專利名稱：基板檢查方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板檢查方法，更具體地涉及根據(jù)在基板上形成的測量對(duì)象的設(shè)置姿勢，補(bǔ)正其測量數(shù)據(jù)的失真，提高測量可靠性的基板檢查方法。
背景技術(shù)：
通常，在電子設(shè)備內(nèi)裝載有用于控制電子設(shè)備的驅(qū)動(dòng)的裝配有電子零部件的基板。尤其，在電子設(shè)備內(nèi)裝載有作為對(duì)電子設(shè)備進(jìn)行中央控制的中央處理器(CPU)的裝配有中央處理半導(dǎo)體芯片的基板。這種中央處理裝置屬于利用這種裝置的電子設(shè)備的重要零部件，為了確認(rèn)中央處理裝置的零部件的可靠性，需要檢查中央處理半導(dǎo)體芯片是否正確裝配于基板上。近年來開始使用一種利用基板檢查裝置對(duì)裝配有測量對(duì)象的基板進(jìn)行檢查的技術(shù)，上述基板檢查裝置包括投影部，其為了測量形成有測量對(duì)象的基板的三維形狀，包含照明源以及光柵元件向測量對(duì)象照射圖案光；以及成像部，其通過圖案光的照射，拍攝測量對(duì)象的圖案影像。但這種測量是沒有考慮基板的傾斜姿勢的二維測量，在形成有測量對(duì)象的基板相對(duì)于成像部的圖像平面稍微傾斜地設(shè)置的情況下，會(huì)出現(xiàn)測量對(duì)象的位置、大小、高度等測量數(shù)據(jù)的失真。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明是為了解決上述存在問題而提出的，提供一種根據(jù)在基板上形成的測量對(duì)象的設(shè)置姿勢，補(bǔ)正其測量數(shù)據(jù)的失真，提高測量可靠性的基板檢查方法。根據(jù)本發(fā)明的一特征的基板檢查方法，其包括:通過成像部測量形成有測量對(duì)象的基板，生成對(duì)上述基板的平面方程式的步驟；求出在上述被測量的基板上形成的測量對(duì)象的區(qū)域的步驟；考慮上述測量對(duì)象的高度，將上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟；以及，基于轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查上述測量對(duì)象的步驟。在生成上述平面方程式的步驟中，作為一例，能夠通過測量在上述基板上形成的識(shí)別標(biāo)志之間的長度而生成上述平面方程式。在生成上述平面方程式的步驟中，作為再一例，能夠通過利用激光測量上述基板而生成上述平面方程式。在生成上述平面方程式的步驟中，作為另一例，能夠通過莫爾測量方法測量上述基板而生成上述平面方程式。在上述求出測量對(duì)象的區(qū)域的步驟中，能夠包括求出對(duì)應(yīng)于上述測量對(duì)象的4邊的4條直線并使得在上述測量對(duì)象的4邊中相對(duì)的2邊保持平行的步驟。在考慮上述測量對(duì)象的高度將上述測量對(duì)象的區(qū)域根據(jù)上述平面方程式轉(zhuǎn)換為基板面的步驟中，對(duì)于在上述測量對(duì)象的區(qū)域中的一個(gè)點(diǎn)，求出連接成像部的圖像平面與根據(jù)上述平面方程式的基板面的直線上的一點(diǎn)到上述基板面的垂直距離對(duì)應(yīng)于上述測量對(duì)象的高度的上述基板面上的一點(diǎn)，并能夠?qū)⑸鲜鰷y量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面。上述基板檢查方法，還包括:將根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線的中心與根據(jù)上述平面方程式的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線的中心匹配一致的步驟；以及，將根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線與根據(jù)上述平面方程式的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線匹配一致的步驟。在上述測量對(duì)象的檢查中，對(duì)相當(dāng)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的中心與根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的中心之間的X軸方向上的偏移的第一偏移、相當(dāng)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的中心與根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的中心之間的Y軸方向上的偏移的第二偏移、相當(dāng)于相對(duì)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的偏斜角度的第三偏移以及相當(dāng)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的四角與根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的四角之間的間距的第四偏移中的至少一種進(jìn)行檢查。在測量上述基板時(shí)，能夠通過設(shè)有遠(yuǎn)心鏡頭的成像部，對(duì)上述基板進(jìn)行測量。還能夠包括，在測量形成有上述測量對(duì)象的基板之前，補(bǔ)正作為高度測量基準(zhǔn)的基準(zhǔn)面的步驟。根據(jù)本發(fā)明的再一特征的基板檢查方法，包括:測量形成有測量對(duì)象的基板，生成對(duì)上述基板的平面方程式的步驟；求出在上述基板上形成的測量對(duì)象的區(qū)域的步驟；將上述測量對(duì)象的區(qū)域補(bǔ)正為根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟；將根據(jù)上述平面方程式的基板面與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面匹配一致的步驟；以及，基于根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域與補(bǔ)正為根據(jù)上述平面方程式的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查上述測量對(duì)象的步驟。根據(jù)本發(fā)明的另一特征的基板檢查方法，包括:通過成像部將形成有測量對(duì)象的基板整體區(qū)分為至少2個(gè)以上的測量區(qū)域，分別測量各個(gè)測量區(qū)域，生成在各個(gè)測量區(qū)域中的對(duì)上述基板的平面方程式的步驟；求出在各個(gè)測量區(qū)域中測量的測量對(duì)象的區(qū)域的步驟；將在各個(gè)測量區(qū)域中測量的上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為對(duì)各個(gè)測量區(qū)域的根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟；在多個(gè)測量區(qū)域中獲取的根據(jù)上述平面方程式的基板面匹配一致為同一平面的步驟；以及，基于根據(jù)上述以同一平面匹配一致的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查上述測量對(duì)象的步驟。在將從多個(gè)測量區(qū)域中獲取的根據(jù)上述平面方程式的基板面匹配一致為同一平面的步驟中，以上述各個(gè)測量區(qū)域的共同區(qū)域及上述測量對(duì)象的區(qū)域中的至少一種為準(zhǔn)進(jìn)行匹配。