)自馬達(dá)控制部102的指令，移動(dòng)XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3或X射線檢測(cè)部73而定位?？刂破?00還具有未圖示的拍攝裝置控制部，分別對(duì)光學(xué)拍攝裝置5及X射線拍攝裝置7進(jìn)行拍攝控制；圖像處理部103及檢查判定處理部104，用以對(duì)光學(xué)拍攝裝置5 及X射線拍攝裝置7的拍攝結(jié)果進(jìn)行處理。圖像處理部103接收光學(xué)拍攝裝置5及X射線拍攝裝置7的拍攝結(jié)果，并對(duì)該拍攝結(jié)果實(shí)施例如X射線拍攝結(jié)果的重建等所需的運(yùn)算處理。然后，檢查判定處理部104基于經(jīng)圖像處理部103處理后的拍攝結(jié)果，判定焊料狀態(tài)的優(yōu)劣。如上所述，X射線拍攝裝置7通過(guò)改變XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3的位置，來(lái)改變向被檢對(duì)象入射的X射線的入射角度，并以各入射角度拍攝被檢對(duì)象的透射圖像。換言之，X射線拍攝裝置7使拍攝條件在多種X射線拍攝條件(X射線入射角度)之間變化，以各X射線拍攝條件拍攝被檢對(duì)象的透射圖像?？刂破?00根據(jù)以這些X射線拍攝條件拍攝到的多幅透射圖像，重建被檢對(duì)象的斷層圖像。對(duì)此，控制器100具有建模運(yùn)算處理部105 (相當(dāng)于權(quán)利要求中的設(shè)定部)，該建模運(yùn)算處理部105通過(guò)運(yùn)算求出被檢對(duì)象的斷層圖像的重建所需的多種X射線拍攝條件。此外，如上所述，X射線向被檢對(duì)象的入射角度通過(guò)移動(dòng)并定位對(duì)被檢對(duì)象進(jìn)行支承的XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3而實(shí)現(xiàn)調(diào)整，并且該X射線入射角度下的X射線拍攝通過(guò)使X射線檢測(cè)部73根據(jù)被檢對(duì)象的位置來(lái)移動(dòng)而進(jìn)行。對(duì)此，建模運(yùn)算處理部105求出X射線向被檢對(duì)象的入射角度以及與該入射角度相對(duì)應(yīng)的XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3的位置和X 射線檢測(cè)部73的位置，作為X射線拍攝條件。另外，控制器100還具有配置信息存儲(chǔ)部106，其對(duì)表示構(gòu)成被檢對(duì)象的各部件 (基板W、電子元件EP等(圖3))的配置的部件配置信息進(jìn)行存儲(chǔ)。該部件配置信息是表示構(gòu)成被檢對(duì)象的各部件的配置，更具體而言為形狀、尺寸及位置關(guān)系的信息，該部件配置信息能夠根據(jù)被檢對(duì)象的設(shè)計(jì)信息等而獲得。并且，建模運(yùn)算處理部105基于該部件配置信息求出多種X射線拍攝條件。該動(dòng)作的細(xì)節(jié)將在后闡述。以上是元件檢查裝置I的概略結(jié)構(gòu)。接下來(lái)，說(shuō)明元件檢查裝置I執(zhí)行的X射線拍攝的細(xì)節(jié)。為了求出包含被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍TR的斷層圖像而執(zhí)行該X射線拍攝。 圖3是示意性地例示出被檢對(duì)象與檢查對(duì)象范圍的關(guān)系的局部剖視圖。如圖3所示，被檢對(duì)象具有利用焊料SL在基板W的上表面上安裝有多個(gè)電子元件EP的結(jié)構(gòu)。另外，檢查對(duì)象范圍TR具有外切于被檢對(duì)象W、EP、SL的長(zhǎng)方體形狀，在XY面內(nèi)，具有與基板W相同的寬度及進(jìn)深，并且在Z方向上，具有從基板W的底面到高度最高的電子元件EP的上表面的厚度。如上所述，X射線拍攝裝置7通過(guò)改變X射線源711和基板W的相對(duì)位置，來(lái)改變從 X射線源711穿過(guò)基板W的被檢對(duì)象W、EP、SL的X射線與基板W所成的角度(與Z軸所成的角度的相對(duì)于XZ平面的Y方向投影角Θ X，與Z軸所成的角度相對(duì)于YZ平面的X方向投影角ey)，執(zhí)行X射線拍攝(圖4)。圖4是表示X射線拍攝裝置所執(zhí)行的X射線拍攝動(dòng)作的一個(gè)例子的示意圖。在圖 4中，示出了四個(gè)基板W (檢查對(duì)象范圍TR)和四個(gè)X射線檢測(cè)部73，但這并不表示基板W 及X射線檢測(cè)部73各為四個(gè)，而是表示基板W及X射線檢測(cè)部73至少能夠移動(dòng)到圖4所示的各位置。另外，在圖4中，對(duì)于基板W的位置Pw及X射線檢測(cè)部73的位置Pc，合記為坐標(biāo)(θχ，0y)。這里，位置ρ￥(θχ，0y)表示X射線以在X軸方向?yàn)榻嵌圈圈智以赮軸方向?yàn)榻嵌萫y的入射角入射到基板w(的中心)上的基板W的位置。另外，位置Pc(ex， 0y)表示檢測(cè)穿過(guò)處于位置Pc (ΘΧ，ΘΥ)的基板W的X射線的X射線檢測(cè)部73的位置， 處于位置Pc (ΘΧ，ΘΥ)的X射線檢測(cè)部73與處于位置Pw (θχ，0y)的基板W和X射線源 711排列成大致一條直線。此外，在圖4中，示出了將Y軸方向的角度固定為0°而使X軸方向的角度發(fā)生變化的情況。若對(duì)這些X射線源711、基板W及X射線檢測(cè)部73所滿足的位置關(guān)系的細(xì)節(jié)進(jìn)行說(shuō)明，則如下所述。