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輻射場均勻性校驗定位裝置的制作方法

文檔序號:5945311閱讀:301來源:國知局
專利名稱:輻射場均勻性校驗定位裝置的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及電磁兼容試驗技術,特別涉及一種輻射場均勻性校驗定位裝置,用于進行電磁兼容試驗用電波暗室的特性參數測量。
背景技術
國際電工委員會電磁兼容標準IEC61000-4-3中規(guī)定了 16點場均勻性校驗的要求在一定功率的電磁波入射條件下,在圖I所示的空間平面內均勻分布的16個位置點中的12個位置點上,任意兩位置點采用電場探頭測得的場強差應小于6分貝。常見的輻射場均勻性校驗定位裝置,為單棒狀,包括垂直連桿、電場探頭,電場探頭設置在垂直連桿上并能沿垂直連桿滑動,常見的輻射場均勻性校驗定位裝置在進行輻射場均勻性校驗時,會遇到以下問題(I)常見的輻射場均勻性校驗定位裝置,電場探頭只能在垂直方向上進行上下調節(jié),是一維的定位裝置,要改變電場探頭水平位置時,需要將裝置進行整體搬移,重新測量定位,使得定位操作繁瑣,而且不能保證多個水平位置的場強探頭處在一個平面上,從而會導致測量結果的重復性變差;(2)常見的輻射場均勻性校驗定位裝置,垂直連桿一般使用介電常數較低的材質, 如PVC(Poly Vinyl Chloride,聚氯乙烯)、膠木、木頭等絕緣材料等,同時為了滿足強度要求垂直連桿通常較粗。當試驗環(huán)境中的頻率較高(如在IGHz以上)時,電磁波入射和反射的疊加效應導致較粗的垂直連桿周圍的局部場強不均勻,由于常見的輻射場均勻性校驗定位裝置的電場探頭設置在垂直連桿上,電場探頭距離垂直連桿很近,所以常見的輻射場均勻性校驗定位裝置的各電場探頭不能準確反映所在位置的實際場強,使測量不確定度增加,影響測量結果。

發(fā)明內容
本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種輻射場均勻性校驗定位裝置,能提高提高輻射場均勻性測試結果的準確性,并提高輻射場均勻性校驗定位操作的效率、準確性。為解決上述技術問題,本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置,包括垂直連桿、底板、水平連桿、水平套筒;所述垂直連桿,底端固定在所述底板上;所述水平套筒,套設在所述垂直連桿外部,能沿所述垂直連桿軸向滑動;所述水平套筒和/或所述垂直連桿上設置有軸向定位機構,用于所述水平套筒在所述垂直連桿軸向上固定;所述水平連桿,一端固定在所述水平套筒上并垂直于所述垂直連桿,另一端用于固定電場探頭;所述水平連桿的橫截面積比所述垂直連桿的橫截面積小。輻射場均勻性校驗定位裝置,還可以包括多個底座套筒;
多個底座套筒呈直線固定在所述底板上,各個底座套筒的軸線垂直于所述底板, 相鄰兩個底座套筒軸線間的距離相等;所述垂直連桿底端可拆卸地容置固定在其中一個底座套筒內;所述電場探頭到所述垂直連桿軸線的距離等于相鄰兩個底座套筒軸線間的距離。所述水平套筒,并能沿所述垂直連桿周向轉動;所述水平套筒和/或所述垂直連桿上并設置有周向定位機構,用于所述水平套筒在所述垂直連桿周向上固定。所述水平連桿,另一端可以設置有螺孔;所述電場探頭,固定在一與所述螺孔相適配的螺桿上,電場探頭通過所述螺桿螺固定在所述水平連桿的另一端。輻射場均勻性校驗定位裝置,可以包括兩個垂直連桿、兩個底座套筒、兩個水平套筒、底板、一水平連桿、一電場探頭;所述兩個底座套筒,分別固定在所述底板上,底座套筒的軸線垂直于所述底板;所述兩個垂直連桿,底端分別容置固定在所述兩個底座套筒內;所述兩個水平套筒,分別套設在所述兩個垂直連桿外部,能分別沿所套垂直連桿軸向滑動;所述水平連桿,兩端分別固定在所述兩個水平套筒上,電場探頭套設在所述水平連桿上,能沿所述水平連桿軸向滑動。所述水平連桿、垂直連桿可以采用POM或PVC材料。一水平套筒與一水平連桿組成一電場探測單元,一垂直連桿上可以設置多個電場探測單元。所述垂直連桿可以為多段,多段垂直連桿通過垂直套筒可拆卸地連接固定構成整個垂直連桿。