在將從各個(gè)測量區(qū)域中求出的上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為對(duì)各個(gè)測量區(qū)域的根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟中，考慮上述測量對(duì)象的高度，轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面。根據(jù)上述基板檢查方法，通過根據(jù)形成有測量對(duì)象的基板的傾斜姿勢，求出測量對(duì)象的偏移量，由此補(bǔ)償測量數(shù)據(jù)的失真，從而提高測量數(shù)據(jù)的可靠性。并且，在求出測量對(duì)象的角和中心的坐標(biāo)時(shí)，確保在對(duì)應(yīng)于測量對(duì)象的4邊的4條直線中相對(duì)的2條直線保持相互平行，從而獲得更加精確的測量對(duì)象的角和中心的坐標(biāo)。并且，考慮測量對(duì)象的高度，將測量對(duì)象的區(qū)域補(bǔ)正為測量數(shù)據(jù)上的基板面后，將測量數(shù)據(jù)上的基板面與基準(zhǔn)數(shù)據(jù)上的基板面匹配一致，從而獲得更加精確的測量對(duì)象的偏移量。并且，在因使用遠(yuǎn)心鏡頭而無法推定基板的傾斜姿勢的情況下，測量基板的傾斜姿勢，由此補(bǔ)償傾斜姿勢下的測量數(shù)據(jù)的失真，從而提高測量數(shù)據(jù)的可靠性。并且，在成像部的視界(FOV)內(nèi)無法拍攝基板的整體區(qū)域的大型基板的情況下，將大型基板分割為多個(gè)測量區(qū)域并進(jìn)行測量后，將在各個(gè)測量區(qū)域中測量的基板面，以測量對(duì)象的角為準(zhǔn)，在空間上進(jìn)行匹配并生成一個(gè)基板面，從而精確地獲得對(duì)大型基板的測量對(duì)象的偏移量。


圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板檢查裝置的簡單結(jié)構(gòu)圖。圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的測量對(duì)象的失真補(bǔ)償方法的流程圖。圖3是表不形成有測量對(duì)象的基板的俯視圖。圖4是表示根據(jù)平面方程式的基板面的圖。圖5是表示求出測量對(duì)象的區(qū)域的方法的流程圖。圖6是表示求出測量對(duì)象的區(qū)域的方法的概念圖。圖7是用于說明將測量對(duì)象的區(qū)域補(bǔ)正為根據(jù)平面方程式的基板面的過程的概念圖。圖8是用于說明將根據(jù)平面方程式的基板面與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面匹配一致的過程的概念圖。圖9是用于說明測量對(duì)象檢查過程的概念圖。圖10是表示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基準(zhǔn)面補(bǔ)正方法的流程圖。圖11是用于說明根據(jù)圖10的基準(zhǔn)面補(bǔ)正方法的概念圖。圖12是表示根據(jù)圖10的第二試片的立體圖。圖13是表示圖1所示的成像部的校準(zhǔn)方法的流程圖。圖14是表示校準(zhǔn)基板的立體圖。圖15是表示設(shè)于基板檢查裝置的非球面鏡頭的補(bǔ)正方法的流程圖。圖16是用于說明對(duì)因非球面鏡頭導(dǎo)致的失真進(jìn)行補(bǔ)償?shù)姆椒ǖ母拍顖D。圖17是表示根據(jù)本發(fā)明的其他實(shí)施例的基板檢查方法的流程圖。圖18是表示對(duì)大型基板的偏移量測量過程的概念圖。(附圖標(biāo)記說明)100:基板檢查裝置 110:基板112:測量對(duì)象114:識(shí)別標(biāo)志120:投影部130:照明部140:成像部150:分束器
具體實(shí)施例方式本發(fā)明能夠進(jìn)行各種變更，并且能夠具有多種形態(tài)，在附圖上例示特定實(shí)施例，并在本文中對(duì)其進(jìn)行詳細(xì)說明。但本發(fā)明并不 受限于特定的公開形態(tài)，應(yīng)理解為包含在本發(fā)明的思想及技術(shù)范圍內(nèi)的所有變更、等同技術(shù)方案以及替代技術(shù)方案。
第一、第二等用語能夠用于說明各種結(jié)構(gòu)要素，但上述結(jié)構(gòu)要素并不受限于上述用語。上述用語僅僅用于將一個(gè)結(jié)構(gòu)要素區(qū)別于另一個(gè)結(jié)構(gòu)要素的目的。例如，在本發(fā)明的權(quán)利范圍內(nèi)，第一結(jié)構(gòu)要素能夠被命名為第二結(jié)構(gòu)要素，同樣，第二結(jié)構(gòu)要素也能夠被命名為第一結(jié)構(gòu)要素。在本申請(qǐng)中使用的用語僅僅是為了說明特定實(shí)施例，并不限定本發(fā)明。關(guān)于單數(shù)的表現(xiàn)，除非根據(jù)上下文具有明確含義，其包含復(fù)數(shù)的表現(xiàn)。在本申請(qǐng)中使用的“包含”或“具有”等用語，應(yīng)理解為它是為了指定在說明書中記載的特征、數(shù)字、步驟、動(dòng)作、結(jié)構(gòu)要素、部件或它們的組合的存在性，并不是為了預(yù)先排除一個(gè)或一個(gè)以上的其他特征或數(shù)字、步驟、動(dòng)作、結(jié)構(gòu)要素、部件或它們的組合的存在性或附加可能性。除非另行定義，包含技術(shù)性和科學(xué)性的用語，在此使用的所有用語具有與本領(lǐng)域技術(shù)人員通常理解上的含義。通常使用的具有詞典定義的用語，應(yīng)解釋為其含義與相關(guān)技術(shù)的上下文具有的含義一致，除非在本申請(qǐng)中明確定義，不應(yīng)解釋為過度理想化或過度形式化的含義。 下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行更加詳細(xì)的說明。圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板檢查裝置的簡單結(jié)構(gòu)圖。參照?qǐng)D1，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板檢查裝置100包括用于支撐及移送形成有測量對(duì)象112的基板110的載物臺(tái)160、用于向基板110照射圖案光的一個(gè)以上的投影部120、用于向基板110照射光的照明部130、用于拍攝基板110的影像的成像部140及配置于成像部140的下部并將部分入射光進(jìn)行反射而剩余的部分入射光進(jìn)行透射的分束器150。投影部120為了測量在基板110上形成的測量對(duì)象112的三維形狀，向基板110照射圖案光。例如，投影部120包括用于生成光的光源122、用于將源于光源122的光轉(zhuǎn)化為圖案光的光柵元件124。并且，投影部120能夠包括用于將光柵元件124進(jìn)行間隔移送的光柵移送機(jī)構(gòu)(未圖示)以及用于將通過光柵元件124轉(zhuǎn)換的圖案光投影到測量對(duì)象112的投影鏡頭(未圖示)等。光柵元件124為了圖案光的相移能夠通過壓電驅(qū)動(dòng)器(piezoactuator:PZT)等光柵移送機(jī)構(gòu)每次移送2 /N。其中，N為2以上的自然數(shù)。具有這種結(jié)構(gòu)的投影部120，為了提高檢查的精確度，能夠以成像部140為中心并沿著圓周方向，以一定角度分隔安裝多個(gè)。例如，4個(gè)投影部120以成像部140為中心并沿著圓周方向，以90°角度相互分隔安裝。多個(gè)投影部120相對(duì)于基板110以一定角度傾斜地安裝，從多個(gè)方向向基板110照射圖案光。照明部130安裝于成像部140與基板110之間并向分束器150照射光。照明部130為了拍攝形成有測量對(duì)象112的基板110的平面圖像，通過分束器150向基板110照射光。