設(shè)從位置Pw(ex，0° )的基板W的底面的中央到X射線源711為止的 X方向上的距離為dw，從位置Ρ (θχ，0° )的基板W的底面到X射線源711為止的Z方向上的距離為H。另外，設(shè)從位置Pc(ex，0° )的X射線檢測(cè)部73(的感知面)的中央到X 射線源711為止的X方向上的距離為dc，從位置Pc (θχ，0° )的X射線檢測(cè)部73 (的感知面)到X射線源711為止的Z方向上的距離為D。然后，使X射線以入射角度θ X入射到被檢對(duì)象(基板W)上，為了拍攝被檢對(duì)象 W、EP、SL的透射圖像，基板W及X射線檢測(cè)部73滿足下式。tan ( θ χ) = dw/H = dc/D…式(I)也就是說(shuō)，通過(guò)以滿足式⑴的方式使基板W及X射線檢測(cè)部73在XY面內(nèi)移動(dòng)， 來(lái)改變?nèi)肷浣嵌圈é?，并拍攝被檢對(duì)象(基板W及電子元件EP)的透射圖像。此外，這里，說(shuō)明了在X軸方向上改變X射線入射角度θ X的情況，但X射線拍攝裝置7也可以在Y軸方向上同樣地改變X射線入射角度Θ y，并拍攝被檢對(duì)象的透射圖像。這樣，根據(jù)一邊改變X射線入射角度θ( = θ X, Θ y) —邊通過(guò)X射線檢測(cè)部73 拍攝到的多幅透射圖像，能夠求出檢查對(duì)象范圍TR的斷層圖像。具體而言，該斷層圖像根據(jù)從X射線源711射出后到被X射線檢測(cè)部73檢測(cè)到為止、X射線衰減的比例而求出。即， 通過(guò)X射線檢測(cè)部73拍攝到的透射圖像是檢測(cè)從X射線源711射出之后衰減了的X射線而得到的圖像。此時(shí)，作為X射線衰減的原因，包括從X射線源711到X射線檢測(cè)部73為止的距離，和穿過(guò)被檢對(duì)象所引起的衰減。具體而言，如下所述。X射線按距離的平方而衰減，因此即使從X射線源711到X射線檢測(cè)部73之間沒(méi)有被檢對(duì)象，X射線檢測(cè)部73也將檢測(cè)到以衰減率Y ( = I/R2)衰減了的X射線。這里， 距離R是從X射線源711到X射線檢測(cè)部73為止的距離，通過(guò)R = D/cos ( Θ )而得出。并且，當(dāng)在X射線源711和X射線檢測(cè)部73之間存在被檢對(duì)象W、EP、SL的情況下，X射線檢測(cè)部73檢測(cè)因穿過(guò)被檢對(duì)象W、EP、SL而進(jìn)一步衰減了的X射線。對(duì)此，圖像處理部103根據(jù)X射線檢測(cè)部73拍攝到的透射圖像求出包含被檢對(duì)象W、EP、SL的檢查對(duì)象范圍TR中的 X射線衰減率μ (放射線衰減率)的分布(圖5)，并重建檢查對(duì)象范圍TR的斷層圖像。圖5是對(duì)于根據(jù)透射圖像求出X射線衰減率的分布的方法的說(shuō)明圖。該方法將檢查對(duì)象范圍TR虛擬分割成多個(gè)微小立方體C (k)，并求出各微小立方體C (k)的X射線衰減率。在圖5所示的例子中，以入射角度Θ入射到檢查對(duì)象范圍TR中的X射線在已穿過(guò)微小立方體C(115)、C(k+l)、C(225)之后，由X射線檢測(cè)部73檢測(cè)出來(lái)。此時(shí)，設(shè)X射線檢測(cè)部73的檢測(cè)值(亮度值)為Μ(θχ)，則下式Μ(θχ) = y .exp {-μ (115) X t-μ (k+1) X t-μ (225) X t}…式(2)成立。這里， t是各微小立方體C (k)在X射線的入射方向上的厚度，通過(guò)運(yùn)算預(yù)先求出，并存儲(chǔ)在圖像處理部103中。若對(duì)式⑵的兩邊取自然對(duì)數(shù)，則得到如下式1η{Μ(θχ)} = 1η( Y )_μ (115) X t-μ (k+1) X t-μ (225) Xt...式(3)的與各微小立方體C(k)的X射線衰減率μ (k)有關(guān)的一次方程式。然后，通過(guò)在例如-45° ( Θ彡45°的范圍內(nèi)改變X射線的入射角度Θ，同時(shí)以各X射線入射角度Θ拍攝被檢對(duì)象W、EP、SL的透射圖像，從而在每一次拍攝中依次能夠得到與式(3)相同的一次方程式。此外，在圖5中，例示出對(duì)入射到X射線檢測(cè)部73的感知面的中心的X射線(圖 5中的虛線箭頭)進(jìn)行檢測(cè)，并根據(jù)該檢測(cè)值Μ(θ)的得到一次方程式的情況。但是，由于從X射線源711散射狀地射出X射線，因此在X射線檢測(cè)部73的感知面的中心以外也會(huì)入射穿過(guò)了被檢對(duì)象W、EP、SL的X射線。并且，X射線檢測(cè)部73的感知面731在XY面內(nèi)具有二維排列的多個(gè)像素，因此即使在其中心以外也能夠檢測(cè)到穿過(guò)了被檢對(duì)象W、EP、SL的 X射線(圖6)。圖6是示意性地表示拍攝以X射線入射角度Θ入射到被檢對(duì)象的X射線的透射圖像的X射線檢測(cè)部的感知面731的情況的圖。如圖6所示，感知面731在其中心位置(0，0) 檢測(cè)出檢測(cè)值Μ(θ，0，0)(相當(dāng)于圖5的Μ(θ))，并且在中心以外的位置(α，β)也檢測(cè)出檢測(cè)值Μ(θ，α，β)。因此，對(duì)于多個(gè)像素中的每個(gè)像素，每當(dāng)拍攝一次被檢對(duì)象W、EP、SL的透射圖像時(shí)，都能夠得到與式(3)相同的一次方程式。此外，以下，在使X射線以X射線入射角度Θ入射并拍攝被檢對(duì)象W、EP、SL的透射圖像時(shí)，將在感知面731的位置(α， β )的像素處檢測(cè)到的檢測(cè)值表示為Μ( θ，α，β )。