專利名稱：X射線分析裝置和x射線分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及X射線設(shè)備和X射線分析方法。
背景技術(shù)：
例如手持式X射線熒光(XRF)儀的X射線設(shè)備是公知的，用于這些設(shè)備的各種屏蔽物也是公知的。請參閱美國專利號7, 430，274,7, 375，359,7, 375，358,6, 965，118和7,671,350以及W000/37928，在此通過引用將上述專利文獻全部并入。并請參閱公開的美國申請?zhí)?US-2008-015079。 用于這些設(shè)備的屏蔽物通常連接到設(shè)備的前部(no se)，以保護設(shè)備的用戶免受輻射。輻射極限通常根據(jù)規(guī)章設(shè)定，因管轄區(qū)域不同有所不同。具有低功率X射線管(例如低于4瓦特并且產(chǎn)生大約40keV能量的X射線)的手持式XRF設(shè)備不像ー些エ業(yè)領(lǐng)域使用的帶有較大功率X射線管(例如產(chǎn)生50keV或更高能量的X射線)的設(shè)備那樣關(guān)心是否達到輻射極限。這是由于在管電壓為50kV或更高的情況下，產(chǎn)生的X射線輻射大多在40keV和50keV之間。難以在維持手持式設(shè)備所需的小尺寸和最輕重量的情況下屏蔽這些能量。因而，與較低電壓的便攜式XRF設(shè)備相比，從這些設(shè)備發(fā)射出更多X射線。此外，40keV-50keV的X射線更可能在試樣內(nèi)多次散射，而不是被試樣吸收，然后被導向返回至操作人員。而且，在一些設(shè)備中，X射線管輸出的功率是變化的(例如在40keV和50keV之間)。

發(fā)明內(nèi)容
介紹了在發(fā)射X射線的設(shè)備的尾部上具有外部屏蔽物的一些便攜式XRF設(shè)備。和拿開外部屏蔽物相比，雖然該屏蔽物能夠減小設(shè)備外部的輻射水平，但是使用外部屏蔽物具有ー些缺點。用戶可能把屏蔽物放錯位置或者從設(shè)備上拿開。一些屏蔽物設(shè)計笨重，會干擾設(shè)備的正常使用，特別是在測試較小試樣吋。可能難以將便攜式XRF設(shè)備放置為使試樣的期望區(qū)域受到照射。而且，屏蔽物通常會増加XRF設(shè)備的重量，對エ效因素造成負面影響，由于外部増加的屏蔽物通常位于手槍狀XRF設(shè)備的尾部，使得設(shè)備尾部沉而且不平衡。如果用戶在未安裝屏蔽物的情況下操作較高功率的XRF設(shè)備，用戶通常不知道自己是否暴露在最大允許輻射量中，而且也不知道自己的當前使用時間以及自己的當前使用時間和所允許的最大輻射量的關(guān)系。通常，在由XRF設(shè)備的使用地區(qū)的授權(quán)機構(gòu)所維護的規(guī)范內(nèi)規(guī)定最大允許福射量。特征是ー種XRF分析裝置，包括殼體，該殼體具有要導向至試樣的穿透輻射的源以及用于檢測來自試樣的熒光輻射的檢測器。屏蔽物連接到殼體以保護用戶免受輻射。安全聯(lián)鎖部用于檢測屏蔽物是否連接到殼體?？刂破鲗Π踩?lián)鎖部作出響應，用于監(jiān)測輻射源在屏蔽物未連接到殼體的情況下大于或等于預定功率水平(例如50keV)的使用，以及在監(jiān)測到的穿透輻射源在屏蔽物未連接到殼體的情況下的大于或等于預定功率水平的使用超過ー個或多個預定閾值時提供輸出信號。
在一個例子中，預定閾值是最大允許劑量的第一百分比(例如小于5%)。當監(jiān)測到的源的使用超過最大允許劑量的該第一百分比時，提供的輸出信號包括通知用戶監(jiān)測到的使用和最大允許劑量的百分比的第一通知或消息。另ー個預定閾值是最大允許劑量的第ニ百分比(例如小于15%)。當監(jiān)測到的源的使用超過該百分比時，提供的輸出信號用于提供第二通知給用戶。又一個預定閾值是最大允許劑量的第三百分比(例如50%或更低)，而且，當監(jiān)測到的源的使用超過最大允許劑量的該百分比時，提供的輸出信號用于禁止源在大于或等于預定功率水平的功率水平下工作直到屏蔽物連接到殼體為止。再ー預定閾值是最大允許劑量的第四百分比(例如約100%)，而且，當監(jiān)測到的源的使用超過最大允許劑量的該百分比時，輸出信號用于即便連接了屏蔽物也禁止源在任何功率水平下工作。