例如，照明部130能夠包含生成光的至少一個(gè)光源132。成像部140通過投影部120的圖案光照射而拍攝基板110的影像，通過照明部130的光照射而拍攝基板110的影像。例如，成像部140安裝于基板110的垂直上方。成像部140能夠包含用于拍攝影像的攝像頭142以及用于將入射到成像部140的光成像于攝像頭142的成像鏡頭144。攝像頭142能夠包含CXD攝像頭或CMOS攝像頭。成像鏡頭144能夠包含例如僅透射與光軸平行的光以使Z軸下的圖像失真最小化的遠(yuǎn)心鏡頭(telecentriclens)。分束器150安裝于成像部140與基板110之間。分束器150具有將部分入射光進(jìn)行反射而將剩余部分入射光進(jìn)行透射的特點(diǎn)。因此，由照明部130發(fā)射的光在分束器150的作用下，部分反射到基板110，剩余部分實(shí)現(xiàn)透射。并且，由基板110反射的部分光透過分束器150并入射到成像部140，剩余部分通過分束器150實(shí)現(xiàn)反射。如此，通過利用分束器150將散射光照射于測量對(duì)象112并且由測量對(duì)象112反射的光再次通過分束器150入射于成像部140的同軸照明方式，在表面反射特性強(qiáng)的測量對(duì)象112或因周圍環(huán)境導(dǎo)致在測量對(duì)象112上產(chǎn)生影子的情況下，能夠提高測量可靠性。利用上述結(jié)構(gòu)的基板檢查裝置100測量形成于基板110上的測量對(duì)象112時(shí)，在將設(shè)于成像部140的成像鏡頭144作為遠(yuǎn)心鏡頭使用的情況下，無法推定基板110的傾斜姿勢，因此，根據(jù)設(shè)置于載物臺(tái)160的基板110的傾斜姿勢，測量數(shù)據(jù)將會(huì)出現(xiàn)失真。因此，為了獲取對(duì)測量對(duì)象112的正確的測量數(shù)據(jù)，需要對(duì)因基板110的傾斜姿勢導(dǎo)致的測量數(shù)據(jù)的失真進(jìn)行補(bǔ)償。下面將對(duì)根據(jù)基板設(shè)置狀態(tài)的測量對(duì)象的失真補(bǔ)償方法進(jìn)行詳細(xì)說明。圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的測量對(duì)象的失真補(bǔ)償方法的流程圖，圖3是表示形成有測量對(duì)象的基板的俯視圖。參照?qǐng)D2及圖3，為了補(bǔ)償因測量對(duì)象112的傾斜姿勢導(dǎo)致的失真，首先，通過成像部140測量形成有測量對(duì)象112的基板110，生成對(duì)基板110的平面方程式(S100)?；?10的平面方程式能夠通過測量基板110的任意3點(diǎn)的位置而求出。例如，通過測量在基板110上形成的多個(gè)識(shí)別標(biāo)志114的位置，從而生成對(duì)基板110的平面方程式。即，在基板110的四角部分形成有識(shí)別標(biāo)志114，利用對(duì)4個(gè)識(shí)別標(biāo)志114中的至少3個(gè)識(shí)別標(biāo)志114的測量數(shù)據(jù)，能夠生成平面方程式。圖4是表示根據(jù)平面方程式的基板面的圖。參照?qǐng)D1及圖4，為了利用至少3個(gè)識(shí)別標(biāo)志114生成平面方程式，需要獲知識(shí)別標(biāo)志114的X、Y、Z坐標(biāo)。識(shí)別標(biāo)志114的X、Y坐標(biāo)能夠從在成像部140中通過照明部130的光照射而拍攝的測量圖像中輕松獲得。而識(shí)別標(biāo)志114的Z坐標(biāo)能夠通過不同于X、Y坐標(biāo)的測量方法的其他方法獲得。作為一例，識(shí)別標(biāo)志114的Z坐標(biāo)能夠通過測量識(shí)別標(biāo)志114之間的長度而獲得。即，通過比較已測量的識(shí)別標(biāo)志114之間的長度與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)(例如，CAD數(shù)據(jù))已知的識(shí)別標(biāo)志114之間的長度，算出傾斜角度，從而獲得識(shí)別標(biāo)志114的高度Z1、Z2、Z3值。作為再一例，識(shí)別標(biāo)志114的Z坐標(biāo)能夠利用激光(未圖示)獲得。即，通過獨(dú)立的激光源，向各個(gè)識(shí)別標(biāo)志114照射激光后，測量由識(shí)別標(biāo)志114反射的激光，從而獲得各個(gè)識(shí)別標(biāo)志114的高度Z1、Z2、Z3值。作為另一例，識(shí)別標(biāo)志114的Z坐標(biāo)能夠通過利用多個(gè)投影部120的莫爾測量方法獲得。即，通過多個(gè)投影部120照射圖案光后，利用通過成像部140獲得的多個(gè)圖像圖形，從而獲得各個(gè)識(shí)別標(biāo)志114的高度Z1、Z2、Z3值。利用通過以上方法獲得的至少3個(gè)以上的識(shí)別標(biāo)志114或平面上的任意點(diǎn)的X、Y、Z坐標(biāo)，生成平面方程式，通過平面方程式求出對(duì)應(yīng)于設(shè)在載物臺(tái)160的基板110的基板面IlOa,從而能夠確認(rèn)基板110的傾斜姿勢。參照?qǐng)D1及圖2，獨(dú)立于求出對(duì)基板110的平面方程式的過程，求出在基板110上形成的測量對(duì)象112的區(qū)域(S110)。例如，利用在成像部140通過照明部130的光照射而拍攝的圖像，求出測量對(duì)象112的角和中心的坐標(biāo)。圖5是表示求出測量對(duì)象的區(qū)域的方法的流程圖，圖6是表示求出測量對(duì)象的區(qū)域的方法的概念圖。參照?qǐng)D5及圖6，為了求出測量對(duì)象112的區(qū)域，首先，求出對(duì)應(yīng)于測量對(duì)象112的4邊的4條直線L1、L2、L3、L4，并使得在測量對(duì)象112的4邊中相對(duì)的2邊能夠保持平行(S112)。例如,通過在成像部140拍攝的圖像的強(qiáng)度(Intensity)信息,基于對(duì)應(yīng)于測量對(duì)象112的4邊的像素分布，求出對(duì)應(yīng)于各邊的直線11、12、13、14。此時(shí)，確保4條直線L1、L2、L3、L4中的相對(duì)的直線(例如，LI與L3、L2與L4)保持相互平行。接著，從4條直線L1、L2、L3、L4中的2條直線的交點(diǎn)，求出測量對(duì)象112的角Cl、C2、C3、C4的坐標(biāo)(S114)。例如，從第一直線LI與第二直線L2的交點(diǎn)，求出第一角Cl的坐標(biāo)；從第二直線L2與第三直線L3的交點(diǎn)，求出第二角C2的坐標(biāo)；從第三直線L3與第四直線L4的交點(diǎn)，求出第三角C3的坐標(biāo)；從第四直線L4與第一直線LI的交點(diǎn)，求出第四角C4的坐標(biāo)。接著，從將測量對(duì)象112的4個(gè)角Cl、C2、C3、C4以對(duì)角線相連接的2條直線L5、L6的交點(diǎn)，求出測量對(duì)象112的中心A坐標(biāo)(S116)。即，從連接位于對(duì)角線方向的第一角Cl與第三角C3的第五直線L5和連接第二角C2與第四角C4的第六直線L6的交點(diǎn)，求出測量對(duì)象112的中心A坐標(biāo)。如此,通過求出測量對(duì)象112的角C1、C2、C3、C4及中心A坐標(biāo)，從而能夠求出測量對(duì)象112的區(qū)域。另外，利用求出測量對(duì)象112的中心A的方法，能夠求出基板110的中心。參照?qǐng)D2及圖6，考慮測量對(duì)象112的高度，將通過對(duì)測量對(duì)象112進(jìn)行測量而獲得的測量對(duì)象112的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面IlOa (S120)。