若歸納與圖5及圖6相關(guān)的上述說(shuō)明，設(shè)感知面731的像素?cái)?shù)為Np個(gè)，則通過(guò)一次拍攝能夠得到Np個(gè)與式(3)相同的一次方程式。并且，通過(guò)Nf次改變X射線入射角度 Θ來(lái)拍攝Nf枚透射圖像，能夠得到NpXNf個(gè)與式(3)相同的一次方程式。然后，通過(guò)求解由Np X Nf個(gè)一次方程式構(gòu)成的聯(lián)立方程式，能夠求出各微小立方體C (k)的X射線衰減率， 并能夠求出檢查對(duì)象范圍TR中的X射線衰減率μ (k)的分布以作為斷層圖像。另外，如利用圖2進(jìn)行的以上敘述，在控制器100具有的配置信息存儲(chǔ)部106中， 存儲(chǔ)有表示構(gòu)成被檢對(duì)象W、EP、SL的各部件的形狀、尺寸、位置的部件配置信息。而且，通過(guò)參照該部件配置信息，對(duì)于多個(gè)微小立方體C(k)中的一部分微小立方體，即使不拍攝透射圖像，也能夠求出該X射線衰減率μ (k)。也就是說(shuō)，由圖3可知，在檢查對(duì)象范圍TR中，存在未配置電子元件EP或基板W 的范圍即僅存在空氣的范圍TRa。可以推定，這樣的范圍TRa的X射線衰減率μ如去掉以距離的平方衰減的量(衰減率Y)則為零。此外可以推定，配置有基板W(印刷電路板)的區(qū)域TRw的X射線衰減率μ也為零。并且，能夠根據(jù)部件配置信息求出這樣能夠推定出X 射線衰減率μ (斷層圖像信息)的范圍TRa、TRw存在于檢查對(duì)象范圍TR中的何處。對(duì)此，在本實(shí)施方式中，這些區(qū)域TRa、TRw (第一區(qū)域)的X射線衰減率μ以推定值(零)來(lái)進(jìn)行處理，不通過(guò)X射線拍攝求出該區(qū)域TRa、TRw的X射線衰減率μ。并且， 僅僅對(duì)于區(qū)域TRa、TRw以外的區(qū)域(第二區(qū)域)的X射線衰減率μ是通過(guò)X射線拍攝而求出的，由此抑制X射線拍攝的張數(shù)Nf。具體而言，建模運(yùn)算處理部105計(jì)算為了求出區(qū)域 TRa、TRw以外的區(qū)域的X射線衰減率μ而所需的多種X射線拍攝條件(圖7)。圖7是用于說(shuō)明在求出X射線拍攝條件的組合時(shí)建模運(yùn)算處理部執(zhí)行的運(yùn)算的說(shuō)明圖，具體而言，示出了該運(yùn)算中使用的公式。首先，建模運(yùn)算處理部105求出與X射線衰減率μ相關(guān)的一次方程式，該一次方程式是在使X射線入射角度θ例如以一度為單位發(fā)生變化并且以各X射線入射角度Θ拍攝被檢對(duì)象W、EP、SL的透射圖像的情況下得到的。 若更具體地說(shuō)明，在將檢查對(duì)象范圍TR分割成m個(gè)微小立方體C (k)，并與這些m個(gè)微小立方體C(k)的X射線衰減率μ (k)相關(guān)地求出η個(gè)一次方程式。這樣得到的聯(lián)立方程式能夠如圖7的式(4)所示那樣，通過(guò)矩陣來(lái)表示。這里，圖7的A(n，m)表示η行m列的矩陣。 接下來(lái)，建模運(yùn)算處理部105對(duì)根據(jù)部件配置信息能夠推定值為零的各X射線衰減率μ 代入零，并且將包含該X射線衰減率μ的行集中在聯(lián)立方程式的上側(cè)(式(5))。這里，對(duì) μ (221)、μ (222)、μ (223)等代入零，并且這些包含μ (221)、μ (222)、μ (223)等的行集中于方程式的上側(cè)。這里，在式(5)的聯(lián)立方程式有解的情況下，通過(guò)從η行中提取m行，能夠得到一個(gè)或一個(gè)以上的mXm的正則矩陣。對(duì)此，建模運(yùn)算處理部105如下這樣從構(gòu)成式5的聯(lián)立方程式的η個(gè)一次方程式中提取構(gòu)成正則矩陣的m個(gè)一次方程式。首先，建模運(yùn)算處理部 105求出從η個(gè)一次方程式中提取m個(gè)一次方程式的全部組合。這里，從η個(gè)式子中提取m 個(gè)式子的組合通過(guò)nCm{ = ηΧ (η-1) X …X (n—m+1) /mX (m_l) X …X 1}
來(lái)得出。因此，得到nCm種由m個(gè)一次方程式構(gòu)成的聯(lián)立方程式(式(6))。此外， 對(duì)于圖7的式(6)，帶有箭頭的mXm、mXl分別表示各個(gè)箭頭的指向處的矩陣的尺寸。然后，建模運(yùn)算處理部105分別對(duì)于nCm種的聯(lián)立方程式，計(jì)算表示該聯(lián)立方程式的矩陣A(m，m)的行列式|A(m，m) |，并且將滿足|A(m，m) | < δ的聯(lián)立方程式除外。這里， δ是接近零的整數(shù)。也就是說(shuō)，行列式接近零的聯(lián)立方程式?jīng)]有解(非正則)，建模運(yùn)算處理部105將這種聯(lián)立方程式排除在外。接下來(lái)，建模運(yùn)算處理部105對(duì)于剩余的各個(gè)聯(lián)立方程式，調(diào)查在式(6)的右邊存在多少互不相同的入射角度Θ。也就是說(shuō)，不同的入射角度 Θ越多，需要以這些入射角度Θ中的每個(gè)入射角度Θ拍攝被檢對(duì)象的透射圖像，其結(jié)果， 透射圖像的拍攝張數(shù)Nf變得越多。對(duì)此，建模運(yùn)算處理部105求出在右邊不同的入射角度 Θ的數(shù)目最小的聯(lián)立方程式。然后，建模運(yùn)算處理部105求取如此求出的聯(lián)立方程式的右邊存在的各入射角度 Θ、與該入射角度Θ相對(duì)應(yīng)的XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3的位置及X射線檢測(cè)部73的位置以作為X 射線拍攝條件，并進(jìn)行設(shè)定。