專利名稱：位置及深度的檢出裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型系有關(guān)于一種位置及深度的檢出裝置法，特別是有關(guān)于一種光學(xué)式位置及深度的檢出裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今量測一物體表面的曲率的方式有許多種，舉例來說，有投射迭紋法、干涉法、 像差法以及激光掃描三角定位法；其中迭紋量測技術(shù)一般采用穿透式或斜向反射式以形成迭紋，雖具有低成本、系統(tǒng)架構(gòu)簡單與穩(wěn)定性高的優(yōu)點(diǎn)，但穿透式量測架構(gòu)只適用于透明物體表面曲率的量測，并無法運(yùn)用至不具透光性的物體表面的曲率量測。而斜向反射式則存在理論計(jì)算復(fù)雜的缺點(diǎn)，并且受限于反射影像的強(qiáng)度較弱，因此影像對比度差而將導(dǎo)致表面曲率的誤差值提高。此外，干涉法、像差法以及激光掃描三角定位法，其不僅理論計(jì)算復(fù)雜，且其量測系統(tǒng)及裝置更是相當(dāng)復(fù)雜且昂貴，因此具有高成本的缺點(diǎn)。因此，如何設(shè)計(jì)出簡單的架構(gòu)，其可量測物體的表面深淺變化，實(shí)為目前研究發(fā)展
的一重要方向。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型系有關(guān)于一種位置及深度的檢出裝置，其具有簡易的組成構(gòu)件，不需要復(fù)雜的檢測方式即可檢測出待測物的位置及深度信息。根據(jù)本實(shí)用新型的一方面，提出一種位置及深度的檢出裝置，用以檢出具有一表面的待測物的位置及深度，此位置及深度的檢出裝置至少包括一電控?cái)[動元件、一光源、一光學(xué)系統(tǒng)、一儲存單元以及一計(jì)算單元。該電控?cái)[動元件系經(jīng)由以電氣驅(qū)動的一致動器控制此電控?cái)[動元件的擺動角度。該光源系藉由此電控?cái)[動元件將該光源的光束反射至此表面以產(chǎn)生光點(diǎn)。該光學(xué)系統(tǒng)系用以接收投射至此表面的光點(diǎn)的投射信息。該儲存單元系用以儲存投射至一預(yù)設(shè)平面的光點(diǎn)的預(yù)設(shè)信息。該計(jì)算單元系依據(jù)此投射信息與此預(yù)設(shè)信息計(jì)算出待測物的深度信息。為使本實(shí)用新型的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉本實(shí)用新型較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下

圖1系繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)的示意圖。圖2系繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的檢出位置及深度的方法流程圖。圖3系繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)利用光點(diǎn)中心偏移量來計(jì)算深度信息的示意圖。圖4系繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)利用光點(diǎn)大小變形量來計(jì)算深度信息的示意圖。[0012]圖5系繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)利用光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量來計(jì)算深度信息的示意圖。主要元件符號說明100、300、400、500 位置及深度檢出系統(tǒng)110、310、410、510 待測物120、320、420、520 光源130、330、430、530 光學(xué)系統(tǒng)140、；340、440、討0 光感測元件150、；350、450、550 電控?cái)[動元件160、360、460、560 計(jì)算單元170、370、470、570 儲存單元DP 預(yù)設(shè)平面Dl D5 光點(diǎn)中心偏移量E1、E2 投射于預(yù)設(shè)平面的光點(diǎn)右側(cè)與左側(cè)的強(qiáng)度E1’、E2’ 投射于待測物的光點(diǎn)右側(cè)與左側(cè)的強(qiáng)度H 預(yù)設(shè)平面距離光源的距離Hl Η5 光點(diǎn)距離預(yù)設(shè)平面的距離OLPl 0LP5 光束投射至待測物表面的光點(diǎn)PLPl PLP5 光束投射至預(yù)設(shè)平面的光點(diǎn)ROLPl R0LP5 物體光點(diǎn)影像RPLPl RPLP5 平面光點(diǎn)影像S210 S260 流程步驟β :電控?cái)[動元件的可擺動角度