圖7是用于說明將測量對(duì)象的區(qū)域補(bǔ)正為根據(jù)平面方程式的基板面的過程的概念圖。參照?qǐng)D7，測量對(duì)象112的區(qū)域，即，求出測量對(duì)象112的角和中心的坐標(biāo)后，將其轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面110a。此時(shí)，此時(shí)，實(shí)質(zhì)上作為檢查的基準(zhǔn)的測量對(duì)象112的區(qū)域應(yīng)為與基板110相接觸的測量對(duì)象112的底面，但實(shí)際被測量的測量對(duì)象112的區(qū)域是在成像部140能夠觀察到的測量對(duì)象112的頂面。由此，在具有一定高度的測量對(duì)象112傾斜的情況下，根據(jù)測量對(duì)象112的高度，頂面和底面之間會(huì)出現(xiàn)區(qū)域位置的偏移，有必要考慮測量對(duì)象112的高度，對(duì)投影于基板面IlOa的測量對(duì)象112的區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)正。為了補(bǔ)正投影于基板面IlOa的測量對(duì)象112的區(qū)域，對(duì)于測量對(duì)象112的區(qū)域中的任意一個(gè)點(diǎn)(例如，中心點(diǎn))，求出垂直于上述圖像平面140a并連接成像部140上的圖像平面140a與根據(jù)平面方程式的基板面IlOa的直線I上的一點(diǎn)A2到基板面IlOa的垂直距離對(duì)應(yīng)于測量對(duì)象112的高度k的基板面IlOa上的一點(diǎn)A3。其中，直線I上的一點(diǎn)A2表示測量對(duì)象112的頂面的一個(gè)點(diǎn),基板面IlOa上的一點(diǎn)A3表示測量對(duì)象112的底面的一個(gè)點(diǎn)。通過將這種一系列過程應(yīng)用于測量對(duì)象112的中心及角，能夠?qū)y量對(duì)象112的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面110a。圖8是用于說明將根據(jù)平面方程式的基板面與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面匹配一致的過程的概念圖。參照?qǐng)D2及圖8，將測量對(duì)象112的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面IlOa后，能夠?qū)⒏鶕?jù)平面方程式的基板面IlOa與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面IlOb匹配一致。作為上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)，能夠使用包含著對(duì)基板110的基本信息的CAD數(shù)據(jù)。除此之外，作為上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)，還能夠使用印刷電路板制造所需的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)或制造數(shù)據(jù)、Gerber數(shù)據(jù)、印刷電路板設(shè)計(jì)文件、提取自印刷電路板設(shè)計(jì)文件的標(biāo)準(zhǔn)及非標(biāo)準(zhǔn)形式的各種數(shù)據(jù)(ODB++或各CAD設(shè)計(jì)工具的提取文件)，并且，還能夠使用從對(duì)作業(yè)用裸板(Bare board)或安裝板通過攝像機(jī)獲取的圖像文件中獲取的信息等。上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)包含著在基板110上形成的測量對(duì)象112、識(shí)別標(biāo)志114等的位置信息。為了匹配一致根據(jù)平面方程式的基板面IlOa與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面110b，例如，分別求出根據(jù)平面方程式的對(duì)基板面IlOa的第一識(shí)別標(biāo)志114a與第二識(shí)別標(biāo)志114b的連接線的第一中心E1、根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的對(duì)基板面IlOb的第一識(shí)別標(biāo)志114a與第二識(shí)別標(biāo)志114b的連接線的第二中心E2，將第一中心El與第二中心E2匹配一致。接著，將根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面IlOb的第一識(shí)別標(biāo)志114a與第二識(shí)別標(biāo)志114b的連接線與根據(jù)平面方程式的基板面IlOa的第一識(shí)別標(biāo)志114a與第二識(shí)別標(biāo)志114b的連接線匹配一致。即，對(duì)于各個(gè)基板面110a、110b，設(shè)置沿著連接識(shí)別標(biāo)志的直線與識(shí)別標(biāo)志的中心E1、E2相距一定距離的向量Vl、V2，將兩個(gè)向量Vl、V2的端點(diǎn)匹配一致，從而匹配一致根據(jù)平面方程式的基板面IlOa與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面110b。圖9是用于說明測量對(duì)象檢查過程的概念圖。參照?qǐng)D2及圖9，將根據(jù)平面方程式的基板面IlOa與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面IlOb匹配一致后，基于根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象112a的區(qū)域與轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面IlOa的測量對(duì)象112b的區(qū)域，檢查測量對(duì)象112(S130)。為此，計(jì)算出基準(zhǔn)數(shù)據(jù)上的測量對(duì)象112a的坐標(biāo)與平面方程式上的測量對(duì)象112b的坐標(biāo)之間的變換式(transform)，算出平面方程式上的測量對(duì)象112b，S卩，測量數(shù)據(jù)上的測量對(duì)象112b的偏移量。測量對(duì)象112b的偏移量是表示相比于基準(zhǔn)數(shù)據(jù)上的測量對(duì)象112a的測量數(shù)據(jù)上的測量對(duì)象112的姿勢偏斜程度的值，能夠包含在相當(dāng)于X軸方向的偏移的第一偏移dX、相當(dāng)于Y軸方向的偏移的第二偏移dY、相當(dāng)于偏斜角度的第三偏移0及相當(dāng)于角的間距的第四偏移WCC中的至少一種以上。第一偏移dX表示根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象112a中心Al與根據(jù)平面方程式的測量對(duì)象112b的中心A2之間的X軸方向上的距離差。第二偏移dY表示根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象112a中心Al與根據(jù)平面方程式的測量對(duì)象112b的中心A2之間的Y軸方向上的距離差。第三偏移0表示相對(duì)于根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象112a，根據(jù)平面方程式的測量對(duì)象112b的偏斜角度。第四偏移WCC表示根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象112a的四角與根據(jù)平面方程式的測量對(duì)象112b的四角之間的間距。