這樣，設(shè)定出Nf種的X射線拍攝條件。然后，X射線拍攝裝置 7以這樣設(shè)定的Nf種的X射線拍攝條件拍攝被檢對(duì)象W、EP、SL的透射圖像(圖8)。圖8是表示X射線拍攝裝置7及控制器100進(jìn)行的動(dòng)作的流程圖。建模運(yùn)算處理部105讀取用于計(jì)算X射線拍攝條件的程序(步驟S101)，基于存儲(chǔ)于配置信息存儲(chǔ)部106 的部件配置信息，計(jì)算并設(shè)定Nf種的X射線拍攝條件(步驟S102)。此外，該計(jì)算動(dòng)作如使用圖7說(shuō)明的那樣。然后，為了以所設(shè)定的多種X射線拍攝條件進(jìn)行X射線拍攝，元件檢查裝置I執(zhí)行從步驟S103到步驟S108的動(dòng)作。首先，在步驟S103中，被檢對(duì)象W、EP、SL(工件)被搬入元件檢查裝置I，并且在步驟S104中，將I代入拍攝張數(shù)J。然后，控制器100使支承被檢對(duì)象W、EP、SL的XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3及X射線檢測(cè)部73移動(dòng)到與Nf種的X射線拍攝條件中的第J張(這里為第一張)的拍攝相對(duì)應(yīng)的X射線拍攝條件所示的位置，并進(jìn)行X射線拍攝(步驟S106)。該X射線拍攝結(jié)束后，在步驟S107中使拍攝張數(shù)J增加I (J = J+1)，在接著的步驟S108中，判斷拍攝張數(shù)J是否大于Nf。當(dāng)在步驟S108中判斷為“否”時(shí)，返回到步驟S105。然后，反復(fù)執(zhí)行使支承被檢對(duì)象W、EP、SL的XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3及X射線檢測(cè)部73移動(dòng)到與第(J+1)張的拍攝相對(duì)應(yīng)的X 射線拍攝條件所示的位置后進(jìn)行X射線拍攝(步驟S106)，并增大拍攝張數(shù)J (步驟S107) 的動(dòng)作。當(dāng)在步驟S108中判斷為“是”時(shí)，認(rèn)為以Nf種的X射線拍攝條件的每一種拍攝條件都完成了 X射線拍攝，進(jìn)入到步驟S109。在步驟S109中，通過(guò)圖像處理部103來(lái)重建檢查對(duì)象范圍TR的斷層圖像。具體而言，對(duì)于能夠推定X射線衰減率μ的區(qū)域TRa、TRw，求出該推定值作為X射線衰減率μ，對(duì)于檢查對(duì)象范圍TR中的區(qū)域TRa、TRw以外的區(qū)域，根據(jù)Nf張透射圖像求出X射線衰減率μ。這樣，求出檢查對(duì)象范圍TR整個(gè)范圍中的X射線衰減率μ的分布，并重建檢查對(duì)象范圍TR的斷層圖像。然后，在步驟SllO中，檢查判定處理部104基于該斷層圖像，判定焊接狀態(tài)的優(yōu)劣，在接著的步驟Slll中，被檢對(duì)象W、EP、SL 被搬出到元件檢查裝置I的外部。如以上所述，在上述實(shí)施方式中，求出表示包含被檢對(duì)象W、EP、SL的檢查對(duì)象范圍TR的斷層圖像的斷層圖像信息(X射線衰減率μ)。此時(shí)，對(duì)于檢查對(duì)象范圍TR的一部分區(qū)域TRa、TRw (第一區(qū)域)，根據(jù)表示構(gòu)成被檢對(duì)象W、EP、SL的各部件(基板W及電子元件EP)的配置的部件配置信息，例如能夠判斷只存在空氣等，其結(jié)果是，能夠推定該區(qū)域 TRa.TRw的斷層圖像信息。對(duì)此，本實(shí)施方式對(duì)于區(qū)域TRa、TRw的斷層圖像信息，并不是根據(jù)透射圖像的拍攝結(jié)果求出，而是根據(jù)部件配置信息推定，將根據(jù)透射圖像的拍攝結(jié)果求出斷層圖像信息的區(qū)域限定為區(qū)域TRa、TRw以外的區(qū)域。也就是說(shuō)，對(duì)為了求出檢查對(duì)象范圍TR中的除了區(qū)域TRa、TRw以外的區(qū)域(第二區(qū)域)的斷層圖像信息而所需的對(duì)象設(shè)定X射線拍攝條件，并以如此設(shè)定的各X射線拍攝條件拍攝透射圖像。這樣，在本實(shí)施方式中，通過(guò)對(duì)為了求出除了區(qū)域TRa、TRw以外的區(qū)域(第二區(qū)域)的斷層圖像信息而所需的對(duì)象限定X射線拍攝條件，能夠抑制X射線拍攝條件的數(shù)目Nf，并能夠減輕被檢對(duì)象W、EP、 SL的輻射負(fù)荷。如以上所述，在本實(shí)施方式中，元件檢查裝置I相當(dāng)于本發(fā)明的“放射線檢查裝置”以及“拍攝條件計(jì)算裝置”，X射線拍攝裝置7相當(dāng)于本發(fā)明的“放射線拍攝裝置”，X射線相當(dāng)于本發(fā)明的“放射線”，X射線源711相當(dāng)于本發(fā)明的“放射線源”，基板W及焊接在該基板W上的電子元件EP相當(dāng)于本發(fā)明的“被檢對(duì)象”，XY驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)3相當(dāng)于本發(fā)明的“支承單元”，X射線檢測(cè)部73相當(dāng)于本發(fā)明的“放射線拍攝單元”，X射線拍攝條件相當(dāng)于本發(fā)明的“拍攝條件”，檢查對(duì)象范圍TR相當(dāng)于本發(fā)明的“檢查對(duì)象范圍”，區(qū)域TRa、TRw相當(dāng)于本發(fā)明的“第一區(qū)域”，從檢查對(duì)象范圍TR除去區(qū)域TRa、TRw之后的區(qū)域相當(dāng)于本發(fā)明的 “第二區(qū)域”，控制器100相當(dāng)于本發(fā)明的“控制單元”或“拍攝條件計(jì)算裝置”。