安全聯(lián)鎖部可包括和屏蔽物關(guān)聯(lián)的電路，該電路在屏蔽物連接到殼體時提供信號給控制器。在一種實現(xiàn)方式中，屏蔽物上具有接觸部以和該電路通信，殼體包括用于傳送信號的接觸部。一種根據(jù)本發(fā)明的X射線分析方法，包括檢測X射線設(shè)備何時包括與之連接的屏 蔽物；確定X射線設(shè)備是否在未連接屏蔽物的情況下在等于或大于預定功率水平的功率水平下工作；監(jiān)測設(shè)備在未連接屏蔽物的情況下等于或大于預定功率水平的使用；以及當監(jiān)測到的設(shè)備在未連接屏蔽物的情況下的等于或大于預定功率水平的使用超過ー個或多個預定閾值時采取ー個或多個動作。在ー些方面中，本發(fā)明的一個優(yōu)選實現(xiàn)涉及用于檢測屏蔽物何時連接到手持式XRF設(shè)備的安全聯(lián)鎖部，如果沒有連接屏蔽物，則監(jiān)測使用時間，并在使用時間超過或達到最大允許輻射照射的預定百分比時采取動作。可基于具體的允許極限或工程政策在エ廠設(shè)定或者由管理人員來設(shè)定允許的照射水平和操作人員達到某個照射極限水平(即5%、10%、50%)時的警告。優(yōu)選地，改變該設(shè)定的訪問是受密碼保護的。然而，在其它實施例中，本發(fā)明不需實現(xiàn)所有這些目的，其權(quán)利要求不應限于能夠?qū)崿F(xiàn)這些目的的結(jié)構(gòu)和方法。


根據(jù)下文對優(yōu)選實施例的描述和附圖，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解其它目的、特征和益處，附圖中圖I是示出和根據(jù)本發(fā)明示例的XRF儀關(guān)聯(lián)的主要部件的示意圖；圖2是顯示和圖I所示控制器的處理關(guān)聯(lián)的主要步驟的流程圖；圖3是示出XRF儀以及要連接到該XRF儀的相應屏蔽物的示意正視圖；圖4是示出連接到XRF儀的屏蔽物的示意側(cè)視圖；以及圖5是示出屏蔽物如何與XRF儀之間機械耦合和電耦合的另ー示意側(cè)視圖。
具體實施例方式除了下文公開的優(yōu)選實施例外，本發(fā)明還可有其它實施例并可以各種方式實現(xiàn)和實行。因而，應該理解，本發(fā)明申請不限于下面說明書或附圖所闡述的結(jié)構(gòu)和構(gòu)件布局的細節(jié)。如果此處僅描述了一個實施例，那么，權(quán)利要求不限于該實施例。此外，除非有清楚可信的證據(jù)佐證某些排除、限制或權(quán)利放棄，不應限制性地解讀權(quán)利要求。
圖I示出X射線分析裝置的示例,該具體示例為手持式“敞束型”XRF儀10,該XRF儀10包括具有顯示屏14的槍形殼體12，殼體12內(nèi)包含X射線源16、檢測器18、用于分析檢測器18檢測到的輻射的數(shù)字信號處理子系統(tǒng)20及其它部件。敞束系統(tǒng)是主要射線束(primary beam)離開設(shè)備并照射在試樣上的系統(tǒng),試樣不在用于屏蔽的殼體內(nèi)。源16生成傳遞到試樣的(例如8keV-50keV之間的)X射線，檢測器18檢測來自試樣的熒光輻射以分析試樣的元素構(gòu)成。如處理器或微處理器的處理裝置22或者其它計算機化設(shè)備及其它設(shè)備控制源16的操作，并且把DSP 20分析的數(shù)據(jù)呈現(xiàn)在顯示屏14上。請注意，顯示屏14可以是用于傳遞數(shù)據(jù)的其它類型的指示裝置，如使用音頻消息的揚聲器或指示燈。XRF儀的適當示例為可從Olympus Innov-X(Woburn, MA)購得的XRF分析儀產(chǎn)品的Delta系列。如上所述，屏蔽物24連接到殼體12，以保護用戶免受輻射。本發(fā)明公開所用的“屏蔽物”一詞意在指代防止XRF儀的用戶免于暴露在“最大允許劑量”的輻射之中的設(shè)備。屏 蔽物的例子可以為例如鉛的X射線吸收材料，或者為保持用戶和X射線源之間的最小距離的偏移裝置。一方面，本發(fā)明的特征是用于檢測屏蔽物24何時連接到殼體12上的安全聯(lián)鎖部30?？