例如，在圖9中，在四角之間的間距WCC1、WCC2、WCC3、WCC4中，間距最大的WCC能夠計(jì)算為第四偏移WCC。如此，通過補(bǔ)正測量數(shù)據(jù)的因相對(duì)于成像部的圖像平面的測量基板面的傾斜度以及測量對(duì)象的高度導(dǎo)致的區(qū)域誤差，基于補(bǔ)正的測量數(shù)據(jù)檢查測量對(duì)象，能夠提高測量數(shù)據(jù)的可靠性和準(zhǔn)確性。另外，在利用莫爾測量方式的基板檢查裝置中，以存儲(chǔ)于裝置內(nèi)的基準(zhǔn)面為準(zhǔn)，測量測量對(duì)象112的高度。但在實(shí)質(zhì)上的基準(zhǔn)面相對(duì)于成像部140的圖像平面而呈傾斜狀的情況下，會(huì)發(fā)生測量數(shù)據(jù)的失真，在測量測量對(duì)象的高度之前，有必要重新設(shè)定裝置的實(shí)際基準(zhǔn)面。即，獲取相對(duì)于成像部的圖像平面而平行的理想的基準(zhǔn)平面與測量的基準(zhǔn)平面之間的相對(duì)誤差，將上述獲取的誤差值設(shè)定為補(bǔ)償數(shù)據(jù)。圖10是表示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基準(zhǔn)面補(bǔ)正方法的流程圖，圖11是用于說明根據(jù)圖10的基準(zhǔn)面補(bǔ)正方法的概念圖，圖12是表示根據(jù)圖10的第二試片的立體圖。參照?qǐng)D1、圖10、圖11及圖12，為了補(bǔ)正基準(zhǔn)面，首先，將用于基準(zhǔn)位相測量的基板(第一試片)設(shè)置于成像部140的測量區(qū)域后，測量上述用于基準(zhǔn)位相測量的對(duì)基板的基準(zhǔn)位相(S300)。例如，上述用于基準(zhǔn)位相測量的基板的位相能夠利用投影部120，通過位相測量輪廓術(shù)(Phase Measurement Profilometry:PMP)進(jìn)行測量。接著，獲得上述測量的基準(zhǔn)位相的基準(zhǔn)面相對(duì)于成像部140的圖像平面的傾斜姿勢(S310)。為了獲得上述測量的基準(zhǔn)位相的傾斜姿勢，將用于姿勢信息測量的基板(第二試片)設(shè)置于成像部140的測量區(qū)域后，通過成像部140測量上述用于姿勢信息測量的基板，獲得上述用于姿勢信息測量的基板的基板面。作為一實(shí)施例，如圖8所示，上述用于姿勢信息測量的基板能夠使用為了確認(rèn)傾斜姿勢而形成有多個(gè)識(shí)別標(biāo)志410的基板400。用于姿勢信息測量的基板400的基板面，通過測量在用于姿勢信息測量的基板400上形成的識(shí)別標(biāo)志410之間的長度，由此計(jì)算并獲取用于姿勢信息測量的基板400的傾斜姿勢。例如，識(shí)別標(biāo)志410的X、Y坐標(biāo)從在成像部140中通過照明部130的光照射而拍攝的測量圖像中獲得，識(shí)別標(biāo)志410的Z坐標(biāo)通過測量識(shí)別標(biāo)志410之間的長度而獲得。即，通過比較測量的識(shí)別標(biāo)志410之間的長度與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)(例如，CAD數(shù)據(jù))已知的識(shí)別標(biāo)志410之間的長度，算出傾斜角度，從而獲得識(shí)別標(biāo)志410的相對(duì)高度。另外，為了判斷傾斜角度的正負(fù)，用于姿勢信息測量的基板400能夠包含在中央部以一定高度突出的突出部420。根據(jù)用于姿勢信息測量的基板400的傾斜度的正負(fù)情況，在成像部140拍攝的突出部420的形態(tài)發(fā)生變化，通過突出部420的測量影像，能夠判斷用于姿勢信息測量的基板400的傾斜角度的正負(fù)狀態(tài)。利用以上述方式獲得的用于姿勢信息測量的基板400的傾斜姿勢，生成平面方程式，通過上述平面方程式求出用于姿勢信息測量的基板400的基板面，從而能夠獲得相對(duì)于圖像平面的用于姿勢信息測量的基板400的傾斜姿勢與距離理想的基準(zhǔn)面的高度Z4。另外，上述理想的基準(zhǔn)面是平行于上述圖像平面的已設(shè)定的平面，作為一實(shí)施例，能夠以上述測量的識(shí)別標(biāo)志410中的一個(gè)高度值為準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)定。與此不同地，用于姿勢信息測量的基板400的基板面能夠通過表示用于姿勢信息測量的基板400的傾斜姿勢的平面方程式而獲得，例如，上述平面方程式能夠通過測量用于姿勢信息測量的基板400的任意3點(diǎn)的位置而求出，作為一例，通過激光(未圖示)能夠獲得至少3個(gè)以上的識(shí)別標(biāo)志410的Z坐標(biāo)。利用以上述方式獲得的至少3個(gè)以上的識(shí)別標(biāo)志410的X、Y、Z坐標(biāo)，生成平面方程式，通過上述平面方程式求出用于姿勢信息測量的基板400的基板面，從而獲得相對(duì)于與圖像平面平行的理想的基準(zhǔn)面的用于姿勢信息測量的基板400的傾斜姿勢與距離理想的基準(zhǔn)面的高度TA。接著，測量用于姿勢信息測量的基板400的位相，基于上述基準(zhǔn)位相，獲得高度ZU Z2。用于姿勢信息測量的基板400的位相能夠利用投影部120并通過位相測量輪廓術(shù)(Phase Measurement Prof ilometry:PMP)進(jìn)行測量。接著，比較用于姿勢信息測量的基板400的基板面與用于姿勢信息測量的基板400的高度，獲得上述測量的基準(zhǔn)位相的基準(zhǔn)面的傾斜姿勢。作為一實(shí)施例，從與成像部140的圖像平面平行的已設(shè)定的理想的基準(zhǔn)面，算出用于姿勢信息測量的基板400的基板面的高度Z4，基于上述基板面的高度TA與用于姿勢信息測量的基板400，獲得上述基準(zhǔn)位相的基準(zhǔn)面的傾斜姿勢。接著，基于上述基準(zhǔn)位相的基準(zhǔn)面的傾斜姿勢，算出對(duì)于成像部140需要進(jìn)行基準(zhǔn)面的補(bǔ)正的高度Z3 (S320)。例如，從理想的基準(zhǔn)面到用于姿勢信息測量的基板400的基板面的高度Z4中，減去通過位相測量輪廓術(shù)獲得的用于姿勢信息測量的基板400的高度Z2，從而得出基準(zhǔn)面的補(bǔ)正所需高度Z3，進(jìn)而掌握相當(dāng)于實(shí)際基準(zhǔn)面的補(bǔ)正基準(zhǔn)面的姿勢。作為一實(shí)施例，上述基準(zhǔn)面的補(bǔ)正所需的高度Z3，能夠分別掌握多個(gè)投影部。另外，上述用于基準(zhǔn)位相測量的基板(第一試片)與上述用于姿勢信息測量的基板(第二試片)能夠由物理層面相互獨(dú)立的基板形成，同時(shí)，還能夠由包含著上述用于基準(zhǔn)位相測量的功能與上述用于姿勢信息測量的功能的一個(gè)基板形成。如上所述，在測量測量對(duì)象112的高度之前，通過補(bǔ)正作為測量對(duì)象112的高度測量的基準(zhǔn)的基準(zhǔn)面，能夠進(jìn)一步提高測量對(duì)象的測量可靠性。另外，在對(duì)裝配有測量對(duì)象112的基板110進(jìn)行檢查時(shí)，因安裝于基板檢查裝置100內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)本身所具有的失真，將導(dǎo)致測量數(shù)據(jù)的失真。所以，在測量測量對(duì)象112之前，通過補(bǔ)正基板檢查裝置100所具有的系統(tǒng)性失真，進(jìn)一步提高測量數(shù)據(jù)的可靠性。圖13是表示圖1所示的成像部的校準(zhǔn)方法的流程圖，圖14是表示校準(zhǔn)基板的立體圖。