此外，本發(fā)明并不限定于上述的實(shí)施方式，只要不脫離其宗旨，在上述實(shí)施方式以外能夠進(jìn)行各種變更。例如，在上述實(shí)施方式中，X射線拍攝裝置7使控制器100中內(nèi)置作為計(jì)算X射線拍攝條件的拍攝條件計(jì)算裝置的功能。但是，也可以通過(guò)與X射線拍攝裝置 7不同的外部裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)作為拍攝條件計(jì)算裝置的功能。此時(shí)，X射線拍攝條件的計(jì)算也可以事先通過(guò)外部裝置另行進(jìn)行，X射線拍攝裝置7只要具有為了拍攝透射圖像而對(duì)例如控制器100等設(shè)定通過(guò)外部裝置計(jì)算的X射線拍攝條件的功能即可。另外，在上述實(shí)施方式中，根據(jù)被檢對(duì)象W、EP的設(shè)計(jì)信息等得到部件配置信息。 但是，也可以構(gòu)成為控制器100根據(jù)元件檢查裝置I具備的光學(xué)拍攝裝置5對(duì)被檢對(duì)象W、 EP進(jìn)行拍攝而得到光學(xué)照片，求出部件配置信息。這樣構(gòu)成的元件檢查裝置I能夠根據(jù)自身具備的光學(xué)拍攝裝置5的拍攝結(jié)果求出部件配置信息。因此，從元件檢查裝置I的用戶來(lái)看，例如不再需要對(duì)元件檢查裝置I設(shè)定部件配置信息的手續(xù)，能夠?qū)崿F(xiàn)元件檢查所需的作業(yè)的高效化。此時(shí)，存儲(chǔ)部106臨時(shí)存儲(chǔ)根據(jù)光學(xué)拍攝裝置5的拍攝結(jié)果求出的部件配置信息。另外，分割檢查對(duì)象范圍TR的多個(gè)微小立方體C(k)的形狀、尺寸等也能夠適當(dāng)變更。即，例如微小立方體C(k)的尺寸可以根據(jù)斷層圖像要求的分辨率適當(dāng)變更。具體而言，為了確切地判斷焊接狀態(tài)的優(yōu)劣，對(duì)于基板W和電子元件EP的連接部分(即焊料SL的部分)，最好以高分辨率求出斷層圖像，因此可以將微小立方體C(k)的尺寸設(shè)定得較小，另一方面，對(duì)于不存在電子元件EP的部分，不需要那么高的分辨率，因此可以將微小立方體 C(k)的尺寸設(shè)定得較大。另外，在上述實(shí)施方式中，根據(jù)部件配置信息推定空氣、基板W所存在的區(qū)域TRa、 TRw的X射線衰減率μ。但是，對(duì)于其他區(qū)域，有時(shí)也能夠根據(jù)部件配置信息推定X射線衰減率μ。此時(shí)，也可以根據(jù)部件配置信息推定區(qū)域TRa、TRw的X射線衰減率μ。此外，上述的具體實(shí)施方式
主要包括具有以下結(jié)構(gòu)的發(fā)明。本發(fā)明所涉及的放射線檢查裝置包括放射線源，射出放射線；支承單元，支承包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象；以及放射線拍攝單元，檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，通過(guò)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，能夠改變拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并且根據(jù)拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像而得到的結(jié)果，求出斷層圖像信息，該斷層圖像信息表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像，其特征在于還包括控制單元，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域，所述控制單元改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，同時(shí)以設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。本發(fā)明所涉及的放射線檢查裝置包括工作臺(tái)，載包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象；放射線源，對(duì)所述被檢對(duì)象射出放射線；驅(qū)動(dòng)部，驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系；放射線拍攝裝置，通過(guò)檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像；以及控制器，通過(guò)控制所述驅(qū)動(dòng)部來(lái)改變被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，從而改變拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件， 