本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置,電場探頭可以在水平及垂直二維方向上變換位置,在初次測量時進行輻射場均勻性校驗關鍵位置點的標定后,在后續(xù)的測試中通過對電場探頭在二維方向上進行位置變動,即可完成輻射場均勻性校驗其他多個位置點的定位操作,可以大大提高輻射場均勻性校驗定位操作的效率、準確性和重復性,簡化校驗作業(yè)流程。本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置,電場探頭通過橫截面積較小的水平連桿固定到橫截面積較大的垂直連桿上,從而使電場探頭與較粗的垂直連桿保持一定的距離,水平連桿由于較細并且采用介電常數較小材料(如Ρ0Μ,介電常數3. 7),對場強造成的擾動也比較小,從而減小了因定位裝置的結構和材料使測試場強產生擾動對測試結果的準確性的影響。


為了更清楚地說明本發(fā)明的技術方案,下面對本發(fā)明所需要使用的附圖作簡單的介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖I是IEC61000-4-3定義的場均勻區(qū)域示意圖2是本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置實施例一示意圖;圖3是本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置實施例二示意圖;圖4是水平連桿同電場探頭連接固定一實施例示意圖;圖5是本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置實施例三示意圖;圖6是實施例二輻射場均勻性校驗定位裝置的定位操作示意圖;圖7是實施例三輻射場均勻性校驗定位裝置的定位操作示意圖。
具體實施例方式下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完 整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。應當 理解,此處所描述的優(yōu)選實施例僅用于說明和解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。并且在不 沖突的情況下,本發(fā)明中的實施例及實施例中的特征可以相互組合?;诒景l(fā)明中的實施 例,本領域普通技術人員所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。實施例一輻射場均勻性校驗定位裝置,如圖2所示,包括垂直連桿I、底板2、水平連桿3、水 平套筒4 ;所述垂直連桿I,底端固定在所述底板2上;所述水平套筒4,套設在所述垂直連桿I外部,能沿所述垂直連桿I軸向滑動;所述水平套筒4和/或所述垂直連桿I上設置有軸向定位機構(如定位孔、定位 銷等),用于所述水平套筒4在所述垂直連桿I軸向上固定;所述水平連桿3,一端固定在所述水平套筒4上并垂直于所述垂直連桿1,另一端 用于固定電場探頭5;所述水平連桿3的橫截面積比所述垂直連桿I的橫截面積小,所述水平連桿3、垂 直連桿I采用介電常數較小的材料,例如POM(Polyoxymethylene,聚甲醒)、PVC Poly Vinyl Chloride,聚氯乙烯)等。一水平套筒4與一水平連桿3組成一電場探測單元,一垂直連桿I上可以設置一 個或多個電場探測單元。實施例二輻射場均勻性校驗定位裝置如圖3所示,包括垂直連桿I、水平連桿3、水平套筒4、 垂直套筒7、底座套筒6、底板2 ;所述底座套筒6有多個(圖2中為4個),多個底座套筒6呈直線固定在所述底板 2上,各個底座套筒6的軸線垂直于所述底板2,相鄰兩個底座套筒6軸線間的距離相等;所述垂直連桿I底端可拆卸地容置固定在其中一個底座套筒6內;所述垂直連桿I可以為多段(圖3中為兩段),多段垂直連桿I通過垂直套筒7連 接固定構成整個垂直連桿I ;所述電場探頭到所述垂直連桿軸線的距離等于相鄰兩個底座套筒軸線間的距離。