參照?qǐng)D1、圖13及圖14，根據(jù)成像部140的校準(zhǔn)方法，測量在校準(zhǔn)基板200上形成的多個(gè)圖案210的長度，基于在上述校準(zhǔn)基板200的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)中的多個(gè)圖案210的長度信息與上述測量的多個(gè)圖案210的長度，校準(zhǔn)成像部140。此時(shí)，校準(zhǔn)基板200可能與成像部140的圖像平面不平行而呈傾斜狀。因此，有必要補(bǔ)正因上述圖像平面與校準(zhǔn)基板200的傾斜姿勢導(dǎo)致的上述多個(gè)圖案210的長度信息誤差。為了補(bǔ)正因校準(zhǔn)基板200的傾斜導(dǎo)致的誤差，通過包含攝像頭142及成像鏡頭144的成像部140，拍攝形成有多個(gè)圖案210的校準(zhǔn)基板200并獲取圖像(S400)。此時(shí)，上述成像鏡頭144能夠包含球面鏡頭，作為一例，上述球面鏡頭能夠包含僅透射與光軸平行的光以使Z軸下的圖像失真最小化的遠(yuǎn)心鏡頭(telecentric lens)。接著，從通過成像部140獲得的圖像中，獲得多個(gè)圖案210之間的長度信息(S410)。例如，以多個(gè)圖案210中的一個(gè)圖案210a為準(zhǔn)，計(jì)算與其他圖案的X軸方向上的間距或Y方向上的間距，從而獲取圖案210之間的長度信息。另外，獨(dú)立于基板檢查裝置100從通過成像部140獲取的圖像中獲得多個(gè)圖案210之間的長度信息的過程，讀取校準(zhǔn)基板200的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)(例如，CAD數(shù)據(jù))(S420)。上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)中包含圖案210之間的長度信息。接著，利用與通過成像部140獲得的多個(gè)圖案210之間的長度信息相對(duì)應(yīng)的在上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)中的多個(gè)圖案210之間的長度信息，獲得能夠表示校準(zhǔn)基板200的傾斜姿勢的姿勢信息(S430)。其中，校準(zhǔn)基板200的傾斜姿勢表示相對(duì)于成像部140的圖像平面的姿勢。例如，比較通過成像部140獲得的圖案210之間的長度信息與通過對(duì)校準(zhǔn)基板200的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)(例如，CAD數(shù)據(jù))而事先已知的圖案210之間的長度信息，算出校準(zhǔn)基板200的傾斜角度。另外，對(duì)于校準(zhǔn)基板200的多個(gè)不同姿勢，測量至少2次以上，以上述測量的距離的平均值，校準(zhǔn)成像部140。即，對(duì)校準(zhǔn)基板200的姿勢和位置進(jìn)行各種變化，獲得多個(gè)圖案210之間的長度信息，分別比較與上述多個(gè)圖案210之間的長度信息相對(duì)應(yīng)的對(duì)校準(zhǔn)基板200的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)，基于在上述比較結(jié)果中誤差最小的姿勢信息或上述比較結(jié)果的平均姿勢信息中的其中一種，算出校準(zhǔn)基板200的基板面和與成像部140的圖像平面的相對(duì)傾斜角度。另外，在獲取校準(zhǔn)基板200的姿勢信息時(shí)，通過比較由成像部140測量的圖案210中的至少2個(gè)圖案的大小，能夠判斷校準(zhǔn)基板200的傾斜度的正負(fù)情況。此時(shí)，優(yōu)選地，比較位于對(duì)角線方向的距離較遠(yuǎn)的2個(gè)圖案210的大小。接著，利用校準(zhǔn)基板200的上述姿勢信息與事先已知的校準(zhǔn)基板200的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)，校準(zhǔn)成像部140 (S440)。例如，將上述姿勢信息及基準(zhǔn)數(shù)據(jù)代入以公式化定義成像部140的特性的成像部矩陣方程式，對(duì)相當(dāng)于未知數(shù)的成像部140的焦點(diǎn)距離信息及/或倍率信息等的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)。此時(shí)，為了提高上述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)的精確度，對(duì)于校準(zhǔn)基板200的多種姿勢，測量至少2次以上，利用獲得的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)的平均值，進(jìn)行成像部140的校準(zhǔn)。如上所述，考慮校準(zhǔn)基板200的姿勢信息，執(zhí)行成像部140的校準(zhǔn)，并將其用于測量對(duì)象的測量，從而提高測量精確度。圖15是表示設(shè)于基板檢查裝置的非球面鏡頭的補(bǔ)正方法的流程圖。參照?qǐng)D1及圖15，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板檢查裝置100，利用包含著設(shè)于成像部140內(nèi)的成像鏡頭(例如，遠(yuǎn)心鏡頭)144與安裝于成像部140下部的分束器150 (分束器為非球面鏡頭的一種)的光學(xué)系統(tǒng)，測量測量對(duì)象的三維形狀。此時(shí)，由于上述光學(xué)系統(tǒng)本身所具有的非均勻性，成像的圖像上可能出現(xiàn)失真。因此，有必要補(bǔ)償因上述光學(xué)系統(tǒng)導(dǎo)致的失真。另外，上述光學(xué)系統(tǒng)能夠包含球面鏡頭和非球面鏡頭，根據(jù)球面鏡頭的誤差，通常具有規(guī)則性的失真，而非球面鏡頭則可能具有不規(guī)則性失真。因此，在補(bǔ)償上述光學(xué)系統(tǒng)的誤差時(shí)，或者對(duì)球面鏡頭和非球面鏡頭進(jìn)行整體的失真補(bǔ)償，或者對(duì)球面鏡頭和非球面鏡頭分別進(jìn)行失真補(bǔ)償。在根據(jù)一實(shí)施例的基板檢查裝置100中，成像鏡頭144包含球面鏡頭，因球面鏡頭本身所具有的不均勻性，可能出現(xiàn)拍攝影像的失真。因此，在對(duì)測量對(duì)象112進(jìn)行測量之前，出于對(duì)設(shè)于基板檢查裝置100的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行補(bǔ)正的目的，補(bǔ)償因包含球面鏡頭的成像鏡頭144的不均勻性導(dǎo)致的失真進(jìn)行補(bǔ)償。上述球面鏡頭的補(bǔ)償方法屬于通常已知的公開技術(shù)，在此省略對(duì)其詳細(xì)說明。另外，有必要對(duì)在設(shè)于基板檢查裝置100的光學(xué)系統(tǒng)中的因非球面鏡頭導(dǎo)致的失真進(jìn)行補(bǔ)償。作為一實(shí)施例，上述非球面鏡頭能夠是分束器150。作為一實(shí)施例，分束器150能夠呈板狀，具有雙面形成有涂層的結(jié)構(gòu)。這種分束器150能夠在不同的區(qū)域中具有不同的折射率，因此，可能導(dǎo)致拍攝影像的失真。圖16是用于說明對(duì)因非球面鏡頭導(dǎo)致的失真進(jìn)行補(bǔ)償?shù)姆椒ǖ母拍顖D。參照?qǐng)D1、圖15及圖16，為了補(bǔ)償因非球面鏡頭的不均勻性導(dǎo)致的失真，通過成像部140拍攝形成有多個(gè)圖案310的基板300，獲取基板300的圖像(S500)。接著，將在成像部140中拍攝的基板300的圖像區(qū)分為多個(gè)子區(qū)域320，在各個(gè)子區(qū)域320中分別應(yīng)用不同的補(bǔ)償條件而補(bǔ)償失真(S510)。例如，基板300的圖像能夠被區(qū)分為網(wǎng)格狀的子區(qū)域320。