并基于以各拍攝條件得到的透射圖像求出斷層圖像信息，該斷層圖像信息表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像，所述控制器包括存儲(chǔ)部，存儲(chǔ)表示所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息；設(shè)定部，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)所述部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域；驅(qū)動(dòng)控制部，控制所述驅(qū)動(dòng)部來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系；以及圖像處理部，通過(guò)驅(qū)動(dòng)控制部來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，并且基于以所述設(shè)定部所設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種條件進(jìn)行拍攝而得到的所述被檢對(duì)象的透射圖像，求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并根據(jù)所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。本發(fā)明所涉及的放射線檢查方法能夠通過(guò)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，從而改變檢測(cè)從放射線源射出后穿過(guò)由多個(gè)部件構(gòu)成的被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并且根據(jù)拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像而得到的結(jié)果，求出斷層圖像信息，該斷層圖像信息表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像，其特征在于包括第一工序，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域；以及第二工序，一邊改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，一邊以在所述第一工序中設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。在這樣構(gòu)成的發(fā)明(放射線檢查裝置、放射線檢查方法)中，求出表示包含被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息。此時(shí)，對(duì)于檢查對(duì)象范圍的局部區(qū)域(第一區(qū)域)，根據(jù)表示構(gòu)成被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息，能夠判斷例如僅存在空氣等，其結(jié)果是，能夠推定該第一區(qū)域的斷層圖像信息。對(duì)此，本發(fā)明對(duì)于第一區(qū)域的斷層圖像信息，并不是根據(jù)透射圖像的拍攝結(jié)果求出，而是根據(jù)部件配置信息推定，將根據(jù)透射圖像的拍攝結(jié)果求出斷層圖像信息的區(qū)域限定為第一區(qū)域以外的區(qū)域。也就是說(shuō)，對(duì)為了求出檢查對(duì)象范圍中的除了第一區(qū)域以外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的對(duì)象設(shè)定拍攝條件，并以如此設(shè)定的各拍攝條件拍攝透射圖像。這樣，在本發(fā)明中，通過(guò)對(duì)為了求出上述第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的對(duì)象限定拍攝條件，能夠抑制拍攝條件的數(shù)目從而減少拍攝次數(shù)，能夠減輕被檢對(duì)象的輻射負(fù)荷。此時(shí)，放射線檢查裝置及放射線檢查方法也可以計(jì)算為了求出第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的上述拍攝條件。但是，關(guān)于拍攝條件的計(jì)算，也可以事先通過(guò)例如拍攝條件計(jì)算裝置等外部裝置來(lái)另行進(jìn)行，放射線檢查裝置及放射線檢查方法只需設(shè)定通過(guò)外部裝置計(jì)算出的拍攝條件，以便拍攝透射圖像。另外，在被檢對(duì)象通過(guò)基板和焊接于該基板上的電子元件構(gòu)成的情況下，能夠利用表示電子元件及基板的配置的信息作為部件配置信息。另外，也可以是，還包括拍攝被檢對(duì)象的光學(xué)照片的光學(xué)拍攝單元，控制單元根據(jù)光學(xué)拍攝單元拍攝到的光學(xué)照片，求出表示電子元件及基板的配置的信息作為部件配置信息，并且根據(jù)該部件配置信息求出多種拍攝條件。這樣構(gòu)成的放射線檢查裝置能夠根據(jù)自身具備的光學(xué)拍攝單元的拍攝結(jié)果求出部件配置信息。因此，從放射線檢查裝置的用戶來(lái)看，例如不再需要對(duì)放射線檢查裝置設(shè)定部件配置信息的手續(xù)，能夠?qū)崿F(xiàn)元件檢查所需的作業(yè)的高效化。所述控制器可以是，基于放射線衰減率求出所述斷層圖像信息，所述設(shè)定部將所述檢查對(duì)象范圍虛擬分割成多個(gè)微小立方體，并將特定區(qū)域作為所述第一區(qū)域進(jìn)行處理， 該特定區(qū)域是指，根據(jù)所述部件配置信息，所述放射線衰減率減去所述放射線按照距離的平方進(jìn)行衰減的量而被推定為零的所述微小立方體所占的區(qū)域。另外，所述控制器也可以是，基于放射線衰減率求出所述斷層圖像信息，所述設(shè)定部將所述檢查對(duì)象范圍虛擬分割成多個(gè)微小立方體，并將特定區(qū)域作為所述第一區(qū)域進(jìn)行處理，該特定區(qū)域是指，根據(jù)所述部件配置信息，所述放射線衰減率被推定為零的所述微小立方體所占的區(qū)域。