刂破?2對安全聯(lián)鎖部30做出響應并用于監(jiān)測源16在安全聯(lián)鎖部30檢測到未連接屏蔽物24的情況下大于或等于預定功率水平(例如40keV或50keV)的使用。當監(jiān)測到的在未連接屏蔽物的情況下的預定功率水平的使用超過ー個或多個預定閾值時，控制器22還用于提供一個或多個輸出信號。所述輸出信號的功能可不同，從提供簡單消息或警告到中斷繼續(xù)以一個或多個功率水平甚至是所有功率水平使用儀器。觸發(fā)監(jiān)測功能的預定功率水平可以在エ廠設(shè)定、由監(jiān)管人員設(shè)定或者由用戶設(shè)定。預定閾值可依賴于允許的輻射極限，也可在エ廠設(shè)定、由監(jiān)管人員設(shè)定或者由用戶設(shè)定，在任何情況下，預定閾值的設(shè)定優(yōu)選需要密碼以防止未經(jīng)授權(quán)的訪問。在一個示例中，下表I列出控制器22針對50keV操作輸出的信號
監(jiān)測條件信號
使用時間大于或等于最消息推薦使用屏蔽物，并報告使用
_大允許劑量的2% _時間及最大允許劑量的百分比
使用時間大于或等于最消息稚薦使用屏蔽物，并提供表示大允許劑量的10%用戶已受到最大允許劑量的10%的
警告
使用時間大于或等于最禁止以50keV使用，并通知用戶
大允許劑量的20%__
使用時間大于或等于最禁止以所有功率水平使用大允許劑量I表I
通常，輻射水平不是由設(shè)備直接監(jiān)測的，而是基于在設(shè)備周圍的各個距離和位置測量的作為源功率水平的函數(shù)的已知輻射水平。因而，例如，采用每天8小時、每周5天、每年50周并因此每年總使用時間為2000小時的最大操作人員使用時間是保守的。軟件和處理器記錄在沒有屏蔽物的情況下設(shè)備的總使用時間，并乘以已知的輻射水平(通常單位為mrem/小時或uSv/小時),以確定任何特定時間的最大照射量。然后，可使用表I把基于最大照射水平的警告呈現(xiàn)給操作人員。這是基于處理器的系統(tǒng)這一事實提供了額外的益處和靈活性。對于其它的管功率水平，可以容易地根據(jù)測量值按比例得出輻射照射水平。處理器22和軟件可執(zhí)行該功能，以在任何時間都得到更好的照射估計，而不使用基于最大源功率的測量值。此外，由于共享 許多個便攜式XRF設(shè)備，所以可以跟蹤使用不同登錄名和密碼的多個操作人員。因而，在本例中，處理器22被編程為在圖2的步驟50檢測儀器是否以50keV操作，在檢測為是的情況下，在步驟52檢測是否存在屏蔽物。如果存在屏蔽物和/或操作低于50keV，那么在步驟54繼續(xù)正常操作。如果設(shè)備以50keV操作而且沒有屏蔽物，那么在步驟56監(jiān)測使用時間并將使用時間和ー個或多個極限進行比較。根據(jù)不同閾值可在步驟58把使用時間提供給用戶作為通知。在步驟60，如果使用時間大于或等于某個極限，那么在步驟62再次通知用戶和/或如上所述產(chǎn)生中斷功能以禁止50keV操作。在ー個具體示例中，表I的預定閾值是可變的，而且可在エ廠設(shè)定、由監(jiān)管人員設(shè)定或由用戶設(shè)定。這也適用于表I所列的百分比(例如2%、10%、20%等)。推薦第一通知百分比小于5%和第二通知百分比小于15%。在沒有屏蔽物的情況下，中斷50keV操作的百分比可設(shè)定為小于50%，中斷任何功率水平的操作可設(shè)定在最大允許使用的100%或接近100%。圖3-5示出ー個示例，其中，屏蔽物24包括電路(連接到陽引腳，圖5)，在陽引腳容納在圖4所示的殼體12中的陰插座22中吋，該電路向圖I的控制器22提供信號。當沒有屏蔽物吋，不向圖I的控制器22提供信號。存在附加I2C模塊以及建立在標識寄存器中的鑰匙用于提醒控制器軟件存在另外的屏蔽物，因而啟動50keV模式是安全的。圖5中的引腳(如pogo引腳)70與設(shè)備的示為圖4中72的主外部接ロ建立電連接。也可使用其它導電連接。I2C硅序列號芯片指示防護到位。要注意，可使用許多種技術(shù)來檢測屏蔽物24的存在，如嵌入式霍爾效應或者光學傳感器。此外，無意將存在檢測系統(tǒng)的電接ロ限制于示例I2C模塊。屏蔽或防護也可存在于測試臺或工作站上，因而，圖中所示屏蔽物不是對本發(fā)明的必要限定。在這種情況下，本發(fā)明確定設(shè)備是否位于(包括屏蔽物的)測試臺或工作站上。