關(guān)于應(yīng)用于各個(gè)子區(qū)域320的補(bǔ)償條件，能夠利用分別對(duì)應(yīng)于包含在子區(qū)域320的多個(gè)圖案310的各圖案補(bǔ)償值，專門應(yīng)用于各子區(qū)域320。例如，比較有關(guān)基板300的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)(例如，CAD數(shù)據(jù))上的圖案310的位置與拍攝圖像上的圖案310的位置，計(jì)算出對(duì)應(yīng)于各個(gè)圖案310的誤差值(即，需要進(jìn)行補(bǔ)償?shù)难a(bǔ)償值)后，選擇包含在各個(gè)子區(qū)域320的圖案310的各圖案補(bǔ)償值的最小誤差值或者各圖案補(bǔ)償值的平均值，將其作為相應(yīng)子區(qū)域320的補(bǔ)償條件完成設(shè)定。另外，對(duì)于不同形態(tài)的子區(qū)域320執(zhí)行多次失真補(bǔ)償后，基于所獲得的多個(gè)補(bǔ)償數(shù)據(jù)，確定最優(yōu)化的子區(qū)域320的形態(tài)。例如，使網(wǎng)格狀的子區(qū)域320的大小變大或變小，嘗試對(duì)不同大小的子區(qū)域320應(yīng)用專門的補(bǔ)償條件，基于上述結(jié)果，選擇失真量最小的子區(qū)域320的形態(tài)，從而實(shí)現(xiàn)子區(qū)域320的最優(yōu)化。并且，在對(duì)子區(qū)域320進(jìn)行失真補(bǔ)償時(shí)，通過應(yīng)用前述參照?qǐng)D13及圖14說明的在
成像部140的校準(zhǔn)過程中獲得的姿勢信息，能夠進(jìn)一步精確地執(zhí)行對(duì)非球面鏡頭的失真補(bǔ)m
\-ZX o如上所述，通過在實(shí)際測量之前對(duì)因設(shè)于基板檢查裝置100內(nèi)的成像部140及分束器150等光學(xué)系統(tǒng)的不均勻性導(dǎo)致的失真進(jìn)行補(bǔ)償，提高對(duì)測量對(duì)象的測量可靠性。另外，關(guān)于全部區(qū)域無法容納于成像部140的視界(Field of View:F0V)的大型基板，除上述方法外，還需要追加工序。圖17是表示根據(jù)本發(fā)明的其他實(shí)施例的基板檢查方法的流程圖，圖18是表示對(duì)大型基板的偏移量測量過程的概念圖。參照?qǐng)D1、圖17及圖18，在通過成像部140無法拍攝形成有測量對(duì)象112的基板整體的大型基板110的情況下，將基板110至少區(qū)分成2個(gè)以上的測量區(qū)域，分別測量各測量區(qū)域，生成在各測量區(qū)域中的對(duì)基板110的平面方程式(S200)。例如，將基板110區(qū)分為第一測量區(qū)域Rl及第二測量區(qū)域R2進(jìn)行測量后，分別對(duì)應(yīng)于各個(gè)測量區(qū)域，生成2個(gè)平面方程式。此時(shí)，優(yōu)選地，第一測量區(qū)域Rl及第二測量區(qū)域R2內(nèi)包含測量對(duì)象112的整體區(qū)域。另外，對(duì)各測量區(qū)域R1、R2的平面方程式的生成方法與前述參照?qǐng)D4說明的方法相同，在此省略重復(fù)說明。通過以上述方法生成的2個(gè)平面方程式，能夠求出在各測量區(qū)域R1、R2中的對(duì)基板110的基板面110a、110b。接著，求出在各測量區(qū)域Rl、R2中測量的測量對(duì)象112的區(qū)域(S210)。測量對(duì)象112的區(qū)域，S卩，角與中心坐標(biāo)的求出方法與前述參照?qǐng)D5及圖6說明的方法相同，在此省略
重復(fù)說明。接著，將在各測量區(qū)域Rl、R2中求出的測量對(duì)象112的區(qū)域，即，將角與中心的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為對(duì)各測量區(qū)域Rl、R2的根據(jù)平面方程式的基板面IlOaUlOb (S220)。將測量對(duì)象112的區(qū)域轉(zhuǎn)換為基板面IlOaUlOb的方法與前述參照?qǐng)D7說明的方法相同，在此省略
重復(fù)說明。接著，將在多個(gè)測量區(qū)域中獲得的根據(jù)平面方程式的基板面IlOaUlOb匹配一致為同一平面(S230)。在匹配一致基板面IlOaUlOb時(shí)，能夠以各測量區(qū)域Rl、R2的共同區(qū)域及測量對(duì)象112的區(qū)域中的至少一種為準(zhǔn)進(jìn)行匹配。例如，將在第一區(qū)域Rl中獲得的基板面IlOa上的測量對(duì)象112的4個(gè)角Cl、C2、C3、C4坐標(biāo)與在第二區(qū)域R2中獲得的基板面IlOb上的測量對(duì)象112的4個(gè)角C5、C6、C7、C8坐標(biāo)匹配一致，并生成一個(gè)基板面。接著，能夠?qū)⒁酝黄矫嫫ヅ涞幕迕媾c根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面匹配一致。將以同一平面匹配的基板面與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面匹配一致的方法與前述參照?qǐng)D8說明的方法相同，在此省略重復(fù)說明。接著，基于根據(jù)以同一平面匹配一致的基板面的測量對(duì)象112的區(qū)域與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象112的區(qū)域，檢查測量對(duì)象112 (S240)。測量對(duì)象112檢查方法與前述參照?qǐng)D9說明的方法相同，在此省略重復(fù)說明。如上所述，在通過成像部140無法拍攝形成有測量對(duì)象的基板整體的大型基板的情況下，區(qū)分成2個(gè)測量區(qū)域進(jìn)行測量后，以測量對(duì)象的區(qū)域?yàn)闇?zhǔn)，將在各個(gè)測量區(qū)域中測量的基板面在空間上進(jìn)行匹配并生成一個(gè)基板面，從而能夠正確地執(zhí)行對(duì)大型基板的測量對(duì)象的檢查。在如前所述的本發(fā)明的詳細(xì)說明中，參照了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行了說明，但本領(lǐng)域從業(yè)人員或本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)能夠理解在不脫離根據(jù)權(quán)利要求書的本發(fā)明的思想及技術(shù)領(lǐng)域的范圍內(nèi)能夠?qū)Ρ景l(fā)明進(jìn)行各種修改及變更。
權(quán)利要求