具體實(shí)施方式
請參照圖1，其繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)100的示意圖。本實(shí)施例的位置及深度檢出系統(tǒng)100包括一待測物110、一光源120、一光學(xué)系統(tǒng)130、 一光感測元件140、一電控?cái)[動元件150、一計(jì)算單元160以及一儲存單元170。該待測物110可為一種具有至少一表面的物體，此表面可能系具有一凹凸不平整的輪廓。該光源120可為可見光或不可見光，其可提供一平行光束，例如激光光束，使得該光源120所發(fā)射的光束經(jīng)過一段距離后其發(fā)散程度不至于太大。此外，該光源120在空間平面上所產(chǎn)生的光點(diǎn)形狀可為圓形、橢圓形、或圓形與橢圓形的反復(fù)漸變形狀，其中橢圓形光點(diǎn)系由脈沖寬度調(diào)變(Pulse Width Modulation, PWM)控制或脈沖頻率調(diào)變(Pulse Frequency Modulation,PFM)控制所產(chǎn)生。而光點(diǎn)形狀可藉由該電控?cái)[動元件150的擺動角度與該光源120的開啟與關(guān)閉所控制。該光學(xué)系統(tǒng)130系包括至少一鏡片，用以接收光學(xué)信息，且其視角系涵蓋所需的空間平面。該光感測元件140，例如是CMOS感測器與CCD感測器，其系位于該光學(xué)系統(tǒng)130 的一成像端，用以感測影像信息。于一實(shí)施例中，該光學(xué)系統(tǒng)130與該光感測元件140系可以一攝頭鏡頭來實(shí)現(xiàn)。該電控?cái)[動元件150系進(jìn)行周期性擺動，其擺動角度的范圍系使得反射的光束可涵蓋所需的空間平面，且擺動角度可經(jīng)由擺動頻率或給定信號決定。該計(jì)算單元160例如是一中央微處理器，其可接收該光源120等所傳送的數(shù)據(jù)，并依據(jù)所接收的數(shù)據(jù)計(jì)算出所需信息。該儲存單元170例如是硬碟、閃存等，用以儲存信息。請參照圖2，其繪示本實(shí)用新型前述實(shí)施例的檢出位置及深度的方法流程圖，用以檢出具有一表面的一待測物的位置及深度。請同時(shí)參照圖1。于步驟S210中，利用該光源 120發(fā)射一光束。舉例來說，該光源120可以朝向該電控?cái)[動元件150的方向發(fā)射光束。于步驟S220中，前述光束藉由該電控?cái)[動元件150的往復(fù)擺動來反射至該待測物 110的一表面，使得光束掃描范圍涵蓋該待測物110的該表面并于其上產(chǎn)生復(fù)數(shù)光點(diǎn)。其中該電控?cái)[動元件150系經(jīng)由以電氣驅(qū)動的一致動器控制該電控?cái)[動元件150的擺動角度， 使得該電控?cái)[動元件150可為往復(fù)擺動并涵蓋該待測物110的該表面。此外，該光源120 系藉由該電控?cái)[動元件150而將該光源120的光束反射至該待測物110的該表面以于其上產(chǎn)生光點(diǎn)。于步驟S230中，經(jīng)由該光學(xué)系統(tǒng)130接收投射至該待測物110的該表面的此些光點(diǎn)的復(fù)數(shù)投射信息。舉例來說，該光源120所發(fā)出的光束系經(jīng)由該電控?cái)[動元件150的往復(fù)擺動，使得光束于該待測物110的該表面上于不同時(shí)間點(diǎn)產(chǎn)生光點(diǎn)，而該光學(xué)系統(tǒng)130則于不同時(shí)間點(diǎn)個(gè)別接收此些光點(diǎn)的投射信息。舉例來說，于一特定時(shí)間點(diǎn)上，也就是該電控?cái)[動元件150系為一特定擺動角度時(shí)，投射于該待測物110該表面的光點(diǎn)系只有一個(gè)，此時(shí)該光學(xué)系統(tǒng)130接收具有一特定光點(diǎn)投射于該待測物110表面的影像信息。于步驟S240中，該計(jì)算單元160根據(jù)此些光點(diǎn)投射至一預(yù)設(shè)平面的復(fù)數(shù)預(yù)設(shè)信息與此些投射信息，計(jì)算出該待測物Iio的該表面的深度信息。