在一優(yōu)選實施例中，運行在控制器22上的軟件的功能指標如下。在エ廠，用戶接ロ允許技術(shù)人員修改如下的屏蔽選項a)總是要求在連接到工作站的情況下操作儀器，b)總是要求存在屏蔽或工作站，或者c)監(jiān)測使用并提供警告(如上所述)。通常缺省設(shè)置總是要求屏蔽。用戶菜單允許標示為“允許水平”的選項，該選項有兩個可設(shè)置參數(shù)最大允許劑量和単位(mSv或mR)。如果用戶改變單位，則彈出如下內(nèi)容的警告對話框，“請確認使用所選單位的最大劑量輸入是正確的(ImSv=IOOmR)'軟件以秒為單位計算并存儲達到預定總照射時間極限所需的時間，在本示例中為每年的預定總照射時間。假定最大劑量為15mR/小時或者O. 15mSV/小時，那么，時間極限(秒)=最大允許劑量X 240 (最大允許劑量單位為mR)
(I)或者時間極限(秒)=最大允許劑量X 24000 (最大允許劑量單位為mSv)(2)軟件以秒為單位記錄分析儀在不使用屏蔽物的情況下以50keV操作的時間量并對一天之中的使用時間求和。優(yōu)選軟件通常至少保持一年中的毎日使用總和的単獨數(shù)據(jù)并存儲流水的年使用時間，年使用時間是上一日歷年的任一日使用(使用時間)總和。優(yōu)選 地，每次讀數(shù)使用實際經(jīng)過的時間，然而，在測試開始之前存儲最長測試(使用)時間并假定所有測試持續(xù)最長時間要簡單的多。如果選擇了總是要求工作站或者總是要求探測器屏蔽選項，除非分析儀連接到手部屏蔽物或者工作站，否則將禁止50keV操作。如果選擇了監(jiān)測使用選項，軟件將檢查用以與時間極限相比的使用時間并根據(jù)下述的監(jiān)測和通知過程提供操作。在任何50keV測試開始時，軟件比較使用時間和時間極限。如果使用時間大于或等于時間極限的2%，毎次校準檢查后顯示下面消息“根據(jù)您在50keV射線束設(shè)定下的XRF使用，您的手可能已受到等于您年允許劑量2%的最大輻射照射。我們建議繼續(xù)操作時使用探測器屏蔽物”。用戶在繼續(xù)測試之前必須先處理掉該消息。如果使用時間大于或等于時間極限的10%，校準檢查后顯示下面消息“根據(jù)您在50keV射線束設(shè)定下的XRF使用，您的手可能已受到等于您年允許劑量10%的最大輻射照射。按當?shù)鼗驀乙?guī)章，在這種情況下可要求您監(jiān)測并記錄您的劑量。我們建議繼續(xù)操作時進行放射量測定。我們還建議使用探測器屏蔽物”。同樣地，用戶在繼續(xù)測試之前必須先處理掉該消息。如果使用時間大于或等于時間極限的20%，除非安裝了手部屏蔽物或者工作站，否則不允許50keV操作。毎次試圖進行50keV測試時會顯示下面消息“根據(jù)您在50keV射線束設(shè)定下的XRF使用，您的手可能已受到等于您年允許劑量20%的最大輻射照射。不使用手部屏蔽物或者不在工作站內(nèi)，該設(shè)備不能以50keV操作。請連接手部屏蔽物或者聯(lián)系エ廠以獲得更多信息”。用戶可以清除該消息，但是，毎次用戶試圖不使用手部屏蔽物開始測試時該消息都會再次出現(xiàn)。如果用戶然后以40keV操作設(shè)備，可能顯示下面消息“根據(jù)您在50keV射線束設(shè)定下的XRF使用，您的手可能已受到等于您年允許劑量20%的最大輻射照射。繼續(xù)以40keV模式操作將需要放射量測定”。用戶必須清除該消息才能繼續(xù)以40keV進行測試。如果使用時間大于或等于時間極限，不允許開始測試。因而，無論所選功率水平如何，設(shè)備都不能操作。對于每次測試嘗試，顯示下面消息“根據(jù)您在50keV射線束設(shè)定下的XRF使用，您的手可能已受到等于您年允許劑量的最大輻射照射，不建議在工作站之外進行操作”。雖然本發(fā)明的具體特征顯示在一些附圖中，而其它附圖未顯示這些特征，這僅為便利之需，每個特征可以和根據(jù)本發(fā)明的任何其它特征或所有其它特征組合。此處使用的“包括”、“具有”和“帶有”這些詞應做寬泛全面解釋，不限于任何物理互聯(lián)。此外，本發(fā)明申請所公開的任何實施例都不應視為僅有的可能實施例。