1.一種基板檢查方法，其包括: 通過成像部測量形成有測量對(duì)象的基板，生成對(duì)上述基板的平面方程式的步驟； 求出在上述被測量的基板上形成的測量對(duì)象的區(qū)域的步驟； 考慮上述測量對(duì)象的高度，將上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟；以及 基于轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查上述測量對(duì)象的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，在上述生成平面方程式的步驟中，通過測量在上述基板上形成的識(shí)別標(biāo)志之間的長度，生成上述平面方程式。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，在上述生成平面方程式的步驟中，通過利用激光測量上述基板，生成上述平面方程式。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，在上述生成平面方程式的步驟中，通過莫爾測量方法測量上述基板，生成上述平面方程式。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，在上述求出測量對(duì)象的區(qū)域的步驟中，包括求出對(duì)應(yīng)于上述測量對(duì)象的4邊的4條直線并使得在上述測量對(duì)象的4邊中相對(duì)的2邊能夠保持平行的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，在考慮上述測量對(duì)象的高度將上述測量對(duì)象的區(qū)域根據(jù)上述平面方程式轉(zhuǎn)換為基板面的步驟中，對(duì)于在上述測量對(duì)象的區(qū)域中的至少一個(gè)點(diǎn)，求出連接成像部的圖像平面與根據(jù)上述平面方程式的基板面的直線上的一點(diǎn)到上述基板面的垂直距離對(duì)應(yīng)于上述測量對(duì)象的高度的上述基板面上的一點(diǎn)，并將上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述`平面方程式的基板面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，還包括: 將根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線的中心與根據(jù)上述平面方程式的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線的中心匹配一致的步驟；以及 將根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線與根據(jù)上述平面方程式的基板面的識(shí)別標(biāo)志連接線匹配一致的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，在上述測量對(duì)象的檢查中，對(duì)相當(dāng)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的中心與根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的中心之間的X軸方向上的偏移的第一偏移、相當(dāng)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的中心與根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的中心之間的Y軸方向上的偏移的第二偏移、相當(dāng)于相對(duì)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的偏斜角度的第三偏移以及相當(dāng)于根據(jù)上述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的四個(gè)角與根據(jù)上述平面方程式的測量對(duì)象的四個(gè)角之間的間距的第四偏移中的至少一種進(jìn)行檢查。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，通過設(shè)有遠(yuǎn)心鏡頭的成像部，對(duì)上述基板進(jìn)行測量。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查方法，其特征在于，還包括: 在測量形成有上述測量對(duì)象的基板之前，對(duì)作為高度測量基準(zhǔn)的基準(zhǔn)面進(jìn)行補(bǔ)正的步驟。
11.一種基板檢查方法，其包括:測量形成有測量對(duì)象的基板，生成對(duì)上述基板的平面方程式的步驟； 求出在上述基板上形成的測量對(duì)象的區(qū)域的步驟； 將上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟； 將根據(jù)上述平面方程式的基板面與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的基板面匹配一致的步驟；以及基于根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域與轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查上述測量對(duì)象的步驟。
12.—種基板檢查方法,其包括: 通過成像部將形成有測量對(duì)象的基板整體區(qū)分為至少2個(gè)以上的測量區(qū)域，分別測量各個(gè)測量區(qū)域，生成對(duì)在各個(gè)測量區(qū)域中的上述基板的平面方程式的步驟； 求出在各個(gè)測量區(qū)域中測量的測量對(duì)象的區(qū)域的步驟； 將在各個(gè)測量區(qū)域中求 出的上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為對(duì)各個(gè)測量區(qū)域的根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟； 在多個(gè)測量區(qū)域中獲取的根據(jù)上述平面方程式的基板面匹配一致為同一平面的步驟；以及 基于根據(jù)上述以同一平面匹配一致的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域與根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查上述測量對(duì)象的步驟。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板檢查方法，其特征在于，在將從多個(gè)測量區(qū)域中獲取的根據(jù)上述平面方程式的基板面匹配一致為同一平面的步驟中，以上述各個(gè)測量區(qū)域的共同區(qū)域及上述測量對(duì)象的區(qū)域中的至少一種為準(zhǔn)進(jìn)行匹配。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板檢查方法，其特征在于，在將從各個(gè)測量區(qū)域中求出的上述測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為對(duì)各個(gè)測量區(qū)域的根據(jù)上述平面方程式的基板面的步驟中，考慮上述測量對(duì)象的高度，轉(zhuǎn)換為根據(jù)上述平面方程式的基板面。
全文摘要
本發(fā)明涉及形成有測量對(duì)象的基板檢查方法，根據(jù)本發(fā)明，測量形成有測量對(duì)象的基板并生成對(duì)基板的平面方程式，求出在基板上形成的測量對(duì)象的區(qū)域。接著，考慮測量對(duì)象的高度，將測量對(duì)象的區(qū)域轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面。接著，基于轉(zhuǎn)換為根據(jù)平面方程式的基板面的測量對(duì)象的區(qū)域和根據(jù)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的測量對(duì)象的區(qū)域，檢查測量對(duì)象。如此，根據(jù)形成有測量對(duì)象的基板的傾斜姿勢，求出測量對(duì)象的偏移量，由此補(bǔ)償測量數(shù)據(jù)的失真，進(jìn)而提高測量數(shù)據(jù)的可靠性。
文檔編號(hào)G01N21/93GK103201617SQ201180048854
公開日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2011年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月14日
發(fā)明者李賢基, 權(quán)達(dá)顏, 全廷悅 申請(qǐng)人:株式會(huì)社高永科技