所述水平套筒4,套設在所述垂直連桿I外部,能沿所述垂直連桿I軸向滑動,并能 沿所述垂直連桿I周向轉動;所述水平套筒4和/或所述垂直連桿I上設置有軸向定位機構(如定位孔、定位銷等)、周向定位機構(如定位孔、定位銷等),用于所述水平套筒4在所述垂直連桿I軸向及周向上固定;所述水平連桿3,一端固定在所述水平套筒4上并垂直于所述垂直連桿1,所述水平連桿3的橫截面積比所述垂直連桿I的橫截面積??;所述水平連桿3,另一端設置有螺31孔,如圖4所示;所述電場探頭5,固定在一與所述螺孔31相適配的螺桿32上,電場探頭5通過所述螺桿32螺固定在所述水平連桿3的另一端,如圖4所示,電場探頭5到所述垂直連桿I 軸線的距離等于相鄰兩個底座套筒軸線間的距離。實施例3輻射場均勻性校驗定位裝置如圖5所示,包括兩個垂直連桿I、兩個底座套筒6、兩個水平套筒4、底板2、一水平連桿3、一電場探頭5 ;所述兩個底座套筒4,分別固定在所述底板2上,底座套筒2的軸線垂直于所述底板2 ;所述兩個垂直連桿I,底端分別容置固定在所述兩個底座套筒4內;所述垂直連桿I可以為多段(圖5中為兩段),多段垂直連桿通過垂直套筒6連接固定構成整個垂直連桿I ;所述兩個水平套筒4,分別套設在所述兩個垂直連桿I外部,能分別沿所套垂直連桿I軸向滑動;所述水平套筒4和/或所述垂直連桿I上設置有軸向定位機構(如定位孔、定位銷等),用于所述水平套筒4在所套垂直連桿I軸向上固定;所述水平連桿3,兩端分別固定在所述兩個水平套筒4上,所述水平連桿3的橫截面積比所述垂直連桿I的橫截面積?。浑妶鎏筋^5套設在所述水平連桿3上,能沿所述水平連桿3軸向滑動。本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置,電場探頭可以在水平及垂直二維方向上變換位置,在初次測量時進行輻射場均勻性校驗關鍵位置點的標定后,在后續(xù)的測試中通過對電場探頭在二維方向上進行位置變動,即可完成輻射場均勻性校驗其他多個位置點的定位操作,可以大大提高輻射場均勻性校驗定位操作的效率、準確性和重復性,簡化校驗作業(yè)流程。垂直連桿分為多個多段通過套筒進行連接,可以將垂直連桿拆解,方便輻射場均勻性校驗定位裝置的運輸。通過水平連桿在垂直連桿上進行垂直方向上的滑動,調節(jié)水平連桿的垂直高度,使得固定于水平連桿之上的電場探頭可覆蓋垂直方向上的多個(如四個)測試高度;實施例2中,如圖6所示,水平連桿以垂直連桿為中心進行旋轉,將水平連桿旋轉 180度,即可覆蓋水平方向上的兩個測試點;通過將垂直連桿切換于相鄰兩個底座套筒,并結合水平連桿的旋轉,即可覆蓋水平方向上的四個測試點;結合上述水平和垂直方向上的操作,即可覆蓋16個需要測試的位置點Pl P16 ;如果一垂直連桿沿軸線以等間距設置四個電場探測單元,并且間距等于相鄰兩個底座套筒軸線間的距離,則只進行水平方向上的操作即可覆蓋16個需要測試的位置點 Pl P16。
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根據實際需要可以設置三個以上底座套筒,以方便進行大于16點的場均勻性校驗測試。通過調節(jié)螺桿進入到水平連桿末端的螺孔的深度可以對電場探頭的水平位置進行微調,以適應不同尺寸電場探頭的定位要求。實施例3中,采用的是雙垂直連桿配合一根較長的水平連桿的結構,電場探頭套設在水平連桿上并能沿水平連桿軸向滑動,通過水平和垂直方向上的滑動即可完成各位置點定位,而不需要更換底座套筒,如圖7所示。另外,在理論上,定位裝置處于測試區(qū)域的形狀體積越小,裝置材料的介電常數越小,對測試場強帶來的影響也就越小。本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置,電場探頭通過橫截面積較小的水平連桿固定到橫截面積較大的垂直連桿上,從而使電場探頭與較粗的垂直連桿保持一定的距離,水平連桿由于較細并且采用介電常數較小材料(如Ρ0Μ,介電常數
3.7),對場強造成的擾動也比較小,從而減小了因定位裝置的結構和材料使測試場強產生擾動對測試結果的準確性的影響。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內,所做的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發(fā)明保護的范圍之內。