此外，本專利申請?zhí)幚磉^程中對本專利所進行的任何修改不是對申請時提交的本發(fā)明中的任何權(quán)利要求元素的權(quán)利放棄，這是由于，要求本領(lǐng)域技術(shù)人員寫出字面上包括所有可能等同替換的權(quán)利要求是不合情理的，進行修改時是不能預見到很多等同替換的，因而這些等同替換是超越對要放棄(如需放棄的話)的權(quán)利的公平闡釋的，修改所基于的解釋可能僅和許多等同替換稍有關(guān)聯(lián)，并且/或者有許多其它原因使得不能期望申請人描 述所修改的權(quán)利要求元素的非實質(zhì)性替代。本領(lǐng)域技術(shù)人員可想到其它實施例，這些實施例包括在下面權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種XRF分析裝置，包括 殼體，包括 要導向至試樣的穿透輻射的源，以及 用于檢測來自所述試樣的熒光輻射的檢測器； 屏蔽物，能夠連接到所述殼體以保護用戶免受輻射； 安全聯(lián)鎖部，用于檢測所述屏蔽物何時連接到所述殼體；以及 控制器，對所述安全聯(lián)鎖部作出響應，用于 監(jiān)測所述穿透輻射的源在所述屏蔽物未連接到所述殼體的情況下的大于或等于預定功率水平的使用；以及 在監(jiān)測到的所述穿透輻射的源在所述屏蔽物未連接到所述殼體的情況下的大于或等于所述預定功率水平的使用超過一個或多個預定閾值時，提供輸出信號。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的XRF分析裝置，其中，所述預定閾值包括最大允許劑量的第一百分比，而且，當監(jiān)測到的所述源的使用超過最大允許劑量的所述第一百分比時，所提供的輸出信號包括將監(jiān)測到的使用和最大允許劑量的該百分比通知給用戶的第一通知。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的XRF分析裝置，其中，所述第一百分比小于5%。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的XRF分析裝置，其中，所述預定閾值包括最大允許劑量的第二百分比，而且，當監(jiān)測到的所述源的使用超過最大允許劑量的所述第二百分比時，所提供的輸出信號包括將監(jiān)測到的使用和最大允許劑量的該百分比通知給用戶的第二通知。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的XRF分析裝置，其中，所述第二百分比小于或等于15%。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的XRF分析裝置，其中，所述預定閾值包括最大允許劑量的第三百分比，而且，當監(jiān)測到的所述源的使用超過最大允許劑量的所述第三百分比時，所提供的輸出信號用于禁止所述源在大于或等于所述預定功率水平的功率水平下工作直到所述屏蔽物連接到所述殼體為止。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的XRF分析裝置，其中，所述第三百分比小于或等于50%。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的XRF分析裝置，其中，所述預定閾值包括最大允許劑量的第四百分比，而且，當監(jiān)測到的所述源的使用超過最大允許劑量的所述第四百分比時，所提供的輸出信號用于即便連接了所述屏蔽物也禁止所述源在任何功率水平下工作。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的XRF分析裝置，其中，所述第四百分比在50%和100%之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的XRF分析裝置，其中，所述預定功率水平是50keV。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的XRF分析裝置，其中，所述安全聯(lián)鎖部包括與所述屏蔽物關(guān)聯(lián)的電路，所述電路在所述屏蔽物連接到所述殼體時提供信號給所述控制器。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的XRF分析裝置，其中，所述安全聯(lián)鎖部還包括所述屏蔽物上的用于和所述電路通信的導電接觸部，所述殼體包括用于傳送所述信號的導電接觸部。