舉例來說，該光源120所發(fā)出的光束投射至該待測物110前，先經(jīng)由該電控?cái)[動元件150反射至一預(yù)設(shè)平面(Default Plane, DP)，并于其上產(chǎn)生復(fù)數(shù)光點(diǎn)，而該光學(xué)系統(tǒng)130接收產(chǎn)生于該預(yù)設(shè)平面DP上的光點(diǎn)的信息，并以預(yù)設(shè)信息的方式將其儲存于該儲存單元170。也就是該儲存單元170將儲存投射至該預(yù)設(shè)平面的光點(diǎn)的預(yù)設(shè)信息。而該計(jì)算單元160將依據(jù)此些投射信息與此些預(yù)設(shè)信息計(jì)算出該待測物110的該表面的深度信息與軸向位置，其中深度信息可為該表面的深度變化。如此一來，該計(jì)算單元160即可結(jié)合此光點(diǎn)的深度信息與軸向位置而計(jì)算出該待測物110表面上特定光點(diǎn)的二維位置。而由于該電控?cái)[動元件150系往復(fù)擺動并涵蓋該待測物110的表面，所以當(dāng)該待測物110的表面上所有光點(diǎn)的個(gè)別深度信息與軸向位置皆計(jì)算出后，即可統(tǒng)整此些信息而構(gòu)成該待測物110表面的二維信息，也就是計(jì)算出該待測物110 在空間上的二維位置。以下將詳細(xì)介紹如何依據(jù)投射信息與預(yù)設(shè)信息計(jì)算出深度信息。請參照圖3，其繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)300利用光點(diǎn)中心偏移量來計(jì)算深度信息的示意圖。其中待測物310、光源320、光學(xué)系統(tǒng)330、光感測元件340、電控?cái)[動元件350、計(jì)算單元360以及儲存單元370類似于圖1中的待測物110、 光源120、光學(xué)系統(tǒng)130、光感測元件140、電控?cái)[動元件150、計(jì)算單元160以及儲存單元 170，于此不再贅述。其中β系電控?cái)[動元件150可擺動的角度。當(dāng)該電控?cái)[動元件350的擺動角度系一特定角度時(shí)，光束投射至一預(yù)設(shè)平面 (Default Plane, DP)與該待測物310表面的光點(diǎn)例如系分別為PLP (Plane Light Point, PLP)與OLP (Object Light Point, OLP)。舉例來說，當(dāng)該電控?cái)[動元件350的擺動角度系一第一角度時(shí)，投射至該預(yù)設(shè)平面DP與該待測物310表面的光點(diǎn)系分別為PLPl與0LP1，而該光學(xué)系統(tǒng)330各別接收PLPl與OLPl的信息并成像于該光感測元件340，藉此分別產(chǎn)生對應(yīng)至OLPl的物體光點(diǎn)影像ROLPl (Reflection 0LP)的投射信息以及對應(yīng)至PLPl的平面光點(diǎn)影像RPLPl (Reflection PLP)的預(yù)設(shè)信息。其中，ROLPl與RPLPl的中心偏移量系Dl。其中，由于該預(yù)設(shè)平面DP系已知，所以成像于該光感測元件340的RPLPl的預(yù)設(shè)信息系預(yù)先儲存于該儲存單元370。而該計(jì)算單元360則依據(jù)此預(yù)設(shè)信息與此投射信息得到的此光點(diǎn)的一中心偏移量來計(jì)算出該待測物的一深度信息。舉例來說，當(dāng)該電控?cái)[動元件350的擺動角度系固定時(shí)，當(dāng)ROLPl與RPLPl的中心偏移量愈大時(shí)，則代表光束投射至該待測物310上的光點(diǎn)OLPl與PLPl距離愈遠(yuǎn)，藉此計(jì)算單元360可計(jì)算出該待測物310表面上的OLPl距離該預(yù)設(shè)平面DP的距離HI。以此類推，該電控?cái)[動元件350的擺動角度系第二、第三、第四、第五角度時(shí)，投射至該預(yù)設(shè)平面DP與該待測物310表面的光點(diǎn)系分別為PLP2 PLP5與0LP2 0LP5，而該光學(xué)系統(tǒng)330各別接收PLP2 PLP5與0LP2 0LP5的信息并成像于該光感測元件340， 藉此分別產(chǎn)生對應(yīng)至0LP2 0LP5的物體光點(diǎn)影像R0LP2 R0LP5的投射信息以及對應(yīng)至 PLP2 PLP5的平面光點(diǎn)影像RPLP2 RPLP5的預(yù)設(shè)信息。