權利要求
1.一種輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,包括垂直連桿、底板、水平連桿、水平套筒;所述垂直連桿,底端固定在所述底板上;所述水平套筒,套設在所述垂直連桿外部,能沿所述垂直連桿軸向滑動;所述水平套筒和/或所述垂直連桿上設置有軸向定位機構,用于所述水平套筒在所述垂直連桿軸向上固定;所述水平連桿,一端固定在所述水平套筒上并垂直于所述垂直連桿,另一端用于固定電場探頭;所述水平連桿的橫截面積比所述垂直連桿的橫截面積小。
2.根據權利要求I所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,輻射場均勻性校驗定位裝置,還包括多個底座套筒;多個底座套筒呈直線固定在所述底板上,各個底座套筒的軸線垂直于所述底板,相鄰兩個底座套筒軸線間的距離相等;所述垂直連桿底端可拆卸地容置固定在其中一個底座套筒內;所述電場探頭到所述垂直連桿軸線的距離等于相鄰兩個底座套筒軸線間的距離。
3.根據權利要求2所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,所述水平套筒,并能沿所述垂直連桿周向轉動;所述水平套筒和/或所述垂直連桿上并設置有周向定位機構,用于所述水平套筒在所述垂直連桿周向上固定。
4.根據權利要求3所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,所述水平連桿,另一端設置有螺孔;所述電場探頭,固定在一與所述螺孔相適配的螺桿上,電場探頭通過所述螺桿螺固定在所述水平連桿的另一端。
5.根據權利要求I所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,輻射場均勻性校驗定位裝置包括兩個垂直連桿、兩個底座套筒、兩個水平套筒、底板、一水平連桿;所述兩個底座套筒,分別固定在所述底板上,底座套筒的軸線垂直于所述底板;所述兩個垂直連桿,底端分別容置固定在所述兩個底座套筒內;所述兩個水平套筒,分別套設在所述兩個垂直連桿外部,能分別沿所套垂直連桿軸向滑動;所述水平連桿,兩端分別固定在所述兩個水平套筒上,電場探頭套設在所述水平連桿上,能沿所述水平連桿軸向滑動。
6.根據權利要求I 5任一項所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,所述水平連桿、垂直連桿采用POM或PVC材料。
7.根據權利要求I 5任一項所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,一水平套筒與一水平連桿組成一電場探測單元,一垂直連桿上設置多個電場探測單元。
8.根據權利要求I 5任一項所述的輻射場均勻性校驗定位裝置,其特征在于,所述垂直連桿為多段,多段垂直連桿通過垂直套筒可拆卸地連接固定構成整個垂直連桿。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種輻射場均勻性校驗定位裝置,其包括垂直連桿、底板、水平連桿、水平套筒;所述垂直連桿,底端固定在所述底板上;所述水平套筒,套設在所述垂直連桿外部,能沿所述垂直連桿軸向滑動;所述水平套筒和/或所述垂直連桿上設置有軸向定位機構,用于所述水平套筒在所述垂直連桿軸向上固定;所述水平連桿,一端固定在所述水平套筒上并垂直于所述垂直連桿,另一端用于固定電場探頭;所述水平連桿的橫截面積比所述垂直連桿的橫截面積小。本發(fā)明的輻射場均勻性校驗定位裝置,能提高提高輻射場均勻性測試結果的準確性,并提高輻射場均勻性校驗定位操作的效率、準確性。
文檔編號G01R35/00GK102608558SQ20121009227
公開日2012年7月25日 申請日期2012年3月31日 優(yōu)先權日2012年3月31日
發(fā)明者張亮, 王暉, 田禾箐, 鄒子英, 陸敏, 馬欣, 龔增 申請人:上海市計量測試技術研究院
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