13.—種X射線分析方法，包括 檢測X射線設(shè)備何時連接有屏蔽物； 確定所述X射線設(shè)備是否在未連接所述屏蔽物的情況下以等于或大于預定功率水平的功率水平工作； 監(jiān)測所述設(shè)備在未連接所述屏蔽物的情況下的等于或大于所述預定功率水平的使用；以及當監(jiān)測到的所述設(shè)備在未連接所述屏蔽物的情況下的使用超過一個或多個預定閾值時，采取一個或多個動作。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線分析方法，其中，所述預定閾值之一是最大允許劑量的第一百分比，而且，當監(jiān)測到的所述設(shè)備的使用超過最大允許劑量的所述第一百分比時，所述動作包括提供通知給用戶。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的X射線分析方法，其中，所述第一百分比小于5%。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線分析方法，其中，所述預定閾值之一是最大允許劑量的第二百分比，而且，當監(jiān)測到的所述設(shè)備的使用超過最大允許劑量的所述第二百分比時，所述動作包括提供第二通知給用戶以將監(jiān)測到的使用和最大允許劑量的該百分比通知給用戶。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的X射線分析方法，其中，所述第二百分比小于或等于15%。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線分析方法，其中，所述預定閾值之一是最大允許劑量的第三百分比，而且，當監(jiān)測到的所述設(shè)備的使用超過最大允許劑量的所述第三百分比時，所述動作是禁止所述設(shè)備在等于或大于所述預定功率水平的功率水平下工作直到所述屏蔽物連接到所述設(shè)備為止。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的X射線分析方法，其中，所述第三百分比小于或等于50%。
20.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線分析方法，其中，所述預定閾值之一是最大允許劑量的第四百分比，而且，當監(jiān)測到的所述設(shè)備的使用超過最大允許劑量的所述第四百分比時，所述動作是即便連接了所述屏蔽物也禁止所述設(shè)備在任何功率水平下工作。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的X射線分析方法，其中，所述第四百分比小于或等于100%。
22.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線分析方法，其中，所述預定功率水平是50keV。
23.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線分析方法，其中，檢測所述X射線設(shè)備何時連接有所述屏蔽物包括在所述屏蔽物連接到所述設(shè)備時，所述屏蔽物提供信號給所述設(shè)備。
全文摘要
一種XRF分析裝置和X射線分析方法，包括殼體，該殼體具有要導向至試樣的穿透輻射的源以及用于檢測來自試樣的熒光輻射的檢測器。屏蔽物能夠連接到殼體以保護用戶免受輻射，以及安全聯(lián)鎖部用于檢測屏蔽物是否連接到殼體?？刂破鲗Π踩?lián)鎖部作出響應，用于監(jiān)測輻射源在屏蔽物未連接到殼體情況下大于或等于預定功率水平的使用，以及在監(jiān)測到的穿透輻射源在屏蔽物未連接到殼體的情況下的大于或等于預定功率水平的使用超過一個或多個預定閾值時提供輸出信號。
文檔編號G01N23/223GK102854209SQ20121019001
公開日2013年1月2日 申請日期2012年6月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月1日
發(fā)明者唐·薩基特 申請人:奧林巴斯Ndt公司