其中，R0LP2 R0LP5與RPLP2 RPLP5的中心偏移量系各別為D2 D5。而由于該光源320所產(chǎn)生的光束非常的小，且該電控?cái)[動元件350的可控制的擺動角度也相當(dāng)精密，使得藉由光點(diǎn)中心偏移量來計(jì)算深度信息的誤差系可接受的。而由于該光源320所發(fā)出的光束可涵蓋該待測物310的表面，故此該計(jì)算單元360可計(jì)算出該待測物310 —表面的深淺變化，進(jìn)而獲得該待測物310的深度 fn息ο于另一實(shí)施例中，可藉由光點(diǎn)的大小變形量來計(jì)算出待測物的深度信息。請參照圖4，其繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)400利用光點(diǎn)大小變形量來計(jì)算深度信息的示意圖。其中待測物410、光源420、光學(xué)系統(tǒng)430、光感測元件440、電控?cái)[動元件450、計(jì)算單元460、儲存單元470、OLPl 0LP5、PLPl PLP5、 ROLPl R0LP5、RPLP1 RPLP5、H1 H5系類似于圖3中的待測物310、光源320、光學(xué)系統(tǒng) 330、光感測元件；340、電控?cái)[動元件；350、計(jì)算單元360、儲存單元370、0LP1 0LP5、PLP1 PLP5、ROLPl R0LP5、RPLPl RPLP5、Hl H5，于此不再贅述。其中，由于該預(yù)設(shè)平面DP系已知，所以成像于該光感測元件440的RPLPl的預(yù)設(shè)信息系預(yù)先儲存于該儲存單元470。而該計(jì)算單元460則依據(jù)此RPLPl的預(yù)設(shè)信息與此 ROLPl的投射信息得到此光點(diǎn)的一大小變形量，并藉此計(jì)算出該待測物410的深度信息。舉例來說，由于該電控?cái)[動元件450的擺動角度系固定，所以當(dāng)ROLPl與RPLPl兩者的間的大小變形量愈大時(shí)，例如是RPLPl與ROLPl的大小差異愈大，則代表光束投射至該待測物410 上的光點(diǎn)OLPl與PLPl距離愈遠(yuǎn)，藉此計(jì)算單元460可計(jì)算出該待測物410中OLPl所處的表面距離預(yù)設(shè)平面DP的距離HI。以此類推，該電控?cái)[動元件450的擺動角度系第二、第三、第四、第五角度時(shí)，投射至該預(yù)設(shè)平面DP與該待測物410的光點(diǎn)系分別為PLP2 PLP5與0LP2 0LP5，而該光學(xué)系統(tǒng)430各別接收PLP2 PLP5與0LP2 0LP5的信息并成像于該光感測元件340，藉此分別產(chǎn)生對應(yīng)至0LP2 0LP5的物體光點(diǎn)影像R0LP2 R0LP5的投射信息以及對應(yīng)至PLP2 PLP5的平面光點(diǎn)影像RPLP2 RPLP5的預(yù)設(shè)信息。其中，該計(jì)算單元460分別依據(jù)R0LP2 R0LP5的投射信息與RPLP2 RPLP5的預(yù)設(shè)信息得到的光點(diǎn)的各別大小變形量，并藉此各別計(jì)算出各光點(diǎn)0LP2 0LP5各別距離該預(yù)設(shè)平面DP的距離H2 H5。故該計(jì)算單元460 可計(jì)算出該待測物410的一表面的深淺變化，進(jìn)而獲得該待測物410的深度信息。于再一實(shí)施例中，可藉由光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量來計(jì)算出待測物的深度信息。請參照圖5，其繪示本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置及深度檢出系統(tǒng)500利用光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量來計(jì)算深度信息的示意圖。其中待測物510、光源520、光學(xué)系統(tǒng)530、 光感測元件討0、電控?cái)[動元件550、計(jì)算單元560、儲存單元570、0LP1及PLPl系類似于圖 3中的待測物310、光源320、光學(xué)系統(tǒng)330、光感測元件340、電控?cái)[動元件350、計(jì)算單元 360、儲存單元370、OLPl及PLP1，于此不再贅述。其中，當(dāng)該電控?cái)[動元件550的擺動角度系一特定角度時(shí)，投射于該待測物510表面上的光點(diǎn)為0LP1，投射于預(yù)設(shè)平面DP的光點(diǎn)為PLP1。