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠確切地區(qū)分所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域。本發(fā)明所涉及的拍攝條件計(jì)算裝置計(jì)算元件檢查裝置在進(jìn)行如下動(dòng)作時(shí)所使用的拍攝條件，所述元件檢查裝置通過(guò)改變包括多個(gè)部件的被檢對(duì)象和放射線源的位置關(guān)系來(lái)改變所述拍攝條件，并檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息，所述拍攝條件計(jì)算裝置的特征在于所述計(jì)算裝置計(jì)算為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域。
在這樣構(gòu)成的發(fā)明(拍攝條件計(jì)算裝置)中，將能夠根據(jù)表示構(gòu)成被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息推定斷層圖像信息的第一區(qū)域以外的第二區(qū)域作為對(duì)象，求出拍攝條件。也就是說(shuō)，拍攝條件針對(duì)為了求出除了檢查對(duì)象范圍中的第一區(qū)域以外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的對(duì)象而求出。這樣，在本發(fā)明中，通過(guò)對(duì)為了求出上述第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的對(duì)象限定拍攝條件，能夠抑制拍攝條件的數(shù)目從而減少拍攝次數(shù)，能夠減輕被檢對(duì)象的輻射負(fù)荷。通過(guò)以上說(shuō)明的本發(fā)明，能夠抑制為了求出被檢對(duì)象的斷層圖像而所需的拍攝條件的數(shù)目從而減少拍攝次數(shù)，并能夠減輕被檢對(duì)象的輻射負(fù)荷。
權(quán)利要求
1.一種放射線檢查裝置，包括射出放射線的放射線源；支承由多個(gè)部件構(gòu)成的被檢對(duì)象的支承單元；以及檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像的放射線拍攝單元，其中，所述放射線檢查裝置通過(guò)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系來(lái)變更拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并根據(jù)拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像而得到的結(jié)果求出表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息，其特征在于還包括控制單元，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息所需的多種拍攝條件，所述第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息即可推定斷層圖像信息的區(qū)域，其中，所述控制單元，一邊改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，一邊以設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的放射線檢查裝置，其特征在于所述被檢對(duì)象包括基板和焊接于該基板上的電子部件，所述部件配置信息是表示所述電子部件及所述基板的配置的信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線檢查裝置，其特征在于還包括光學(xué)拍攝單元，拍攝所述被檢對(duì)象的光學(xué)照片，其中所述控制單元，根據(jù)所述光學(xué)拍攝單元拍攝到的光學(xué)照片，求出表示所述電子部件及所述基板的配置的信息作為所述部件配置信息，并且根據(jù)該部件配置信息求出所述多種拍攝條件。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的放射線檢查裝置，其特征在于該放射線檢查裝置求出放射線衰減率的分布作為所述斷層圖像信息，所述控制單元，將所述檢查對(duì)象范圍中的空氣及所述基板存在的區(qū)域作為第一區(qū)域， 并且將所述第一區(qū)域的放射線衰減率推定為零。
5.一種放射線檢查裝置，包括工作臺(tái)，載置由多個(gè)部件構(gòu)成的被檢對(duì)象；放射線源，對(duì)所述被檢對(duì)象射出放射線；驅(qū)動(dòng)部，驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系；放射線拍攝裝置，通過(guò)檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像；以及控制器，通過(guò)控制所述驅(qū)動(dòng)部來(lái)改變被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系從而變更拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并基于以各拍攝條件得到的透射圖像求出表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息，所述控制器包括存儲(chǔ)部，存儲(chǔ)表示所