專利名稱：新型真空測量規(guī)管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種新型真空測量規(guī)管。
背景技術(shù)：
真空測量規(guī)管是檢測真空系統(tǒng)的傳感器，在真空鍍膜系統(tǒng)中，真空測量的精度和穩(wěn)定性是決定鍍膜精度和重復(fù)性的重要依據(jù)。在通常的真空檢測系統(tǒng)中，真空測量規(guī)管是直接放置在大氣中的。以測量高真空的電離規(guī)管為例，其測量原理是電子與氣體分子碰撞后引起分子電離，從而形成電子和正離子，電子最終被加速極收集，正離子被收集極接收形成離子流，通過測量離子流大小來判斷真空度的高低。由于工作過程中電離規(guī)管的管壁會發(fā)熱，其溫度高低與分子電離特性是相關(guān)的。在通常情況下，電離規(guī)管是直接暴露在空氣中，管壁的散熱情況與環(huán)境溫度相關(guān)。為保證測試精度的一致性，原則上要求電離規(guī)管所處的環(huán)境有恒溫條件，但由于抽真空系統(tǒng)所處的環(huán)境要做到恒溫代價很高，也不現(xiàn)實(shí)。所以在實(shí)際生產(chǎn)中，夏天和冬天，白天和晚上測量的準(zhǔn)確度都會有所偏差，對要求高的場合就會使生產(chǎn)工藝引入較大的誤差。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種不受外界環(huán)境溫度影響的新型真空測量規(guī)管。為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)新型真空測量規(guī)管，包括電離規(guī)管，其特征在于，圍繞電離規(guī)管設(shè)置有套管支架， 圍繞套管支架纏繞有冷卻水管，所述冷卻水管設(shè)置有進(jìn)口和出口。優(yōu)選地是，所述冷卻水管為銅管。優(yōu)選地是，所述冷卻水管螺旋纏繞在套管支架上。本實(shí)用新型中的新型真空測量規(guī)管，利用在冷卻水管中通入恒溫冷卻水，為電離規(guī)管提供恒溫的工作環(huán)境，可防止電離規(guī)管受外界溫度變化影響而降低穩(wěn)定性。

圖1為本實(shí)用新型中的新型新型真空測量規(guī)管結(jié)構(gòu)剖視圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述如圖1所示，新型真空測量規(guī)管，包括電離規(guī)管1。圍繞電離規(guī)管1設(shè)置有套管支架2。圍繞套管支架2纏繞有冷卻水管3。冷卻水管3設(shè)置有進(jìn)口 31和出口 32。冷卻水管 3為銅管。冷卻水管3螺旋纏繞在套管支架2上。本實(shí)用新型中的實(shí)施例僅用于對本實(shí)用新型進(jìn)行說明，并不構(gòu)成對權(quán)利要求范圍的限制，本領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)人員可以想到的其他實(shí)質(zhì)上等同的替代，均在本實(shí)用新型保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.新型真空測量規(guī)管，包括電離規(guī)管，其特征在于，圍繞電離規(guī)管設(shè)置有套管支架，圍繞套管支架纏繞有冷卻水管，所述冷卻水管設(shè)置有進(jìn)口和出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空測量規(guī)管，其特征在于，所述冷卻水管為銅管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空測量規(guī)管，其特征在于，所述冷卻水管螺旋纏繞在套管支架上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種新型真空測量規(guī)管，包括電離規(guī)管，其特征在于，圍繞電離規(guī)管設(shè)置有套管支架，圍繞套管支架纏繞有冷卻水管，所述冷卻水管設(shè)置有進(jìn)口和出口。本實(shí)用新型中的新型真空測量規(guī)管，利用在冷卻水管中通入恒溫冷卻水，為電離規(guī)管提供恒溫的工作環(huán)境，可防止電離規(guī)管受外界溫度變化影響而降低穩(wěn)定性。
文檔編號G01L21/30GK202267566SQ20112037205
公開日2012年6月6日 申請日期2011年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月29日
發(fā)明者孫紅俊, 湯兆勝 申請人:上海兆九光電技術(shù)有限公司