El與E2系分別為光束投射于該預(yù)設(shè)平面DP的光點(diǎn)PLPl右側(cè)與左側(cè)的強(qiáng)度，而ΕΓ與E2’系分別為光束投射于該待測物 510的光點(diǎn)OLPl右側(cè)與左側(cè)的強(qiáng)度。由于該預(yù)設(shè)平面DP系已知，所以該光感測元件440感測到投射于該預(yù)設(shè)平面DP 的光點(diǎn)PLPl強(qiáng)度El、E2的預(yù)設(shè)信息系預(yù)先儲存于該儲存單元570中。而當(dāng)該光感測元件 440感測到投射于該待測物510表面的光點(diǎn)OLPl強(qiáng)度E1’與E2’的投射信息時(shí)，該計(jì)算單元560可依據(jù)此E1、E2的預(yù)設(shè)信息與ΕΓ與E2’的投射信息得到的光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量來計(jì)算出光點(diǎn)的深度信息。舉例來說，投射于該預(yù)設(shè)平面DP的光點(diǎn)PLPl的強(qiáng)度中心系El 與E2的平均，投射于該待測物510表面的光點(diǎn)OLPl的強(qiáng)度中心系ΕΓ與E2’的平均，而光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量即為E1、E2的平均與E1’、E2’的平均的差異。其中由于光束的強(qiáng)度與行經(jīng)路徑長短成反比，也就是當(dāng)光束行進(jìn)路徑愈長，其強(qiáng)度愈弱；所以，當(dāng)光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量愈大時(shí)，則代表投射于該待測物510表面的光點(diǎn)OLPl距離該預(yù)設(shè)平面DP的距離愈遠(yuǎn)，據(jù)此該計(jì)算單元560可估算出該待測物510表面上光點(diǎn)OLPl距離該預(yù)設(shè)平面DP的距離HI。綜上所述，雖于上述系個(gè)別以光點(diǎn)中心偏移量、光點(diǎn)大小變形量以及光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量來計(jì)算出待測物的深度信息，然本實(shí)用新型并不限于此。舉例來說，計(jì)算單元可依據(jù)預(yù)設(shè)信息與投射信息得到光點(diǎn)的大小變形量與強(qiáng)度中心變異量來計(jì)算出待測物的深度信息。如此一來，由于在某些特殊的表面凹凸?fàn)顩r下，以光點(diǎn)的大小變形量所估算出的深度信息的誤差較以光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量所估算出的深度信息為?。欢诹硪恍┨厥獾谋砻姘纪?fàn)顩r下，以光點(diǎn)的大小變形量所估算出的深度信息的誤差較以光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量所估算出的深度信息為大。所以結(jié)合兩種估算方式可提高所計(jì)算出的深度信息的精準(zhǔn)度，結(jié)合方式例如是兩種計(jì)算結(jié)果的平均值。此外，本實(shí)用新型也不限于上述兩種估算方式的結(jié)合，“光點(diǎn)中心偏移量”、“光點(diǎn)大小變形量”、“光點(diǎn)的強(qiáng)度中心變異量”三者中任二或三者方式同時(shí)用于計(jì)算深度信息的方法及裝置皆屬于本實(shí)用新型的范圍。此外，由于可藉由計(jì)算單元計(jì)算出待測物表面的深度信息，所以計(jì)算單元更可藉由電控?cái)[動元件于一不同時(shí)間以相同角度反射光源的光束，以及藉由光學(xué)系統(tǒng)于此不同時(shí)間所接收的投射信息，來計(jì)算出待測物于空間中的移動量。也就是說，藉由量測待測物表面的深度信息，即可推得此特測物的移動量。由于藉由簡單的元件架構(gòu)即可推知待測物的移動量，此舉可增加此裝置的用途。[0056]再者，藉由光源在空間平面上所產(chǎn)生的光點(diǎn)形狀，例如是圓形、橢圓形、或圓形與橢圓形的反復(fù)漸變形狀，可提升計(jì)算單元計(jì)算待測物表面的深度信息的精確性。如此一來，本實(shí)用新型僅需藉由光感測元件即可估算待測物表面的深淺變化。也就是說，本實(shí)用新型可以使用較少的元件及簡單的配置即可達(dá)到估算待測物表面深淺變化的需求。