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息；設(shè)定部，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)所述部件配置信息即可推定斷層圖像信息的區(qū)域；驅(qū)動(dòng)控制部，控制所述驅(qū)動(dòng)部來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系；以及圖像處理部，通過(guò)驅(qū)動(dòng)控制部來(lái)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，基于以所述設(shè)定部所設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種條件進(jìn)行拍攝而得到的所述被檢對(duì)象的透射圖像求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并根據(jù)所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的放射線檢查裝置，其特征在于所述控制器基于放射線衰減率求出所述斷層圖像信息，所述設(shè)定部將所述檢查對(duì)象范圍虛擬分割成多個(gè)微小立方體，并將特定區(qū)域作為所述第一區(qū)域進(jìn)行處理，該特定區(qū)域是指，根據(jù)所述部件配置信息，所述放射線衰減率減去所述放射線按照距離的平方進(jìn)行衰減的量而被推定為零的所述微小立方體所占的區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的放射線檢查裝置，其特征在于所述設(shè)定部將檢查對(duì)象范圍中的空氣及基板存在的區(qū)域的放射線衰減率推定為零。
8.一種放射線檢查方法，通過(guò)改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系來(lái)變更檢測(cè)從放射線源射出后穿過(guò)由多個(gè)部件構(gòu)成的被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像時(shí)的拍攝條件，并根據(jù)拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像而得到的結(jié)果求出表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息，其特征在于包括第一工序，設(shè)定為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息即可推定斷層圖像信息的區(qū)域；以及第二工序，一邊改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，一邊以在所述第一工序中設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件，拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢查對(duì)象范圍的斷層圖像信息。
9.一種拍攝條件計(jì)算裝置，計(jì)算元件檢查裝置在如下動(dòng)作中所使用的拍攝條件，即所述元件檢查裝置通過(guò)改變包含多個(gè)部件的被檢對(duì)象和放射線源的位置關(guān)系來(lái)變更所述拍攝條件，檢測(cè)從所述放射線源射出后穿過(guò)所述被檢對(duì)象的放射線并拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，并根據(jù)該拍攝結(jié)果求出表示包含所述被檢對(duì)象的檢查對(duì)象范圍的斷層圖像的斷層圖像信息，其特征在于所述拍攝條件計(jì)算裝置計(jì)算為了求出所述檢查對(duì)象范圍內(nèi)的、除了第一區(qū)域之外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成所述被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息即可推定斷層圖像信息的區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明提供一種放射線檢查裝置，放射線檢查方法及拍攝條件計(jì)算裝置，該放射線檢查裝置包括控制單元，該控制單元設(shè)定為了求出檢查對(duì)象范圍中的、除了第一區(qū)域以外的第二區(qū)域的斷層圖像信息而所需的多種拍攝條件，該第一區(qū)域是指，根據(jù)表示構(gòu)成被檢對(duì)象的各部件的配置的部件配置信息能夠推定斷層圖像信息的區(qū)域。所述控制單元一邊改變所述被檢對(duì)象與所述放射線源的位置關(guān)系，一邊以所設(shè)定的所述多種拍攝條件中的每種拍攝條件拍攝所述被檢對(duì)象的透射圖像，并根據(jù)該拍攝結(jié)果求出所述第二區(qū)域的斷層圖像信息，并且根據(jù)所述被檢對(duì)象的所述部件配置信息推定所述第一區(qū)域的斷層圖像信息，從而求出所述檢測(cè)對(duì)象范圍的斷層圖像信息。
文檔編號(hào)G01N23/04GK102590235SQ20111042958
公開(kāi)日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2011年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月17日
發(fā)明者鈴木芳邦 申請(qǐng)人:雅馬哈發(fā)動(dòng)機(jī)株式會(huì)社