所以本實(shí)用新型具有不需復(fù)雜影像辨識處理而可提高反應(yīng)效率的優(yōu)點(diǎn)。此外，本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡單，所需的設(shè)備成本也較低，故更具有成本低廉的優(yōu)點(diǎn)。綜上所述，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)， 當(dāng)可作各種的更動與潤飾。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求范圍所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種位置及深度檢出裝置，用以檢出具有一表面的一待測物的位置及深度，其特征在于，所述的裝置包括一電控?cái)[動元件，經(jīng)由以電氣驅(qū)動的一致動器控制該電控?cái)[動元件的擺動角度； 一光源，藉由所述的電控?cái)[動元件將所述的光源的光束反射至所述的表面以產(chǎn)生一光點(diǎn)；一光學(xué)系統(tǒng)，用以接收投射至所述的表面的所述的光點(diǎn)的一投射信息； 一儲存單元，用以儲存投射至一預(yù)設(shè)平面的所述的光點(diǎn)的一預(yù)設(shè)信息；以及一計(jì)算單元，依據(jù)所述的投射信息與所述的預(yù)設(shè)信息計(jì)算出所述的待測物的一深度信息。
2.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的電控?cái)[動元件系以周期性擺動，所述的電控?cái)[動元件的擺動角度可經(jīng)由擺動頻率或給定信號決定。
3.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的電控?cái)[動元件的擺動角度的范圍系使得反射的所述的光束可涵蓋所需的空間平面。
4.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的光學(xué)系統(tǒng)的視角涵蓋所需的空間平面。
5.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的光學(xué)系統(tǒng)包括至少一鏡片。
6.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的光源在空間平面上所產(chǎn)生的光點(diǎn)形狀為圓形。
7.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的光源在空間平面上所產(chǎn)生的光點(diǎn)形狀為橢圓形。
8.如權(quán)利要求1所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的光源在空間平面上所產(chǎn)生的一光點(diǎn)形狀為圓形與橢圓形的反復(fù)漸變形狀，所述的光點(diǎn)形狀可藉由所述的電控?cái)[動元件的擺動角度與所述的光源的開啟與關(guān)閉所控制。
9.如權(quán)利要求7或8所述的位置及深度檢出裝置，其特征在于，所述的橢圓形光點(diǎn)系由脈沖寬度調(diào)變控制或脈沖頻率調(diào)變控制所產(chǎn)生。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種位置及深度的檢出裝置。此檢出裝置用以檢出具有一表面的待測物的位置及深度，包括一電控?cái)[動元件、一光源、一光學(xué)系統(tǒng)、一儲存單元及一計(jì)算單元。該電控?cái)[動元件系經(jīng)由以電氣驅(qū)動的一致動器控制此電控?cái)[動元件的擺動角度。該光源系藉由此電控?cái)[動元件將該光源的光束反射至此表面以產(chǎn)生光點(diǎn)。該光學(xué)系統(tǒng)用以接收投射至此表面的光點(diǎn)的投射信息。該儲存單元用以儲存投射至一預(yù)設(shè)平面的光點(diǎn)的預(yù)設(shè)信息。該計(jì)算單元系依據(jù)此投射信息與此預(yù)設(shè)信息計(jì)算出待測物的深度信息。
文檔編號G01B11/30GK202171447SQ201120167720
公開日2012年3月21日 申請日期2011年5月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月15日
發(fā)明者曾德生, 許文鴻, 黃澄儀 申請人:大立光電股份有限公司